光学材料的表面处理剂，以及光学材料制造技术

本发明专利技术提供了一种包含有机硅化合物的光学材料的表面处理剂，所述化合物具有直接或通过化合价为(n+1)(n为等于1或更大的数值)的官能团键合至硅原子的官能团，所述官能团选自高极性官能团、含羟基基团的基团、含硅原子的可水解基团或它们的金属盐衍生物；并且在分子中具有至少一个结构，其中所述硅原子键合至由R13SiO1/2、R12SiO2/2、R1SiO3/2和SiO4/2表示的任何硅氧烷单元。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种包括有机硅化合物的光学材料的表面处理剂，所述化合物具有：直接或通过化合价为(n+1)(其中n为等于1或更大的数值)的官能团键合至硅原子的官能团，所述官能团选自高极性官能团、含羟基基团的基团、含硅原子的可水解基团或它们的金属盐衍生物；并且在分子中具有至少一个结构，其中所述硅原子键合至由R13SiO1/2,R12SiO2/2,R1SiO3/2和SiO4/2表示的任何硅氧烷单元(其中R1为取代或未取代的单价烃基、氢原子、卤素原子、羟基基团、烷氧基基团或者通过化合价为(n+1)的官能团键合至硅原子的官能团，所述官能团选自高极性官能团、含羟基基团的基团、含硅原子的可水解基团或它们的金属盐衍生物)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大川直，儿岛和彦，饭村智浩，古川晴彦，
申请(专利权)人：道康宁东丽株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP