液体中的溶解气体浓度的测定方法、测定装置和氮气溶解水的制造装置制造方法及图纸

技术编号:2581255 阅读:220 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一边实施将被检液通入根据气体透过膜(2)分离的液相室(3),将气相室(4)的冷凝液排出的操作,一边测定与液相保持平衡状态的气相的真空度的液体中的溶解气体浓度的测定方法;在密封容器(1)的内部设置气体透过膜(2),分隔为液相室(3)和气相室(4),将被检液导入液相室(3)中,在气相室(4)中设置压力计(8)和冷凝液排出管(7),通过压力计(8),测定气相室(3)的真空度的溶解气体浓度的测定装置;按照与供给经脱氧处理的超纯水和氮气的气体溶解装置的供水配管或氮气溶解水排出管连接的方式设置上述测定装置,对应于溶解气体浓度,调节氮气供给量的氮气溶解水的制造装置。可从整体上将在流路中流动的液体中的溶解气体浓度作为饱和度的总值,长期稳定地测定。另外,可稳定地制造氮气溶解水。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及液体中的溶解气体浓度的测定方法、测定装置和氮气溶解水的制造装置。更具体地说,本专利技术涉及可在与一种、多种无关的情况下从整体上将在流路中流动的液体中的溶解气体浓度作为饱和度的总值而简单地计算,特别适合于水中的溶解气体浓度的测定的液体中的溶解气体浓度的测定方法、测定装置以及简单而稳定地制造溶解规定浓度的氮气的氮气溶解水的氮气溶解水的制造装置。
技术介绍
在过去,在水处理等的液体处理技术中,溶解气体浓度的控制是重要的。在比如,从半导体用硅基板、液晶用玻璃基板等的表面,去除异物的湿式清洗工序所采用的超纯水中,为了抑制基板表面的自然氧化,要求将溶解氧气降低到极微量。对于溶解氧气,可通过真空脱气、氮脱气、催化剂脱气等,减小到ppb程度,可采用已有的溶解氧气计,精密地测定其浓度。近年,正在开展湿式清洗的革新,采用按照规定量仅仅溶解特定的气体的所谓功能性清洗水。比如,仅仅将氢气溶解到饱和浓度左右的清洗水对于基板上的细微颗粒的去除,发挥极高的效果。人们知道,虽然将氮气溶解到饱和浓度附近的氮气溶解水不及氢气溶解水,但是仍发挥较高的清洗效果。为了仅仅使这样的特定的气体以高浓度高效地将其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液体中的溶解气体浓度的测定方法,其特征在于一边实施通过气体透过膜将液相和气相分离,将被检液通入液相室中,排出气相室的冷凝液的操作,一边测定与液相保持平衡状态的气相的真空度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:森田博志
申请(专利权)人:栗田工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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