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本实用新型涉及离子溅射装置技术领域，尤其是一种真空镀铝薄膜用离子溅射装置，包括溅射装置主体，所述溅射装置主体的顶部设有底盘，所述底盘的上部罩设有罩体，所述罩体和底盘内设有样品架，所述罩体的外部连接有多个滑块，其中一个所述滑块内贯穿有限位杆，...
该专利属于沈阳天成真空技术有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳天成真空技术有限责任公司授权不得商用。

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