【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及单块式位移测量用干涉仪。
技术介绍
位移测量干涉仪(“DMI”)是本领域熟知的，并且用于以高精度和分辨率水平测量小位移和长度已有数十年。在这些设备中，氦氖位移测量激光干涉仪由于其高度的稳定性和单色性而得到了比较普遍的应用。干涉仪需要对反射镜进行仔细的对准，这种对准必须长期维持，但是这可能存在相当大的实际困难。通过经过干涉仪的每个臂两次并在两次经过之间加入对波前进行倒转的装置，双程干涉仪可以对反射镜失调表现出部分的不敏感性。参见例如S.J.Bennett的“A Double-Passed Michelson Interferometer”，OpticsCommunications，Volume4，Number6，February/March，1972，其中用偏振分束器、两个四分之一波片和一个用作倒转元件的角隅反射器实现了两次经过。Bennett的前述论文的全部内容通过引用而结合于此。由于其产业意义、鲁棒性、稳定性和精度，双程位移测量干涉仪在高精度位移测量中得到了比较普遍的应用。尽管在DMI领域已经普遍取得了许多进步，但是仍然存在测量误差和不准确性。...
【技术保护点】
一种单块式位移测量用平面反射镜干涉仪，适于将分离的第一光束和第二光束接收于其中，所述干涉仪包括对于所述第一光束和所述第二光束基本等效的分离的第一光路和第二光路。
【技术特征摘要】
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