【技术实现步骤摘要】
一种离子注入机的水冷式离子输送管
本专利技术涉及半导体生产
,具体涉及一种离子注入机的水冷式离子输送管。
技术介绍
在半导体生产工艺中,主流的杂质掺杂技术都采用离子注入技术,一般采用离子注入机实现离子注入技术。这种方法是由离子源产生等离子体,再通过质谱分析将所需的离子组分提取出来,对离子加速形成具有一定速度的离子束,并注入到半导体基片中,因此离子注入机是半导体生产工艺中十分常用的设备。质量分析器是离子注入机的核心部件,它是依据不同方式将离子源中生成的样品离子按质荷比的大小分开的仪器,可以将所需要的杂质离子从混合的离子束中分离出来。在离子源与质量分析器之间,即质量分析器的前端连接有用于传输离子束的管道,其中单聚焦质量分析器与离子源之间的管道为具有一定半径的圆弧型管道,由于输送管长时间受到高温、高速的离子束的冲击,使输送管的温度长期处于高温状态,不仅影响输送管的使用寿命,同时影响离子注入机其他机件的正常工作。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术的不足,提供一种离子注入机的水冷式离子输送管,它将 ...
【技术保护点】
1.一种离子注入机的水冷式离子输送管,包括外管(1)、内管(2)和两个管接头(3),其特征在于:所述外管(1)包括一体成型的第一弧形管(11)和分别设置在第一弧形管(11)两端的两个第一直管(12);/n所述内管(2)包括一体成型的第二弧形管(21)和分别设置在第二弧形管(21)两端的两个第二直管(22);/n所述管接头(3)成型有直径依次减小的第一插孔(31)、中间孔(32)、第二插孔(33)和通孔(34),管接头(3)的外壁上成型有与中间孔(32)相通的进出水孔(35);/n所述第一直管(12)插套并固定在第一插孔(31)内,第二直管(22)插套并固定在第二插孔(33) ...
【技术特征摘要】
1.一种离子注入机的水冷式离子输送管,包括外管(1)、内管(2)和两个管接头(3),其特征在于:所述外管(1)包括一体成型的第一弧形管(11)和分别设置在第一弧形管(11)两端的两个第一直管(12);
所述内管(2)包括一体成型的第二弧形管(21)和分别设置在第二弧形管(21)两端的两个第二直管(22);
所述管接头(3)成型有直径依次减小的第一插孔(31)、中间孔(32)、第二插孔(33)和通孔(34),管接头(3)的外壁上成型有与中间孔(32)相通的进出水孔(35);
所述第一直管(12)插套并固定在第一插孔(31)内,第二直管(22)插套并固定在第二插孔(33)内;所述外管(1)和内管(2)形成的冷却腔(102)的两端分别与两个管接头(3)的中间孔(32)相通。
2.根据权利要求1所述的一种离子注入机的...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏运秀,
申请(专利权)人:赣州市业润自动化设备有限公司,
类型:发明
国别省市:江西;36
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