何宇亮专利技术

何宇亮共有6项专利

  • 本实用新型涉及一种纳米硅微波开关二极管,是以低电阻率单晶硅为基片,在其上方沉积一层掺杂纳米硅薄膜,构成纳米硅/单晶硅异质结构。该纳米硅微波开关二极管具有优越的伏一安特性,击穿电压V↓[b]为30~70伏,反向漏电流I↓[r]仅为纳安(n...
  • 本实用新型公开了一种纳米硅肖特基二极管,它是以低电阻率单晶硅为基片,在其上沉积一层掺杂纳米硅薄膜,在纳米硅薄膜上有多层金属膜。本实用新型的产品温度稳定性好,可在~250℃高温下正常使用;在击穿之前,反向漏电流仅为纳安(nA)量级并具有极...
  • 本实用新型公开了一种纳米硅太阳能薄膜电池,它由玻璃和单晶硅底层、依次设置在底层上的导电膜、非晶硅薄膜、N型纳米硅薄膜和透明金属电极及梳状电极等组成,其主要特征是非晶硅薄膜层与N型纳米硅薄膜层间增设有变能隙纳米层。透明金属电极及梳状电极与...
  • 本发明公开了一种纳米硅薄膜,其采用等离子化学汽相沉积法,在PECVD设备中生长制备,产品的晶粒大小为d=(2~6)纳米,晶态体积百分比Xc=(53±5)%,薄膜最高电导率为σ↓[rt]=30Ω↑[-1].cm↑[-1],薄膜中电子迁移率...
  • 本实用新型公开了一种高灵敏压力传感器,它由壳体、硅杯、进气口和引线组成,其主要特征是硅杯上覆盖有硅膜片,硅膜片上设有氧化层,硅杯下部的高压腔与进气口连通,氧化层上设有纳米硅力敏电阻,本实用新型灵敏性高,稳定性好,温度范围宽,可广泛使用于...
  • 本发明公开了一种器件级纳米硅薄膜及其制备工艺,本发明产品是采用等离子体化学汽相沉积法在VHF-CVD设备中生长制备的。产品中的晶粒大小为d=(2~8)纳米,晶态体积百分比Xc=(53±5)%,薄膜电导率为σ#-[rt]=(30-80)Ω...
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