【技术实现步骤摘要】
膜去除方法、基板处理方法和基板处理装置相关申请的交叉引用本申请要求于2019年4月30日提交的、申请号为10-2019-0050471的韩国专利申请的优先权和权益，其全部内容通过引用结合在本申请中。
本文描述的专利技术构思的实施方式涉及一种膜去除方法、基板处理方法和基板处理装置。
技术介绍
在例如用于制造基板(例如半导体晶圆或平板显示器)的玻璃面板的处理过程中，执行各种工艺，例如施加、拍摄、沉积、灰化、蚀刻和离子注入。当执行处理基板的工艺时，固化的薄膜涂覆或沉积在基板的表面上。此外，需要边缘珠粒去除工艺(edgebeadremovingprocess)来增加基板边缘的生产出品率(yield)。边缘珠粒去除工艺从基板的边缘区域移除不想要的薄膜和附着的副产物聚合物。图1为示出在常规的基板处理装置(substratetreatingapparatus)中执行边缘珠粒去除工艺的视图。参照图1，常规的基板处理装置1具有旋转卡盘2和喷嘴4。旋转卡盘2支承并旋转基板W。喷嘴4在基板W的边缘区域上喷射化学品C。各喷嘴...
【技术保护点】
1.一种通过将多个单位脉冲激光束照射到基板的边缘区域以从所述基板去除膜的方法，所述方法包括：/n第一照射操作，其用于在所述基板旋转的情况下，将所述多个单位脉冲激光束照射到所述基板；和/n第二照射操作，其用于将所述多个单位脉冲激光束照射到所述基板的、在所述第一照射操作中没有照射所述单位脉冲激光束的区域。/n
【技术特征摘要】
20190430 KR 10-2019-00504711.一种通过将多个单位脉冲激光束照射到基板的边缘区域以从所述基板去除膜的方法，所述方法包括：
第一照射操作，其用于在所述基板旋转的情况下，将所述多个单位脉冲激光束照射到所述基板；和
第二照射操作，其用于将所述多个单位脉冲激光束照射到所述基板的、在所述第一照射操作中没有照射所述单位脉冲激光束的区域。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，依次执行所述第一照射操作和所述第二照射操作，且
其中，当在所述第一照射操作完成之后、经过预设时间时，执行所述第二照射操作。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，各单位脉冲激光束的波长低于烧蚀阈值，在所述烧蚀阈值处，在所述膜中发生烧蚀。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，各单位脉冲激光束具有150纳米至1200纳米的波长。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述第一照射操作包括：
在所述基板旋转的情况下，在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的圆周方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束；和
在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的径向方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述第二照射操作包括：
在所述基板旋转的情况下，在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的圆周方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束；和
在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的径向方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束。
7.一种处理基板的方法，所述方法包括：
第一照射操作，其用于在所述基板旋转的情况下，将多个单位脉冲激光束照射到所述基板，从而处理所述基板；和
第二照射操作，其用于在所述基板旋转的情况下，将所述多个单位脉冲激光束照射到所述基板，
其中，在所述第一照射操作中，设置各单位脉冲激光束的脉冲宽度，使得所述基板的、分别照射所述单位脉冲激光束的区域彼此不重叠，
其中，在所述第二照射操作中，所述单位脉冲激光束分别照射到所述第一照射操作中分别接收所述单位脉冲激光束的区域中的相邻区域之间的区域上。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一照射操作包括：
在所述基板旋转的情况下，在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的圆周方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束；和
在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的径向方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第二照射操作包括：
在所述基板旋转的情况下，在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的圆周方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束；和
在所述单位脉冲激光束的照射位置沿所述基板的径向方向位移的情况下，照射所述单位脉冲激光束。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中，...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴修永，权五烈，安俊建，李廷焕，李成洙，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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