分体式下调节靶式喷嘴制造技术

技术编号:2486086 阅读:207 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术属于横流冷却塔循环水领域。现有的横流冷却塔喷嘴的有效高度与配水池底板的厚度不相匹配,当配水池底板的厚度大于喷嘴喷水的有效高度时,会严重影响下泄水量,使冷却塔达不到设计能力。本实用新型专利技术提供一种分体式下调节靶式喷嘴,它是在现有靶式喷头的导流环与溅水花盘之间增加一接管和管接头,并且部件之间采用螺纹联接,可适应底板厚度不同的配水池等的需要,设计、加工、安装方便。适用于各种横流冷却塔喷嘴喷淋冷却的需要。(*该技术在2003年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于横流冷却塔循环水领域,特别是工业冷却水循环冷却塔领域。喷嘴是横流冷却塔的重要组成部分,上塔的循环热水入配水池以后流经喷嘴飞溅为均匀的水滴喷洒在冷却塔内的填料上而被冷却,喷嘴性能的好坏直接影响冷却塔的冷却效果。现有的冷却塔用的喷嘴常用的是靶式喷嘴,见图1。实际应用中,由于冷却塔配水池池面水平度不均,造成配水池不同位置上的靶式喷嘴上方的液位深度不均,从而导致冷却塔配水配风不均,冷却效率下降。为解决这一问题,ZL93205412.9号专利提供了一种“高度可调靶式喷头”,见图2。这种高度可调靶式喷头因其导流环在配水池底板上部的高度可调,故可以很好地解决因配水池池面水平度不均导致冷却塔配水、配风不均冷却效率下降的问题。但在冷却塔喷嘴的实际安装中,常常发现如下的问题,即冷却塔用喷嘴喷水的有效高度与配水池底板的厚度不相匹配,当配水池底板厚度大于喷嘴喷水的有效高度时,会严重影响冷却塔的下泄水量,使冷却塔达不到设计的水处理量,在这种情况下,ZL93205412.9号专利就无能为力了,为适应不同厚度配水池底板对喷嘴高度的需要,必须加工制造出各种长度不同的喷嘴,这给喷嘴的设计和加工制造带来很大的不便,也不经济。为解决上述现有技术存在的问题,寻求一种能够灵活地适应不同厚度的冷却塔配水池底板的需要,以及适应喷嘴与填料间距离要求需要的靶式喷嘴,从而能有效地保证冷却塔冷却效率处于最佳状态,并且设计、加工制造和安装都很方便的靶式喷嘴,本技术提供了一种分体式下调节靶式喷嘴。本技术的横流冷却塔循环冷却水用靶式喷嘴,其特征是,在导流环(2)与溅水花盘接管(7)之间增加一管接头(5),管接头(5)与导流环(2)和溅水花盘接管(7)之间采用螺纹联接,溅水花盘(8)直接连在溅水花盘接管(7)的下部,为使导流环(2)的高度成为可调,在导流环(2)与管接头(5)之间可以安装需要长度的接管(6),同样采用螺纹联接,这种分体式,并且配水池池面以下部分导流环的高度可调的靶式喷嘴,即是分体式下调节靶式喷嘴,见图3、图4、图5。本技术的分体式下调节靶式喷嘴,最好与事先预埋在配水池底板上的靶式喷头定位套(9)配合使用,定位套(9)为一带定位套顶盘(10)的园筒体,定位套顶盘(10)上开有环形槽,安装使用时,将分体式下调节靶式喷嘴置于定位套(9)内,将导流环上卡盘(1)镶嵌于定位套顶盘(10)的环形槽中,导流环下卡盘(4)卡紧贴在定位套(9)的内壁上即可。在本技术中,由于导流环顶盘(1)与定位套(9)上的定位套顶盘(10)二者之间的镶嵌以及导流环外壁上的导流环下卡盘(4)与定位套(9)内壁之间的紧密配合,可使本技术的靶式喷嘴牢固地定位于配水池底板上,因此,设计制造、安装使用都非常方便,见图5。在本技术中,用于定位靶式喷嘴的定位套(9),其顶盘部分可以作成平顶形,也可以作成园锥形等各种形状,以便适应各种使用要求。此外,在本技术的分体式下调节靶式喷嘴中,其接管(6)的长度可以根据冷却塔配水池底板厚度以及对喷嘴与填料之间距离的要求来确定。在实际使用中,当配水池底板的厚度变化时,只须调整接管的长度就可以满足配水池底板厚度不同的冷却塔的需要。本技术的分体式下调节靶式喷嘴也可以和ZL93205412.9号专利的高度可调靶式喷头相结合,从而提供一种上、下均可调的靶式喷头,从而可同时解决因冷却塔配水池池面水平度不均以及因池底厚度不同不能与靶式喷嘴喷水的有效高度相匹配时带来的各种弊端。