导电膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种导电膜，包括：透明基材，所述透明基材上依次叠设有硬涂层一、减反层一、金属导电层、减反层二、保护层；所述透明基材上远离硬涂层一的一面上设有硬涂层二、散热层；其中，所述减反层一和所述减反层二均通过折射层一和折射层二叠设得到；所述折射层一的折射率为2.3‑2.5，所述折射层二的折射率为1.5‑1.7；所述折射层一紧贴所述金属导电层；本实用新型专利技术通过膜层之间的合理设计，一方面提高了膜层的透光率，一方面提高了膜层的导电性，提供了一种高导电性高透光率的导电膜。

Conductive film

【技术实现步骤摘要】
导电膜
本技术涉及导电膜
更具体地说，本技术涉及一种低阻抗高透光率的导电膜。
技术介绍
导电膜是具有导电功能的薄膜。目前，大多运用在液晶显示屏、太阳能电池、触控屏、微电子ITO导电膜玻璃以及光电子等各种光学领域中。导电膜最重要的两个性能是导电性和透光率，一般来说，导电膜的导电性与透光率成反比，当导电性提高时，透光率就降低了，故急需一种低阻抗高透过光率的导电膜。
技术实现思路
本技术的一个目的是解决至少上述问题，并提供一种导电膜，其根据减反层能减少反射，增加折射，且利用高低折射原理制作双层减反层，在金属导电层的两侧均设置减反层；其中靠近金属导电层的选用二氧化钛等高折射率的金属氧化物，这样形成金属氧化物-金属导电层-金属氧化物的复合多层导电层，既提高了导电膜的导电性同时提高了导电膜的透光率。为了实现根据本技术的这些目的和其它优点，提供了一种导电膜，包括：透明基材，所述透明基材上依次叠设有硬涂层一、减反层一、金属导电层、减反层二、保护层；所述透明基材上远离硬涂层一的一面上设有硬涂层二、散热层；其中，所述减反层一和所述减反层二均通过折射层一和折射层二叠设得到；所述折射层一的折射率为2.3-2.5，所述折射层二的折射率为1.5-1.7；所述折射层一紧贴所述金属导电层。优选的是，所述减反层一的折射层一材质为氟化镁，折射层二材质为二氧化钛；所述减反层二的折射层一材质为三氧化二铝，折射层二材质为二氧化钛。优选的是，所述折射层二的材质为氟化镁、氧化镁、三氧化二铝中的任一种。优选的是，所述金属导电层的导电金属为银、铜、金中的任一种。优选的是，所述金属导电层的厚度为5-40nm。优选的是，所述保护层的材质为四氮化三硅、二氧化硅中的任一种。本技术至少包括以下有益效果：1、本技术增设了减反层，其中减反层是基于制作材质折射率高-低-高的原理搭配设计的，可有效减少反射，增加折射，从而提高了导电膜的透光率；2、本技术的减反层中与导电层紧贴的折射层二使用材质为金属氧化物，从而组成了金属氧化物导电层-金属导电层-金属氧化物导电层，进而形成了多层复合导电层，有效的提高了导电膜的导电性；3、本技术中通过在导电层的两边分设减反层，一方面可保护金属导电层，防止其氧化，另一方面可提高透光率，增加导电层的稳定性；4、本技术中增设了散热层，可有效散热，保证导电膜的散热安全性；5、本技术中在减反层与基材层中增设了一层硬涂层，可有效增加减反层、硬涂层以及基材层的附着性，提高膜层的稳定性；6、本技术中增设了保护膜层，可有效提高导电膜的机械性能。本技术的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本技术的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。