厚膜微压力传感器及制备方法技术

技术编号:2560438 阅读:202 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及厚膜微压力传感器技术,采用Al↓[2]O↓[3]瓷加工成弹性膜片及瓷环,用玻璃浆料将其粘结烧结成周边固支的感压弹性体,在弹性体上按预定位置印刷烧结导电带,并在弹性体上通过厚膜丝网印刷,高温烧结制成厚膜应变电阻,接成全桥。本发明专利技术方法制成的厚膜微压力传感器稳定,耐腐蚀,性能优良,工作温度范围宽,成本低,耐老化,有广阔的应用前景。(*该技术在2018年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及厚膜微压力传感器技术。厚膜压力传感器是八十年代初出现的新型传感器,其弹性体为高性能氧化铝瓷,应变电阻为具有压阻效应的厚膜电阻,并采用厚膜工艺技术直接印刷、烧结在陶瓷弹性体上。这种厚膜压力传感器成本低,耐高温,耐腐蚀,可直接接触腐蚀性液体或气体,无需通过不锈钢膜片和硅油隔离。八十年代以来,许多国家都对厚膜压力传感器及厚膜力敏技术进行研究和开发。目前国内外厚膜压力传感器的最小量程一般都在0.1MPa(100KPa)左右。目前国内外常用的微压力传感器主要有扩散硅、组合式二种。前者采用硅材料及半导体平面工艺制作,应变电阻为扩散硅电阻,弹性体为单晶硅;后者主要由弹性波纹膜片,连杆,应变片组合而成,量程一般可达10-50KPa,不足之处是工作温度低,不耐腐蚀,测量腐蚀性介质需采用隔离措施,成本高。此外,研制10KPa以下微压力品种的传感器,存在如下困难和限制1.扩散硅压力传感器,随着量程的减小,其弹性膜片的厚度需要进一步减薄,这样导致扩散硅电阻的结深难以控制,非线性增加,性能恶化,一致性和成品率下降等诸多困难。2.组合式压力传感器结构复杂,由于加工工艺和材料的限制,加工难度更本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种厚膜微压力传感器的制备方法,其特征在于:采用Al↓[2]O↓[3]瓷加工成弹性膜片及瓷环;弹性园膜片采用流延法工艺成型,瓷环采用热压铸成型工艺制作,高温烧成,用高温玻璃浆料将弹性园膜片和瓷环粘结成周边固支的感压弹性体,并在高温中烧结成为一体;然后在弹性体上按预定位置印刷烧结导电带,并在陶瓷弹性体的中央及边缘附近位置通过厚膜丝网印刷,高温烧结工艺制作厚膜应变电阻,并接成全桥;抗过载及补偿用盖板也是用Al↓[2]O↓[3]瓷热压铸成型,用低温玻璃和已印烧好厚膜应变电阻的弹性体形成整体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:马以武常慧敏宋箭申飞王英先
申请(专利权)人:中国科学院合肥智能机械研究所
类型:发明
国别省市:34[中国|安徽]

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