【技术实现步骤摘要】
专利
本专利技术涉及一种ALD(原子层沉积)系统中,用于气体前驱体输送与导流的喷嘴。
技术介绍
在现有技术中,根据ALD的原理,前驱体气体从管路系统,由喷嘴喷入反应腔体,在有限的时间内与腔体内基底表面发生吸附,连续的两种不同气体在基底表面发生反应,从而导致一个原子层的沉积。反应能够有效进行的前提是,气体经由喷嘴喷入反应腔体后,在有限的时间内与腔体内的基底能够发生充分的均匀的吸附,因而对于有较大尺寸的、有一定复杂结构的反应腔体,喷嘴的设计,对于气流的分布以及气体在基底上的均匀吸附,具有重要的影响。喷嘴设计不合理,与腔体结构匹配不好,会导致气流在反应腔体内分布不均匀,使得气体无法在有限时间内在腔体内基底上均匀吸附,导致所制备的薄膜不均匀,影响ALD系统的使用。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本专利技术提出一种结构化的ALD喷嘴,能够有效优化圆形反应腔体内的气流分布,解决腔体内气流不均导致的制备薄膜不均的现象。
一种ALD用结构化喷嘴,其特征在于,包括圆弧形中空喷嘴主体(1)、与主体外侧壁中部连接的管路(2),所述喷嘴主体内侧壁体上沿着其轴线方向均匀设有两种不同尺寸的第一微孔(3)和第二微孔(4)。
其喷嘴主体(1)弧度与反应腔体弧度相同。
所述管路(2)与喷嘴内部连通,用于气体的输入;管路(2)中部带有外螺纹(5),用于与腔体的固定;管路(2)端部带有外螺纹(6)用于与外部管路的连接;管路(2)直径为1/4英寸。
所述的第一微孔(3)位于喷嘴主体(1)内侧壁体中部,孔径为1-2 ...
【技术保护点】
一种ALD用结构化喷嘴,其特征在于,包括圆弧形中空喷嘴主体(1)、与主体外侧壁中部连接的管路(2),所述喷嘴主体内侧壁体上沿着其轴线方向均匀设有两种不同尺寸的第一微孔(3)和第二微孔(4)。
【技术特征摘要】
1.一种ALD用结构化喷嘴,其特征在于,包括圆弧形中空喷嘴主体(1)、与主体外侧壁中部连接的管路(2),所述喷嘴主体内侧壁体上沿着其轴线方向均匀设有两种不同尺寸的第一微孔(3)和第二微孔(4)。
2.如权利要求1所述的一种ALD用结构化喷嘴,其特征在于,其喷嘴主体(1)弧度与反应腔体弧度相同。
3.如权利要求1所述的一种ALD用结构化喷嘴,其特征在于,所述管路(2)与喷嘴内部连通,用于气体的输入;管路(2)中部带有外螺纹(5),用于与腔体的固定;管路(2)端部带有外螺纹(6)用于与外部管路的连接;管路(2)直径为1/4英寸。
4.如权利要求1所述的一种AL...
【专利技术属性】
技术研发人员:何丹农,尹桂林,金彩虹,
申请(专利权)人:上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司,
类型:发明
国别省市:上海;31
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