【技术实现步骤摘要】
等离子源防护装置
本技术属镀膜机附属配件领域，尤其涉及一种等离子源防护装置。
技术介绍
等离子源是镀膜机上的主要装置，在镀膜前用等离子源对要镀膜的零件表面轰击可以提高表面的洁净度，在镀膜沉积过程中使用，沉积分子或原子在零件表面不断受到来自等离子源的荷能离子的轰击，通过能量转移，使沉积粒子获得较大的动能，从而使薄膜性能得到了改善，大大提高了薄膜的牢固度。镀膜过程中，由于镀膜材料在等离子源周围的沉积，易造成等离子源的电极接触不良，镀膜过程中断，导致镀膜失败。因此设计此等离子源的防护装置具有重要的现实意义。
技术实现思路
本技术旨在克服现有技术不足之处而提供一种结构简单，易于制造，使等离子源的电极及气源连接不受镀膜影响，同时不影响等离子源的发射特性，可延长对等离子源的维护周期和使用寿命，提升等离子源工作稳定性，提高镀膜机生产效率的等离子源防护装置。为解决上述技术问题，本技术是这样实现的：一种等离子源防护装置，包括底层防护套及上侧面防护套；所述底层防护套的底部外延固定设有缝隙遮挡环板；所述上侧面防护套...
【技术保护点】
1.一种等离子源防护装置，其特征在于，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所述上侧面防护套（2）的侧壁纵向开有组装孔（201）；在所述上侧面防护套（2）的顶部固定设有防护环（202）；在所述上侧面防护套（2）的侧壁对应组装孔（201）位置固定设有鼻子形防护罩（203）；所述组装孔（201）在鼻子形防护罩（203）下部的高度小于底层防护套（1）的高度。/n
【技术特征摘要】
1.一种等离子源防护装置，其特征在于，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所述上侧面防护套（2）的侧壁纵向开有组装孔（201）；在所述上侧面防护套（2）的顶部固定设有防护环（202）；在所述上侧面防护套（2）的侧壁对应组装孔（201）位置固定设有鼻子形防护罩（203...
【专利技术属性】
技术研发人员：王忠连，任少鹏，高鹏，金秀，班超，杨文华，白永浩，王伟，张玲玲，
申请(专利权)人：沈阳仪表科学研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21
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