低走离干涉仪制造技术

本发明专利技术公开了一种干涉仪，所述干涉仪采用第一测量通道和第二测量通道，对于沿垂直和水平方向的测量可以获得大的动态范围，其中第一测量通道对于一路径进行的包括分别与光学器件－物体间隔平行和垂直的分量的测量具有大的动态范围，第二测量通道只对垂直分量的测量提供了大的动态范围。此外，在物体周围的多个位置处采用相同的技术可以使物体自由度的测量具有大的动态范围。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及低走离(low walk-off)干涉仪。
技术介绍
平面反射镜干涉仪可以测量物体(例如晶片处理系统中的精密工作台)的位置和/或方向。对于这些用途，通常将平面反射镜安装在待测工作台上，干涉仪对一个或多个测量光束进行导向以使之从平面反射镜反射。每个测量光束通常对应于单独的测量通道，并与相应的参考光束合并，用于进行产生测量结果的信号处理。为了减小测量光束与相应的参考光束之间的角度间隔，某些干涉仪(通常称为“二次通过型”干涉仪，doublepass interferometer)采用后向反射器将每个测量光束定向回去，用于在干涉仪将测量光束和参考光束合并之前从平面反射镜进行第二次反射。这些双程干涉仪实际上将测量光束的程长加倍，这样可能具有一些缺点。对工作台或其他物体的位置和方向进行测量的干涉仪系统经常需要测量多个自由度。例如，刚性三维物体通常具有六个独立自由度，即表示相对于X轴、Y轴和Z轴位置的X、Y和Z坐标，以及与物体围绕X轴、Y轴和Z轴的转动相应的滚转角、偏转角和俯仰角。通常，测量轴中至少两个(例如Y轴和Z轴)限定了下述方向，该方向至少具有与干涉仪光学器件和测量反射镜之本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干涉仪系统，包括：第一测量通道，所述第一测量通道提供第一信号，所述第一信号指示了沿一路径的具有第一分量和第二分量的测量结果，所述第一分量沿着对于被测物体而言的第一方向，所述第二分量沿着对于所述被测物体而言的第二方向，所述第二方向 与所述第一方向垂直；第二测量通道，所述第二测量通道提供第二信号，所述第二信号指示的测量结果至少具有沿所述第二方向的分量；以及处理系统，所述处理系统利用所述第一信号和所述第二信号来确定沿所述第一方向的测量结果。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：威廉克莱施卢赫特尔，
申请(专利权)人：安捷伦科技有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]