【技术实现步骤摘要】
一种CrW合金靶材及其制备方法
[0001]本专利技术属于硬质涂层
,具体涉及一种CrW合金靶材及其制备方法。
技术介绍
[0002]CrW靶材的应用领域越来越广泛,现有靶材制备工艺主要有两种,一种是通过热压烧结制备,长时间的高温高压下铬钨发生合金化反应,制得的靶材较硬较脆,不利于后序机加工;另外一种是高能球磨制得预合金粉,经脱气热等静压处理制得靶材,该工序繁琐,高能球磨成本较高,不利于工业化生产。
[0003]另外,CrW靶材随着W元素比例的增加,材质变得越硬、越脆,加工产品的形状受到限制,机加工难度及成本大大增加。目前通过热压及高能球磨工艺制备的CrW靶材,其W元素比例一般小于20%原子比,如授权号为CN105345007B的专利技术专利获得的铬钨合金靶材,其中原子百分比铬80~99%,钨1~20%。但是20%原子比W元素的CrW靶材已不能满足广泛应用的需要。
技术实现思路
[0004]为解决上述问题,本专利技术目的是提供一种CrW合金靶材及其制备方法。本专利技术通过优化粉末粒度和成型工艺制 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种CrW合金靶材的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:S1.将Cr粉以及W粉按既定比例混合均匀,其中,所述既定比例中的W元素原子比例为5~50%,Cr粉粒度小于30μm;S2.将混合后的粉末装入包套模具中进行脱气处理;S3.将脱气处理后的包套进行热等静压成型处理;S4.将热等静压成型处理后的坯料去除包套,然后将其切割成相应尺寸大小的靶片,将靶片两端面进行磨加工处理;S5.对磨加工处理后的靶片两端面进行喷砂处理;S6.将喷砂处理后的靶片两端面进行电镀处理;S7.将电镀处理后的靶片与相同大小的合金背板叠放在一起装入包套模具中进行脱气处理;S8.将脱气处理后的包套进行扩散焊接处理;S9.将扩散焊接处理后的靶片去除包套,然后加工至所需形状的靶材,即得带背板的CrW合金靶材。2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤S1中,所述W粉的粒度为10
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30μm。3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤S1中,所述既定比例中的W元素原子比例为20~50%。4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤S3中,所述热等静压成型处...
【专利技术属性】
技术研发人员:张凤戈,岳万祥,魏铁峰,张欠男,施政,姚伟,
申请(专利权)人:北京安泰六九新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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