【技术实现步骤摘要】
一种碳化硅晶片化学机械抛光后表面保护方法
本专利技术属于碳化硅晶片表面保护
,具体涉及一种碳化硅晶片机械抛光后表面保护方法。
技术介绍
较第一、二代半导体,碳化硅具有禁带宽度大、载流子饱和迁移速度高,热导率高、临界击穿场强高等诸多优异性质。基于这些优良的特性,碳化硅材料是制备高温电子器件、高频大功率器件的理想材料。由于碳化硅的PVT生长方式特殊,生长出来单晶体呈现不规则圆饼状,造成加工困难。碳化硅晶体衬底加工方式有很多,但是流程都是基本都分为以下4步:晶体加工—多线切割—晶片研磨抛光—清洗包装。碳化硅单晶莫氏硬度极高达到9.2以上,只略低于金刚石,硬度高脆性大所以造成碳化硅衬底加工极为困难,而且碳化硅衬底片加工片型指标非常多,相互制约造成加工比较困难。碳化硅晶片经化学机械抛光后表面形成一层氧化膜,硬度低,转移以及检测过程中表面极易被破坏,比如硬质颗粒划伤,影响产品的一次合格率,增加加工成本;表面杂质经氧化膜包裹,增大后期清洗的难度。并且,现有的加工完成后的碳化硅晶片,大多采用纯水长时间浸泡,在浸泡过程中还得避免接触晶片表面。在晶片检测时需要晶片表面干燥,而现有的基本上采用人工手动操作,要想保证完好的晶片表面对于操作手法极其严格,且效率低下。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术的不足,提出了一种碳化硅晶片化学机械抛光后表面保护方法,所述方法包括如下步骤:1)将多线切割后的晶片进行机械加工处理,2)将氢氟酸溶液稀释到0.01%-20%浓度后备用,3)将所 ...
【技术保护点】
1.一种碳化硅晶片化学机械抛光后表面保护方法,其特征在于,所述方法包括如下步/n骤:/n1)将多线切割后的晶片进行机械加工处理,/n2)将氢氟酸溶液稀释到0.01%-20%浓度后备用,/n3)将所述步骤1)中加工处理后的晶片放置于稀释后的氢氟酸溶液中,静置10s-30min,/n4)将所述步骤3)中静置完成后的晶片取出用纯水彻底冲洗,/n5)将冲洗后的晶片进行干燥处理后将其转移至检测台进行检测。/n
【技术特征摘要】
1.一种碳化硅晶片化学机械抛光后表面保护方法,其特征在于,所述方法包括如下步
骤:
1)将多线切割后的晶片进行机械加工处理,
2)将氢氟酸溶液稀释到0.01%-20%浓度后备用,
3)将所述步骤1)中加工处理后的晶片放置于稀释后的氢氟酸溶液中,静置10s-30min,
4)将所述步骤3)中静置完成后的晶片取出用纯水彻底冲洗,
5)将冲洗后的晶片进行干燥处理后将其转移至检测台进行检测。
2.根据权利要求1所述的碳化硅化学机械抛光后表面保护方法,其特性在于,所述晶
片为碳化硅晶片。
3.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:崔景光,李永超,高彦静,曹宝红,李琦,
申请(专利权)人:河北同光科技发展有限公司,
类型:发明
国别省市:河北;13
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