本发明专利技术提供了一种高透光率玻璃的显示器保护屏，包括透明玻璃基片，在基片两面采用真空磁控溅射方法，依次沉积ＴｉＯ↓［２］和ＳｉＯ↓［２］、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］和ＳｉＯ↓［２］二层增透减反射的镀膜层，或依次重叠沉积ＴｉＯ↓［２］和ＳｉＯ↓［２］、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］和ＳｉＯ↓［２］多层增透减反射的镀膜层，它们由基片向外依次形成ＴｉＯ↓［２］层和ＳｉＯ↓［２］层二层镀膜层、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］层和ＳｉＯ↓［２］层二层镀膜层、或ＴｉＯ↓［２］层和ＳｉＯ↓［２］层的多层重叠镀膜层、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］层和ＳｉＯ↓［２］层的多层重叠镀膜层。本发明专利技术保护屏能降低反射率，提高透光率、光学图象的效果，大大降低成本，充分提高显示屏的抗冲击破坏能力，成为安全保护屏。本发明专利技术还提供了使用玻璃的显示器保护屏的液晶显示器。
【技术实现步骤摘要】
高透光率玻璃的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器
-本专利技术与液晶显示器(LCD)保护屏有关，特别与液晶显示器面板前粘贴和 组装的防止显示屏面板光反射、提高液晶显示屏光透过率并对显示屏起保护作用 的高透光率玻璃的显示器保护屏及使用该保护屏的液晶显示器有关。
技术介绍
从液晶显示器(以下称LCD)的工作原理得知，LCD器件是由背光与发出 的光通过偏振片和液晶盒时，控制投射强度识别图像的器件，也就是LCD的亮度 取决于通过液晶盒(LCD屏的透光率)和彩膜CF光亮(CF的透光率)及背光源 的亮度。因此，提高LCD表面亮度和节约背光源功率同时提高背光源亮度主要从 以下几方面着手 一是提高背光源亮度，二是提高TFT像素的开口率，三是提高 所有材料的亮度，也即尽量增加材料的透光率，提高背光源亮度目前主要釆用棱 镜增亮膜和采用新型灯光源以及提高反射能力来增加发射亮度；提高所有材料的 亮度来提高LCD表面亮度也是一个重要的渠道，特别是显示屏最前面的保护屏或 保护膜的透光率的提高。LCD显示屏最前面的保护屏或保护膜目前主要釆用亚克 力片(PMMA树脂片)或聚酯膜片(BOPET膜片)。因为树脂片虽材料透光率可 高达90%且表面光亮，但反射率单面达4%以上，双面叠加可达8%以上，且不耐 划伤，所以目前都在树脂片的表面做防眩处理，将光反射率可降到1%以下，且表 面可耐铅笔试验硬度2H以上的划伤。由于防眩处理是将树脂光亮反射表面处理 为光散射表面来降低光反射率，因此得到的保护屏和保护膜实际可见光透过率己 不再是90%以上，多数都降到80%左右甚至更低，将背光源发射的亮度通过各,种 措施和成本支出提高，最后在显示屏前呈现仅有总体透过率的百分之几至百分之 十，却因保护屏或保护膜为了防眩防反射又将这个透光率打了近20%甚至更多的 折扣(因其材料仅有80%甚至更低的透过滤)。因此，在减少面板及保护屏的反射 率，增加表面硬度抗划伤但又要提高保护屏或保护膜的透光率及对显示屏的物理 及机械保护性能一直是大家的追求。特别是采用何种技术方案来降低保护屏材料 的表面反射率一直以来有多种方案不断涌现，有在树脂层表面利用溶胶——凝胶 法沉积Ti02或Nb2(VSi02增透减反膜层的，也有利用表面浸涂有机硅减反增透层 的，但由于膜厚不易控制，透光率仅能达92%左右，且成品率不高，表面易出现 彩虹，至今保护屏或保护膜还没有发生根本变化，特别是反射率小于1%、透光率大于93%、更优化达到97%以上的工业化成本低的实用技术及保护屏材料还没出现。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服以上不足，提供一种能提高显示器亮度、减少观看 面光反射率、保护显示器不受划伤和抗损坏、同时采用低成本高效率的镀膜技术 及膜系生产的高透光率的玻璃保护屏。本专利技术的另一个目的是为了提供一种使用 该保护屏的液晶显示器。本专利技术的目的是这样实现的-本专利技术高透光率玻璃的显示器保护屏，包括透明玻璃基片，在基片两面采用 真空磁控溅射方法，依次沉积Ti02和Si02、或NW)s和Si02二层增透减反射的镀 膜层，或依次重叠沉积Ti02和SiO"或NW)5和Si02多层增透减反射的镀膜层， 它们由基片向外依次形成Ti02层和Si02层二层镀膜层、或,205层和Si02层二层 镀膜层、或Ti02层和Si02层的多层重叠镀膜层、或NbA层和Si02层的多层重叠 镀膜层。