【技术实现步骤摘要】
一种组合式PVD镀膜靶材及PVD镀膜机
本技术涉及一种组合式PVD镀膜靶材及PVD镀膜机。
技术介绍
物理气相沉积(PVD)技术，即在真空条件下，采用物理方法，将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜，还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。物理气相沉积技术工艺具有过程简单、对环境无污染、耗材少、成膜均匀致密，与基体的结合力强等优点，被广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。PVD技术可以制造多种膜层，而在制备不同膜层时，需要不同材质的靶材，因此，需要经常更换靶材，对于脆性材质的靶材，例如，纯金属圆形铬靶，在装配和使用的过程中，与镀膜机安装配合的部位存在容易断裂的问题，会影响成膜质量、生产效率和成本。有鉴于此，特提出本申请。
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种组合式PVD镀膜靶材，其特征在于，包括材质不同的靶材本体和底座，所述靶材本体与所述底座分体设置，所述底座的第一端与所述靶材本体的一端连接，将所述底座与所述靶材本体组合为一体；/n所述底座的第一端与所述靶材本体的一端螺纹连接、套合连接或卡合连接；/n所述底座包括底座本体和第二装配台阶，所述第二装配台阶自所述底座本体沿其轴向延伸；/n所述第二装配台阶的中央部位设有凹槽，所述靶材本体的一端设于所述凹槽的内部。/n
【技术特征摘要】
1.一种组合式PVD镀膜靶材，其特征在于，包括材质不同的靶材本体和底座，所述靶材本体与所述底座分体设置，所述底座的第一端与所述靶材本体的一端连接，将所述底座与所述靶材本体组合为一体；
所述底座的第一端与所述靶材本体的一端螺纹连接、套合连接或卡合连接；
所述底座包括底座本体和第二装配台阶，所述第二装配台阶自所述底座本体沿其轴向延伸；
所述第二装配台阶的中央部位设有凹槽，所述靶材本体的一端设于所述凹槽的内部。
2.根据权利要求1所述的组合式PVD镀膜靶材，其特征在于，所述底座还包括第一装配台阶，所述第一装配台阶自所述底座本体沿其径向延伸，所述第二装配台阶设于所述第一装配台阶的内周。
3.根据权利要求2所述的组合式PVD镀膜靶材，其特征在于，沿所述底座本体的轴向，所述第一装配台阶的高度与所述底座本体的高度相同，并低于所述第二装配台阶的高度；所述凹槽的内部...
【专利技术属性】
技术研发人员：张凤戈，岳万祥，魏铁峰，缪磊，高众，姚伟，
申请(专利权)人：北京安泰六九新材料科技有限公司，涿州安泰六九新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。