当前位置: 首页 > 专利查询>何宇亮专利>正文

一种高灵敏压力传感器制造技术

技术编号:2564137 阅读:146 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种高灵敏压力传感器,它由壳体、硅杯、进气口和引线组成,其主要特征是硅杯上覆盖有硅膜片,硅膜片上设有氧化层,硅杯下部的高压腔与进气口连通,氧化层上设有纳米硅力敏电阻,本实用新型专利技术灵敏性高,稳定性好,温度范围宽,可广泛使用于汽车、探矿及军事工程。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种小型固态压力传感器的改进。技术背景己有的固态传感器,无论是单晶硅、多晶硅,还是非晶硅压力传感器压力灵敏度和恒定性较差,使用温度范围窄,最佳工作温度通常仅在80-100℃。
技术实现思路
本技术的专利技术目的是克服上述已有技术的缺点,提供一种灵敏度高, 最佳工作温度范围宽,使用寿命长的高灵敏压力传感器。本技术由壳体(1)、壳体(1)内的硅杯(3)、壳体(1)下部的进气 口 (2)和硅杯(3)连接的引线(4)组成,硅杯(3)上部覆盖有硅膜片(5), 硅杯(3)下部的高压腔(6)与进气口 (2)相连通,硅杯(3)上方为低压腔 (7),硅膜片(5)上设有氧化层(8),氧化层(8)上设有纳米力敏电阻(9)。本技术的优点是灵敏性和稳定性高,温度范围宽,可广泛使用于汽车、 探矿及军事工程。附图说明附图l为本技术结构示意图。图中1——壳体,2——进气口, 3——硅杯,4——引线,5——硅膜片, 6——高压腔,7——低压腔,8——氧化层,9——纳米硅力敏电阻。具体实施方式参照附图1,硅杯(3)为环形,位于壳体(1)内腔,左右两侧连接引线(4), 硅杯(3)上口覆盖有呈正方形的硅膜片(5),氧化层(8)位于硅膜片(5)上, 纳米硅力敏电阻(9)分布在硅膜片(5)上部氧化层(8)的四周边缘,共设2 对, 一对纵向设置,另一对呈切面设置,从而构成惠灵顿应变电桥。硅杯(3) 上方为低压腔(7),下部经进气口 (2)与高压腔(6)连通。权利要求1、一种高灵敏压力传感器,包含有壳体(1)、壳体(1)内的硅杯(3)、壳体(1)下部的进气口(2)和与硅杯(3)连接的引线(4),其特征在于硅杯(3)上部覆盖有硅膜片(5),硅杯(3)下部的高压腔(6)与进气口(2)连通,硅杯(3)的上方为低压腔(7),硅膜片(5)的上部设有氧化层(8),氧化层(8)上设有纳米硅力敏电阻(9)。2、 按权利要求1所述的一种高灵敏压力传感器,其特征在于所说的硅膜片 (5)为正方形,纳米硅力敏电阻(9)分布在硅膜片(5)上部、氧化层(8)的四边缘,共设2对, 一对呈纵向设置,另一对呈切面设置。专利摘要本技术公开了一种高灵敏压力传感器,它由壳体、硅杯、进气口和引线组成,其主要特征是硅杯上覆盖有硅膜片,硅膜片上设有氧化层,硅杯下部的高压腔与进气口连通,氧化层上设有纳米硅力敏电阻,本技术灵敏性高,稳定性好,温度范围宽,可广泛使用于汽车、探矿及军事工程。文档编号G01L1/18GK201075043SQ200720037740公开日2008年6月18日 申请日期2007年5月16日 优先权日2007年5月16日专利技术者何宇亮, 王树娟 申请人:何宇亮;王树娟本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高灵敏压力传感器,包含有壳体(1)、壳体(1)内的硅杯(3)、壳体(1)下部的进气口(2)和与硅杯(3)连接的引线(4),其特征在于硅杯(3)上部覆盖有硅膜片(5),硅杯(3)下部的高压腔(6)与进气口(2)连通,硅杯(3)的上方为低压腔(7),硅膜片(5)的上部设有氧化层(8),氧化层(8)上设有纳米硅力敏电阻(9)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:何宇亮王树娟
申请(专利权)人:何宇亮王树娟
类型:实用新型
国别省市:84[中国|南京]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1