高透光率的液晶显示器(LCD)保护屏，采用透明玻璃基片，特别是钢 化玻璃基片增加了显示器的光亮度，使图像更晶莹剔透，采用真空磁控溅射方法 镀Ti02或Nb》5和SiO"更特别是用中频孪生反应磁控溅射等离子监测在线闭环 控制装置(PEM系统)溅射Ti(X或NW^和Si02有比一般磁控溅射高几倍的沉 积速率，得到低成本的镀膜层和优化的高折射率/低折射率材料的膜系或膜堆，使 基片上获得增透减反效果明显、沉积效率高、质量好、附着力强、抗划伤的膜层， 由于选用这种膜系及膜堆，使设备生产专业化并能容易制作四层或六层Ti02或 Nb2(^和SiO,的增透膜层。用重复或往返的方式即可在不更换材料和靶位情况下 完成四至六层的膜堆镀膜，相应的比其它增透减反射膜系更加经济，生产效率更 高，成本更低。使保护屏由较低的生产成本得以大量在LCD显示器上应用。上述的高透光率的玻璃保护屏，基片两面镀膜层分别为二层，其厚度范围是 Ti02或Nb^)s为5ntn至20nm， SiC^为70 nm至140nm。采用此厚度在基片两面 镀Ti02或Nb205/Si02,可得到透光率大于94% (更好可达95%)、双面叠加反射 率小于2%的保护屏。上述的髙透光率玻璃的显示器保护屏，基片两面镀膜层中至少一面镀膜层为 四层膜层，其膜厚范围由玻璃基片向外依次是Ti02或Nb20s为5nm至18mn， Si02 为20nm至50nm， TiOa或1^>205为20nm至50nm， SiC^为70腿至140nm。采用 此厚度在基片两面镀四层，透光率大于97%，更好可达98%，双面叠加反射率小 于2%,更好低于1%。上述的高透光率玻璃的显示器保护屏，基片两面镀膜层中至少一面镀膜层为 六层，它们是镀在透明玻璃基片上的第一层Ti02或Nb20"第二层Si02、第三层Ti(X,或Nb20;、第四层SiO"第五层Ti02或Nb205、第六层Si02,膜层厚度范围 由玻璃基片向外依次是Ti02或Nb20,为1.5nm至6nm，Si02为25nm至45nm，Ti02 或Nb205为8nm至15nm, Si02为40 nm至60nm， TiOa或Nb2Q,为12nm至20nm， SiO2为80nm至140nm。采用此厚度在基片两面镀六层，透光率大于98%，更好 可达99%，双面叠加反射率小于1%。上述的髙透光率玻璃的显示器保护屏，保护屏至少一面具有防静电功能，用 表面电阻测试仪器在其表面测量其表面电阻小于10'2q,在防静电一面的靠近玻 璃基片这一面的TiO,或Nb205与玻璃基片之间用真空磁控溅射方法沉积一层二氧 化锡(SnO》或掺锡氧化铟(ITO)或掺铝氧化锌(AZO)的抗静电半导体膜层， 镀膜层为5层，它们是防静电的半导体膜层/ Ti02或Nb2CySiO/n02或Nb20;/ Si02, 膜层厚度依次为半导体膜为8nm至28nm， 1102或Nb.,a为5nm至18nm, Si02 为20nm至50nm， Ti02或>^205为20歸至50腿，Si02为70 nm至140腦。采 用此膜系在基片一面镀五层，另一面镀四层增透减反膜层，透光率可达96%，双 面叠加反射率小于1.5%,也可根据需要在两面都镀五层，两面都具抗静电功能。上述的高透光率玻璃的显示器保护屏，保护屏至少一面具有防静电功能，用 表面电阻测试仪器在其表面测量其表面电阻小于10'2q，在防静电一面的靠近玻 璃基片这一面的Ti02或Nb205与玻璃基片之间用真空磁控溅射方法沉积一层二氧 化锡(Sn02)或掺锡氧化铟(ITO)或掺铝氧化锌(AZO)的抗静电半导体膜层， 镀膜层为7层，它们是防静电的半导体膜层/Ti02或Nb205/SiO/Ti02或Nb205/ SiO/Ti02或Nb2(VSi02，优选的膜层厚度依次为半导体膜本文档来自技高网...
【技术保护点】
高透光率玻璃的显示器保护屏，包括透明玻璃基片，其特征在于在基片两面采用真空磁控溅射方法，依次沉积ＴｉＯ↓［２］和ＳｉＯ↓［２］、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］和ＳｉＯ↓［２］二层增透减反射的镀膜层，或依次重叠沉积ＴｉＯ↓［２］和ＳｉＯ↓［２］、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］和ＳｉＯ↓［２］多层增透减反射的镀膜层，它们由基片向外依次形成ＴｉＯ↓［２］层和ＳｉＯ↓［２］层二层镀膜层、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］层和ＳｉＯ↓［２］层二层镀膜层、或ＴｉＯ↓［２］层和ＳｉＯ↓［２］层的多层重叠镀膜层、或Ｎｂ↓［２］Ｏ↓［５］层和ＳｉＯ↓［２］层的多层重叠镀膜层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：甘国工，
申请(专利权)人：甘国工，
类型：发明
国别省市：90[中国|成都]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。