关于本技术的分体式下调节靶式喷嘴及其定位套所用的材质,一般无特殊要求,以采用工程塑料,特别是改性PVC材料为佳。与现有的各种横流冷却塔用靶式喷头相比,本技术的分体式下调节靶式喷嘴具有如下的优点1.可适应不同厚度配水池底板对喷头高度的需要,当配水池底板厚度变化时。只须选用适当长度的接管就可以满足需要。2.可以避免因配水池底板厚度变化需要设计、加工制造出各种不同的喷嘴的必要,具有较好的经济效益,并且可以满足调整喷嘴与填料层之间的距离的需要,保证冷却水处于最理想的喷淋状态,从而保证冷却塔的冷却效率。关于本技术的分体式下调节靶式喷嘴经工业化生产实践验证,效果十分理想,适用于各种工业与民用横流冷却塔循环水领域。 附图说明图1.靶式喷头图2.高度可调靶式喷头图3.分体式下调节靶式喷嘴局部剖视图其中1.导流环上卡盘 2.导流环 3.加强筋 4.导流环下卡盘 5.管接头 7.溅水花盘接管 8.溅水花盘图4.分体式下调节靶式喷嘴剖视图其中9.定位套 10.定位套顶盘图5.带接管的分体式下调节靶式喷嘴局部剖视图其中6.接管权利要求1.一种横流冷却塔循环冷却水用的靶式喷嘴,其特征在于,在导流环(2)与溅水花盘接管(7)之间增加一管接头(5),管接头(5)与导流环(2)和溅水花盘接管(7)之间采用螺纹联接,溅水花盘(8)直接连在溅水花盘接管(7)的下部,为使导流环(2)的高度成为可调,在导流环(2)与管接头(5)之间可以安装需要长度的接管(6),同样采用螺纹联接,这种分体式,并且在配水池池面以下部分导流环的高度可调的靶式喷嘴,即是分体式下可调靶式喷嘴。2.按权利要求1所述的靶式喷嘴,其特征在于,该靶式喷嘴最好与事先预埋在配水池底板上的靶式喷嘴定位套(9)配合使用,定位套(9)为一带顶盘(10)的园筒体,顶盘(10)上开有环形槽,安装使用时,将分体式下可调靶式喷嘴置于定位套(9)内,将导流环上卡盘(1)镶嵌于定位套顶盘的环形槽中,导流环下卡盘(4)卡贴在定位套(9)的内壁上即可。3.按权利要求2所述的靶式喷嘴定位套,其特征在于,定位套(9)的顶盘部分可以作成平顶形,也可以作成园锥形。4.按权利要求1、2所述的靶式喷嘴,其特征在于,接管(9)的长度可以根据冷却塔配水池底板的厚度以及对喷嘴与填料之间距离的要求来确定。专利摘要本技术属于横流冷却塔循环水领域。现有的横流冷却塔喷嘴的有效高度与配水池底板的厚度不相匹配,当配水池底板的厚度大于喷嘴喷水的有效高度时,会严重影响下泄水量,使冷却塔达不到设计能力。本技术提供一种分体式下调节靶式喷嘴,它是在现有靶式喷头的导流环与溅水花盘之间增加一接管和管接头,并且部件之间采用螺纹联接,可适应底板厚度不同的配水池等的需要,设计、加工、安装方便。适用于各种横流冷却塔喷嘴喷淋冷却的需要。文档编号F28C1/00GK2175391SQ9324376公开日1994年8月24日 申请日期1993年11月8日 优先权日1993年11月8日专利技术者杨勤祥 申请人:中国化学工程总公司化工冷却塔填料厂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种横流冷却塔循环冷却水用的靶式喷嘴,其特征在于,在导流环(2)与溅水花盘接管(7)之间增加一管接头(5),管接头(5)与导流环(2)和溅水花盘接管(7)之间采用螺纹联接,溅水花盘(8)直接连在溅水花盘接管(7)的下部,为使导流环(2)的高度成为可调,在导流环(2)与管接头(5)之间可以安装需要长度的接管(6),同样采用螺纹联接,这种分体式,并且在配水池池面以下部分导流环的高度可调的靶式喷嘴,即是分体式下可调靶式喷嘴。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨勤祥
申请(专利权)人:中国化学工程总公司化工冷却塔填料厂
类型:实用新型
国别省市:13[中国|河北]

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