观察纳米级样品的光学部件、包含该部件的系统、使用该部件的分析方法及其应用技术方案

本发明专利技术涉及用于观察样品的光学部件，其包括基底和至少一层预定厚度的复合折射率层，该层经设计以使得当在偏振消光条件下通过在法向入射周围会聚的非相干光反射来观察它时，对光路变化、起伏、纳米级厚度和直径表现出高的强度或色彩反差。本发明专利技术的特征在于上折射率层具有特定表面性质，使之对样品的至少一个特征提供选择性亲和力。本发明专利技术还涉及包括所述部件的分析系统、使用所述部件的分析方法以及所述方法的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用光学部件和偏振光观察系统观察和分析纳米级特征。
技术介绍
现有技术中公知制备具有满足特定条件的折射率层的样品支承板的技术，例如在专利FR2818376和FR2841339中所提供的技术。现有技术中还公知描述了通过分析薄层的折射来观测纳米级厚度差异的设备的专利US5631171。这些各种各样的方法对于要观察的每种样品都需要设计和制备特定的基板，并且不能进行待定样品或者那些具有可变特性的样品的研究。
技术实现思路
本专利技术旨在通过提供可以通过观察它们的光学和物理学特性而广泛地应用于研究某些特性是未知的样品的解决方法来克服这些缺点。本专利技术根据其最一般的含义涉及用于观察样品的光学部件，其包括基底和至少一层预定厚度的复合折射率层(complex index layer)，将该层设计成当在偏振消光条件下通过在法向入射周围会聚的非相干光反射来观察它时，对光路变化、起伏(reliefs)、纳米级厚度和直径表现出高的强度或色彩反差(contrast)，其特征在于上折射率层具有特定表面性质，使之对样品的至少一个特征提供选择性亲和力(affinity)。所述光学性质是上折射率层的天本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于观察样品的光学部件，其包括基底和至少一层预定厚度的复合折射率层，该层经设计以使得当在偏振消光条件下通过在法向入射周围会聚的非相干光反射来观察它时，对光路变化、起伏（ｒｅｌｉｅｆｓ）、纳米级厚度和直径表现出高的强度或色彩反差，其特征在于上折射率层具有特定表面性质，使之对样品的至少一个特征提供选择性亲和力（ａｆｆｉｎｉｔｙ）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：多米尼克奥塞尔，
申请(专利权)人：孔布雷电子公司SELCO，
类型：发明
国别省市：FR[法国]