一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及离子溅射装置技术领域，尤其是一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，包括溅射装置主体，所述溅射装置主体的顶部设有底盘，所述底盘的上部罩设有罩体，所述罩体和底盘内设有样品架，所述罩体的外部连接有多个滑块，其中一个所述滑块内贯穿有限位杆，所述限位杆的上端螺纹安装有锁定螺母，所述限位杆穿过滑块和U形的定位板且下端的侧壁上环绕有多个限位块，所述定位板上设有与限位块形状匹配的限位孔，所述限位孔与限位块相互错开，所述定位板与溅射装置主体的顶部固定连接，其余的所述滑块上均贯穿有与之滑动连接的滑杆，所述滑杆的下端与溅射装置主体的顶部垂直连接。本实用新型专利技术方便对样品进行取放，且结构稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置
本技术涉及离子溅射装置领域，尤其涉及一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置。
技术介绍
离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极(靶)和阳极(试样)间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。现有技术中的镀铝膜离子溅射装置一般包括用于控制电流电压以及气流的主体部分和用于对样品和靶头进行固定的样品架，样品架采用玻璃罩保护，玻璃罩的顶部采用活动盖，这种结构不利于样品的取放。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在不方便样品取放的缺点，而提出的一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置。为达到以上目的，本技术采用的技术方案为：一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，包括溅射装置主体，所述溅射装置主体的顶部设有底盘，所述底盘的上部罩设有罩体，所述罩体和底盘内设有样品架，所述罩体的外部连接有多个滑块，其中一个所述滑块内贯穿有限位杆，所述限位杆的上端螺纹安装有锁定螺本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，包括溅射装置主体(1)，其特征在于，所述溅射装置主体(1)的顶部设有底盘(2)，所述底盘(2)的上部罩设有罩体(6)，所述罩体(6)和底盘(2)内设有样品架，所述罩体(6)的外部连接有多个滑块(10)，其中一个所述滑块(10)内贯穿有限位杆(5)，所述限位杆(5)的上端螺纹安装有锁定螺母(4)，所述限位杆(5)穿过滑块(10)和U形的定位板(18)且下端的侧壁上环绕有多个限位块(17)，所述定位板(18)上设有与限位块(17)形状匹配的限位孔(16)，所述限位孔(16)与限位块(17)相互错开，所述定位板(18)与溅射装置主体(1)的顶部固定连接，其余的所述...

【技术特征摘要】
1.一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，包括溅射装置主体(1)，其特征在于，所述溅射装置主体(1)的顶部设有底盘(2)，所述底盘(2)的上部罩设有罩体(6)，所述罩体(6)和底盘(2)内设有样品架，所述罩体(6)的外部连接有多个滑块(10)，其中一个所述滑块(10)内贯穿有限位杆(5)，所述限位杆(5)的上端螺纹安装有锁定螺母(4)，所述限位杆(5)穿过滑块(10)和U形的定位板(18)且下端的侧壁上环绕有多个限位块(17)，所述定位板(18)上设有与限位块(17)形状匹配的限位孔(16)，所述限位孔(16)与限位块(17)相互错开，所述定位板(18)与溅射装置主体(1)的顶部固定连接，其余的所述滑块(10)上均贯穿有与之滑动连接的滑杆(11)，所述滑杆(11)的下端与溅射装置主体(1)的顶部垂直连接。


2.根据权利要求1所述的一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，其特征在于，所述样品架包括设在底盘(2)中部的抽气孔(19)，所述抽气孔(19)与溅射装置主体(1)内设置的真空源连接，所述底盘(2)的中部通过支撑机构放置有样品(23)，所述底盘(2)上安装有阳极(13)，所述罩体(6)的顶部连接有进气管(7)和阴极(9)，所述阴极(9)与罩体(6)内的靶盘(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：田守文，
申请(专利权)人：沈阳天成真空技术有限责任公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21