等离子源防护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属镀膜机附属配件领域，尤其涉及一种等离子源防护装置，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所述上侧面防护套（2）的侧壁纵向开有组装孔（201）；在所述上侧面防护套（2）的顶部固定设有防护环（202）；在所述上侧面防护套（2）的侧壁对应组装孔（201）位置固定设有鼻子形防护罩（203）。本实用新型专利技术结构简单，易于制造，使等离子源的电极及气源连接不受镀膜影响，同时不影响等离子源的发射特性，延长了对等离子源的维护周期和使用寿命，提升了等离子源工作稳定性。

Plasma source protection device

【技术实现步骤摘要】
等离子源防护装置
本技术属镀膜机附属配件领域，尤其涉及一种等离子源防护装置。
技术介绍
等离子源是镀膜机上的主要装置，在镀膜前用等离子源对要镀膜的零件表面轰击可以提高表面的洁净度，在镀膜沉积过程中使用，沉积分子或原子在零件表面不断受到来自等离子源的荷能离子的轰击，通过能量转移，使沉积粒子获得较大的动能，从而使薄膜性能得到了改善，大大提高了薄膜的牢固度。镀膜过程中，由于镀膜材料在等离子源周围的沉积，易造成等离子源的电极接触不良，镀膜过程中断，导致镀膜失败。因此设计此等离子源的防护装置具有重要的现实意义。
技术实现思路
本技术旨在克服现有技术不足之处而提供一种结构简单，易于制造，使等离子源的电极及气源连接不受镀膜影响，同时不影响等离子源的发射特性，可延长对等离子源的维护周期和使用寿命，提升等离子源工作稳定性，提高镀膜机生产效率的等离子源防护装置。为解决上述技术问题，本技术是这样实现的：一种等离子源防护装置，包括底层防护套及上侧面防护套；所述底层防护套的底部外延固定设有缝隙遮挡环板；所述上侧面防护套与底层防护套活动套接；在所述上侧面防护套的侧壁纵向开有组装孔；在所述上侧面防护套的顶部固定设有防护环；在所述上侧面防护套的侧壁对应组装孔位置固定设有鼻子形防护罩；所述组装孔在鼻子形防护罩下部的高度小于底层防护套的高度。作为一种优选方案，本技术所述防护环的内径大于阳极保护筒直径，且小于螺钉所在圆的直径。进一步地，本技术所述底层防护套及上侧面防护套采用1mm厚不导磁钢板。本技术结构简单，易于制造，使等离子源的电极及气源连接不受镀膜影响，同时不影响等离子源的发射特性，延长了对等离子源的维护周期和使用寿命，提升了等离子源工作稳定性，提高了镀膜机生产效率。附图说明下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步说明。本技术的保护范围不仅局限于下列内容的表述。图1为本技术上侧面防护套整体结构示意图。图2为本技术底层防护套整体结构示意图。图3为等离子源整体结构示意图。图中：1、底层防护套；101、缝隙遮挡环板；2、上侧面防护套；201、组装孔；202、防护环；203、鼻子形防护罩；3、阳极保护筒；4、螺钉；5、气管；6、地线；7、缝隙。具体实施方式如图所示，等离子源防护装置，包括底层防护套1及上侧面防护套2；所述底层防护套1的底部外延固定设有缝隙遮挡环板101；所述上侧面防护套2与底层防护套1活动套接；在所述上侧面防护套2的侧壁纵向开有组装孔201；在所述上侧面防护套2的顶部固定设有防护环202；在所述上侧面防护套2的侧壁对应组装孔201位置固定设有鼻子形防护罩203；所述组装孔201在鼻子形防护罩203下部的高度小于底层防护套1的高度。本技术所述防护环202的内径大于阳极保护筒3的直径，且小于螺钉4所在圆的直径。本技术所述底层防护套1及上侧面防护套2采用1mm厚不导磁钢板。本技术在具体设计时，以1mm厚不导磁钢板为材料，避免对等离子源的磁场产生影响，采用焊接的方式，加工成底层防护套1及上侧面防护套2的结构。底层防护套1直径略大于等离子源的外径，底层防护套1套在等离子源的底部，缝隙遮挡环板101的外径略大于缝隙7的外径，避免灰尘、蒸发膜料等从缝隙7落到等离子源内部。上侧面防护套2的外径略大于底层防护套1的直径，将上侧面防护套2套在底层防护套1之上。上侧面防护套2上的组装孔201在鼻子形防护罩203下部的高度小于底层防护套1的高度。这样，组装孔201会有底层防护套1保护，实现等离子源侧面将无裸露。参见图3及图1所示，气管5和地线6通过鼻子形防护罩203引出。防护环202的内径要大于阳极保护筒直径，且小于三个螺钉4所在圆的直径，这样既可以避免遮挡从阳极筒发射的等离子体影响等离子的分布，不会影响滤光片镀制的均匀性，又能有效的防护蒸发膜料对螺钉4和等离子源上表面的污染。本技术缝隙遮挡环板101可有效防护灰尘，蒸发膜料沿等离子源侧壁进入等离子源内部。开孔处的高度与底层防护套1高度的配合，实现等离子源侧面的全防护。鼻子形防护罩203可对气管5及地线6进行防护。防护环202尺寸的设计，既不影响使用性能，又能有效对等离子源上表面防护。在本技术的描述中，需要理解的是，术语指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子源防护装置，其特征在于，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所述上侧面防护套（2）的侧壁纵向开有组装孔（201）；在所述上侧面防护套（2）的顶部固定设有防护环（202）；在所述上侧面防护套（2）的侧壁对应组装孔（201）位置固定设有鼻子形防护罩（203）；所述组装孔（201）在鼻子形防护罩（203）下部的高度小于底层防护套（1）的高度。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子源防护装置，其特征在于，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所述上侧面防护套（2）的侧壁纵向开有组装孔（201）；在所述上侧面防护套（2）的顶部固定设有防护环（202）；在所述上侧面防护套（2）的侧壁对应组装孔（201）位置固定设有鼻子形防护罩（203...

【专利技术属性】
技术研发人员：王忠连，任少鹏，高鹏，金秀，班超，杨文华，白永浩，王伟，张玲玲，
申请(专利权)人：沈阳仪表科学研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21