以防污涂层成分涂覆光学制品的机器和使用机器的方法技术

本发明专利技术提供一种用来以防污涂层成分涂覆光学制品的机器和方法。所述机器包括：真空室(8)，该真空室被构造用来接收该光学制品；真空泵(20)，所述真空泵连接到所述真空室(8)；等离子体发生器(11)，该等离子体发生器被构造用来执行光学制品的真空等离子体处理；蒸发装置(10)，该蒸发装置被构造用来执行该成分的真空蒸发处理以便将其沉积在光学制品上；控制单元(2)，该控制单元控制等离子体发生器以便移除该制品的初始最外防污涂层，控制蒸发装置以便用防污涂层成分再涂覆该制品，被构造用来在真空等离子体处理期间引起真空泵(20)从室(8)吸取气体，并且还被构造用来在真空蒸发处理期间引起真空泵(20)不从室(8)吸取气体。

Machines for coating optical products with antifouling coating components and methods for using machines

【技术实现步骤摘要】
以防污涂层成分涂覆光学制品的机器和使用机器的方法本申请是国际申请日为2012年7月16日、国际申请号为PCT/IB2012/053624、进入中国国家阶段日期为2014年01月17日、国家申请号为201280035418.5、专利技术名称为“用来以防污涂层成分涂覆光学制品的机器和使用该机器的方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及用来以防污涂层成分涂覆光学制品的机器，该光学制品诸如眼镜，并且特别地，优选地安装在眼镜框架上的眼镜片。本专利技术还涉及一种使用这种机器的方法。
技术介绍
熟知的是，镜片(并且具体地，眼镜片)包括眼用基片，该眼用基片具有适合于佩戴者的几何特征。眼用基片需要添加涂层，例如用来增加镜片的耐磨性的耐磨涂层，用来减少光的反射的抗反射涂层，和施加在抗反射涂层上的防污涂层。防污涂层提供外部涂层，与抗反射涂层相比，该外部涂层可以更加耐污染(例如有机杂质的污染)并且更容易清洁。防污涂层还保护抗反射涂层。镜片的佩戴者可能希望更换这种防污涂层，因为所述涂层的效果可能随着时间的过去而降低。移本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用来以防污涂层成分涂覆光学制品(28)的机器，所述机器包括：/n真空室(8)，所述真空室具有内部空间(31)，所述内部空间被构造用来接收所述光学制品(28)；/n真空泵(20)，所述真空泵连接到所述真空室(8)；/n等离子体发生器(11)，所述等离子体发生器被构造用来在所述真空室(8)中执行所述光学制品(28)的真空等离子体处理；/n蒸发装置(10)，所述蒸发装置被构造用来执行所述防污涂层成分的真空蒸发处理，以便在所述真空室(8)中将所述防污涂层成分沉积在所述光学制品(28)上；和/n控制单元(2)，所述控制单元被构造用来控制所述等离子体发生器和所述蒸发装置；/n所述控制单元(2)控制所述...

【技术特征摘要】
20110718 EP 11305936.41.用来以防污涂层成分涂覆光学制品(28)的机器，所述机器包括：
真空室(8)，所述真空室具有内部空间(31)，所述内部空间被构造用来接收所述光学制品(28)；
真空泵(20)，所述真空泵连接到所述真空室(8)；
等离子体发生器(11)，所述等离子体发生器被构造用来在所述真空室(8)中执行所述光学制品(28)的真空等离子体处理；
蒸发装置(10)，所述蒸发装置被构造用来执行所述防污涂层成分的真空蒸发处理，以便在所述真空室(8)中将所述防污涂层成分沉积在所述光学制品(28)上；和
控制单元(2)，所述控制单元被构造用来控制所述等离子体发生器和所述蒸发装置；
所述控制单元(2)控制所述等离子体发生器以便移除所述光学制品(28)的初始最外防污涂层；
所述控制单元(2)控制所述蒸发装置以便用所述防污涂层成分再涂覆所述光学制品(28)；
所述控制单元(2)还被构造用来在真空等离子体处理期间引起所述真空泵(20)从所述真空室(8)吸取气体；并且
所述控制单元(2)还被构造用来在真空蒸发处理期间引起所述真空泵(20)不从所述真空室(8)吸取气体；
所述机器还包括过滤装置(23)，并且所述控制单元(2)还被构造用来引起所述真空泵(20)从所述真空室(8)吸取气体并且借助于通过所述过滤装置(23)而将气体排出到大气。


2.根据权利要求1所述的机器，包括真空阀(19)，所述真空阀布置在所述真空室(8)和所述真空泵(20)之间，并且被构造用来处于打开状态和关闭状态，所述打开状态和关闭状态分别用来引起所述真空泵(20)从所述真空室(8)吸取气体和不从所述真空室吸取气体。


3.根据权利要求1所述的机器，所述真空泵(20)被构造成被开通和关掉，以分别用来从所述真空室(8)吸取气体或不从所述真空室吸取气体。


4.根据权利要求1到3中的任一项所述的机器，包括压力传感器(17)，所述压力传感器布置在所述真空室(8)和所述真空泵(20)之间。


5.根据权利要求1所述的机器，所述过滤装置(23)布置在所述真空室(8)和所述真空泵(20)之间。


6.根据权利要求1到5中的任一项所述的机器，包括气体入口阀(13)，所述气体入口阀连接到所述真空室(8)。


7.根据权利要求1到6中的任一项所述的机器，所述蒸发装置(10)包括加热模块(32)，所述加热模块被构造用来加热所述防污涂层成分。


8.根据权利要求7所述的机器，包括坩埚(30)，所述坩埚被构造用来接收所述防污涂层成分，所述加热模块(32)包括第一支撑件(29)，在所述第一支撑件上接收所述坩埚(30)。


9.根据权利要求1到8中的任一项所述的机器，包括第二支撑件(27)，在所述第二支撑件上接收所述光学制品(28)。


10.根据权利要求9所述的机器，包括门(9)，所述门是可移动的或可移除的，所述蒸发装置(10)和所述第二支撑件(27)被接收在所述门(...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·斯特罗贝尔，S·朔尔策，G·富尔南，N·伯格哈卡尔，
申请(专利权)人：依视路国际公司，萨特隆股份公司，
类型：发明
国别省市：法国;FR