含导电性高分子的基材上的光致抗蚀剂用显影液、以及图形形成方法技术

本发明专利技术提供了一种能够对设置于含导电性高分子的基材上的光致抗蚀剂进行显影的显影液、以及使用该显影液形成抗蚀图形的方法。通过使显影液含有选自无机酸、等电点小于7的氨基酸、具有两个以上羧基的羧酸中的一种以上的酸和/或其盐，能够抑制由于显影液的原因导致的含导电性高分子的基材的表面电阻增大，得到微细的抗蚀图形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种能够以高灵敏度、高分辨率使含有导电性高分子的基材上的感光性树脂组合物(称作“光致抗蚀剂”)显影的显影液、以及使用该显影液的图形形成方法，由于具有不对与显影液接触的导电性高分子造成损害的特征，因此，本专利技术能够在与导电性高分子和光致抗蚀剂相关的所有用途领域中，提供一种表面电阻低、导电性高的导电性部件。
技术介绍
近年来，成分为氧化铟和氧化锡、通常简称为“IT0”的透明导电膜得到应用，但是，由于铟是稀有元素，因此，各种无机材料和有机材料作为ITO的替代材料被大量研究。特别是作为有机材料的导电性高分子能显著提高电导率，有望成为ITO的替代材料。 该导电性高分子具有导电性、透光性以及发光性，具有成膜后柔性(flexibility)t匕ITO好的特征，所以其在透明导电膜、电解电容器、防静电膜、电池、有机EL显示器等中的应用得到研究，一部分已被实际应用。例如，因为作为显示元件的电子纸需要具有柔性，所以正在研究用导电性高分子作为其透明导电膜。关于电解电容器，虽然在尝试使用电荷转移络合物或聚噻吩等导电性固体来替代现有的电解液，但是通过使用导电性更好的导电性高分子，能够制造频率特本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：井原孝，田口裕务，
申请(专利权)人：东亚合成株式会社，
类型：发明
国别省市：