一种气体净化结构制造技术

一种气体净化结构，连接工艺炉管的排气口，用于处理工艺炉管内排出的气体，包括冷凝装置和过滤装置，冷凝装置被配置为用于连接净化进气部分，冷凝装置连接过滤装置，过滤装置配置为用于连接净化出气部分，进入气体净化结构内的气体先经过冷凝装置后经过过滤装置；本实用新型专利技术的气体净化结构无需人工控制，真空计能自动监控炉管内真空数值并控制真空泵启停；特氟龙卡套接头能保证接口处的密封性能同时连接方便拆装清洗，保证工作时管道的密封性且降低定期维护时管道的维护难度；特氟水管能够耐高温和耐尾排气体腐蚀，使本实用新型专利技术的气体净化结构使用寿命更久。

【技术实现步骤摘要】
一种气体净化结构
本技术涉及气体处理
，尤其涉及用于一种气体净化结构。
技术介绍
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是其中的一种处理方式，其中CVD即化学气相沉积，CVD技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工，常见的加工设备有PECVD、LPCVD、APCVD等，除了CVD之外还有扩散工艺包括磷扩散、硼扩散等，在太阳能电池片扩散设备加工过程中，会产生尾气排放，根据环保部门的相关要求，需对尾气处理后再排放，虽然市面上已经有了许多尾气处理设备，但是它们并不适用于太阳能电池片扩散设备的尾气处理。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种气体净化结构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的本技术所采用的技术方案是一种气体净化结构，连接工艺炉管的排气口，用于处理工艺炉管内排出的气体，包括冷凝装置和过滤装置，冷凝装置被配置为用于连接净化进气部分，冷凝装置连接过滤装置，过滤装置配置为用于连接净化出气部分，进入气体净化结本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体净化结构，其特征在于，连接工艺炉管的排气口，用于处理工艺炉管内排出的气体，包括冷凝装置和过滤装置，冷凝装置被配置为用于连接净化进气部分，冷凝装置连接过滤装置，过滤装置配置为用于连接净化出气部分，进入气体净化结构内的气体先经过冷凝装置后经过过滤装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种气体净化结构，其特征在于，连接工艺炉管的排气口，用于处理工艺炉管内排出的气体，包括冷凝装置和过滤装置，冷凝装置被配置为用于连接净化进气部分，冷凝装置连接过滤装置，过滤装置配置为用于连接净化出气部分，进入气体净化结构内的气体先经过冷凝装置后经过过滤装置。


2.根据权利要求1所述的一种气体净化结构，其特征在于，冷凝装置通过耐高温材料接头与工艺炉管进行连接。


3.根据权利要求1所述的一种气体净化结构，其特征在于，冷凝装置选自石英冷凝瓶、石英冷凝管、镀锌钢管中的至少一种。


4.根据权利要求1所述的一种气体净化结构，其特征在于，还包括能够将工艺炉管内的气体加速抽入气体净化结构的真空泵。


5.根据权利要求4所述的一种气体净化结构，其特征在于，真空泵位于过滤装置下游，气体先经过过滤装置后经过真空泵。


6.根据权利要求4所述的一种气体净化结构，其特征在于，包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：林佳继，刘群，朱太荣，林依婷，
申请(专利权)人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44