【技术实现步骤摘要】
半导体装置封装及其制造方法
本专利技术涉及半导体装置封装及其制造方法,并且涉及包含两个或大于两个堆叠模制结构的半导体装置封装及其制造方法。
技术介绍
堆叠半导体装置封装可包含两个或大于两个堆叠电子装置。电子装置形成于衬底(例如,晶片)上。可以在制造期间模制电子装置中的每一个,并且因此可在电子装置中的至少一个上执行至少两个模制操作(moldingoperations)。在两个或大于两个模制操作期间衬底和一或多个上覆层可能遭受由于模制材料的热膨胀系数(coefficientofthermalexpansion,CTE)不匹配造成的弯曲,其可能在高温时发生。弯曲可以引起电子装置之间的不佳对准(pooralignment)。因此,弯曲可以是堆叠半导体装置封装的问题。
技术实现思路
在一些实施例中,一种半导体装置封装包含第一电子装置和第二电子装置。第一电子装置包含第一再分布层(redistributionlayer,RDL),所述第一再分布层包含电路层。第二电子装置安置在第一电子装置的第一RDL上。第二电子装置包含囊封物和经图案化导电层。囊封物具有面向第一电子装置的第一RDL的第一表面和与第一表面相对的第二表面。经图案化导电层安置在囊封物的第二表面处,并且经配置以电耦合到第一电子装置的第一RDL的电路层。在一些实施例中,半导体装置封装包含第一电子装置、第二电子装置和中间层。第一电子装置包含RDL,所述RDL包含电路层和覆盖电路层的上部介电层。第二电子装置安置在第一电子装置上。第二电子装置包含囊封物和 ...
【技术保护点】
1.一种半导体装置封装,其包括:/n第一电子装置,其包括第一再分布层,所述第一再分布层包含电路层;以及/n第二电子装置,其安置在所述第一电子装置的所述第一再分布层上,所述第二电子装置包括:/n囊封物,其具有面向所述第一电子装置的所述第一再分布层的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;以及/n经图案化导电层,其安置在所述囊封物的所述第二表面处,并且经配置以电耦合到所述第一电子装置的所述第一再分布层的所述电路层。/n
【技术特征摘要】
20190319 US 16/358,6161.一种半导体装置封装,其包括:
第一电子装置,其包括第一再分布层,所述第一再分布层包含电路层;以及
第二电子装置,其安置在所述第一电子装置的所述第一再分布层上,所述第二电子装置包括:
囊封物,其具有面向所述第一电子装置的所述第一再分布层的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面;以及
经图案化导电层,其安置在所述囊封物的所述第二表面处,并且经配置以电耦合到所述第一电子装置的所述第一再分布层的所述电路层。
2.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第一再分布层的所述电路层通过所述囊封物与所述经图案化导电层物理地隔离。
3.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第一再分布层的所述电路层包含第一电极,并且所述经图案化导电层包含与所述第一电极对齐的第二电极。
4.根据权利要求3所述的半导体装置封装,其中所述第一电极的边缘从所述第二电极的对应的边缘的偏移小于25微米。
5.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第一再分布层进一步包括覆盖所述电路层的上部介电层。
6.根据权利要求5所述的半导体装置封装,其进一步包括中间层,其安置在所述第一电子装置的所述第一再分布层的所述上部介电层与所述囊封物的所述第一表面之间,并且经配置以接合所述第一电子装置和所述第二电子装置。
7.根据权利要求6所述的半导体装置封装,其中所述第一再分布层的所述上部介电层包含多个第一突出部,并且所述中间层包含多个第二突出部,其与所述第一再分布层的所述上部介电层的所述第一突出部啮合。
8.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第一电子装置进一步包括:
第二再分布层,其安置在所述第一再分布层之下并且电连接到所述第一再分布层;
半导体芯片,其安置在所述第一再分布层与所述第二再分布层之间;以及
第二囊封物,其安置在所述第一再分布层与所述第二再分布层之间,并且囊封所述半导体芯片。
9.根据权利要求8所述的半导体装置封装,其中所述第二再分布层的表面粗糙度小于所述第一再分布层的表面粗糙度。
10.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其进一步包括钝化层,其安置在所述经图案化导电层上。
11.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述囊封物包括不透明的囊封物。
12.一种半导体装置封装,其包括:
第一电子装置,其包括再分布层,所述再分布层包含电路层和覆盖所述电路层的上部介电层;
第二电子装置,其安置在所述第一电子装置上,所述第二电子装置包括:
囊封物,其具有第一表面和与所述第一表...
【专利技术属性】
技术研发人员:竺明宪,王启宇,
申请(专利权)人:日月光半导体制造股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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