【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积装置、方法及显示装置
本申请涉及显示
，具体涉及一种气相沉积装置、方法及显示装置。
技术介绍
现有技术的气相沉积设备在成膜时，普遍存在整面成膜均匀性较差的情况，而膜层的均匀性差将会严重影响显示面板的显示质量，当前行业中也存在一些改善成膜均匀性的方法，但是，这些方法都不是很理想。因此，提供一种能够改善成膜均匀性，提升显示面板质量的气相沉积装置，成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本申请实施例提供一种气相沉积装置、方法及显示装置，能够改善成膜均匀性。本申请实施例提供一种气相沉积装置，包括：基板，所述基板中设置有绝缘隔离板，所述绝缘隔离板将所述基板分割为至少两个沉积区域，各个所述沉积区域的基板独立的连接射频电源，各个所述射频电源可分别调节电流大小。在一些实施例中，所述沉积区域阵列排布，所述沉积区域为长方形、正方形中其中一种。在一些实施例中，所述绝缘隔离板包括第一隔离板、第二隔离板、第三隔离板以及第四隔离板，所述第一隔离板和第二隔离板平行...
【技术保护点】
1.一种气相沉积装置，其特征在于，包括：基板，所述基板中设置有绝缘隔离板，所述绝缘隔离板将所述基板分割为至少两个沉积区域，各个所述沉积区域的基板独立的连接射频电源，各个所述射频电源可分别调节电流大小。/n
【技术特征摘要】
1.一种气相沉积装置，其特征在于，包括：基板，所述基板中设置有绝缘隔离板，所述绝缘隔离板将所述基板分割为至少两个沉积区域，各个所述沉积区域的基板独立的连接射频电源，各个所述射频电源可分别调节电流大小。
2.根据权利要求1所述的气相沉积装置，其特征在于，所述沉积区域阵列排布，所述沉积区域为长方形、正方形中其中一种。
3.根据权利要求2所述的气相沉积装置，其特征在于，所述绝缘隔离板包括第一隔离板、第二隔离板、第三隔离板以及第四隔离板，所述第一隔离板和第二隔离板平行设置，所述第三隔离板和第四隔离板垂直于所述第一隔离板和第二隔离板，且平行设置，所述第一隔离板、第二隔离板、第三隔离板以及第四隔离板将所述基板分割为九个沉积区域。
4.根据权利要求1所述的气相沉积装置，其特征在于，所述隔离板包括第五隔离板和第六隔离板，所述第五隔离板和...
【专利技术属性】
技术研发人员：邓永，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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