附图说明图1为本技术其中一种技术方案所述导电膜的结构示意图；图2为本技术其中一种技术方案所述导电膜中的减反层一的结构示意图；图3为本技术其中一种技术方案所述导电膜中的减反层二的结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。如图1-3所示，本技术提供一种导电膜，包括：透明基材1，所述透明基材1上依次叠设有硬涂层一2、减反层一3、金属导电层4、减反层二5、保护层6；所述透明基材1上远离硬涂层一2的一面上设有硬涂层二7、散热层8；其中，所述减反层一3和所述减反层二5均通过折射层一和折射层二叠设得到；所述折射层一的折射率为2.3-2.5，所述折射层二的折射率为1.5-1.7；所述折射层一紧贴所述金属导电层。制作过程中，导电膜采用磁控溅射的方法在透明柔性基材上依次镀膜；所述透明基材材质选用PET，在PET上依次镀UV涂层，氟化镁膜层、二氧化钛膜层，金属银导电层、ITO膜层、氟化镁膜层、四氮化三硅膜层；在PET的另一面上镀石墨散热膜层以及四氮化三硅膜层；其中，氟化镁膜层和二氧化钛膜层组成了减反层一，ITO膜层和氟化镁膜层组成了减反层二；金属导电层厚度为20nm；其他膜层的厚度均为本领域的技术人员了解且熟知的膜层厚度；采用该技术方案，得到的有益效果是，通过合理设计膜层的结构，提供了一种高透光性和高导电性的导电膜，用透光率检测仪检测透光率，用表面电阻测试仪检测表面电阻，得到此导电膜的透光率为：98.5-99％；表面电阻为5-10Ω/sq。在另一种技术方案中，所述减反层一3由氟化镁9和二氧化钛10组成；所述减反层二5由三氧化二铝11和二氧化钛10组成；二氧化钛的折射率为2.3，氟化镁的折射率为1.74，三氧化二铝的折射率为1.67，相对来说，与金属导电层紧贴的二氧化钛膜层的折射率较高；通过高折射率的二氧化钛和低折射率的氟化镁以及三氧化二铝，制作减反层，依据高-低-高的折射原理，提供了一种有效降低膜层反射率，提高其折射率的导电膜；通过测量，此导电膜的透光率为：97.5-98.5％。在另一种技术方案中，所述折射层二是氟化镁、氧化镁、三氧化二铝中的一种组成的膜层；氟化镁的折射率为1.38，氧化镁的折射率为1.74，三氧化二铝的折射率为1.67，三者均属于折射率比较低的金属氧化物，而二氧化钛的折射率为2.3，配合折射率较高的二氧化钛等金属氧化物，制作减反膜层，可有效增加折射率；采用此技术方案，得到的有益效果是能提高导电膜的透光率，经过测量，采用氟化镁制作折射层二，得到的导电膜的透光率为：98-99％；采用氧化镁制作折射层二，得到的导电膜的透光率为：96-98％；采用三氧化二铝制作折射层二，得到的导电膜的透光率为：97-98％。在另一种技术方案中，所述金属导电层的金属是银、铜、金中的一种组成的膜层；金属导电层中金属的种类对导电膜的导电性能影响较大，采用银、铜、金中任一钟金属制作导电膜，能得到导电性能较好的导电膜，且抗氧化性能较好；经过试验测量，采用银作为导电金属制作的导电膜，其表面电阻为5-15Ω/sq；采用铜作为导电金属制作的导电膜，表其面电阻为8-17Ω/sq；采用金作为导电金属制作的导电膜，其表面电阻为10-20Ω/sq在另一种技术方案中，所述金属导电层的厚度为5-40nm；金属导电层的厚度直接影响到导电膜的导电性和透光性，将金属导电层的厚度限制为5-40nm，可有效提高导电膜的导电性和透光率；在本技术方案中，选用金属银作为导电金属，将银导电层的厚度限制为5-40nm，制作的导电膜，经过测量，其透光率为：96-98％，表面电阻为：5-10Ω/sq。在另一种技术方案中，所述保护层是四氮化三硅、二氧化硅中的一种组成的膜层；保护膜层主要对导电膜起保护作用，四氮化三硅和二氧化硅均具有非常稳定的结构，和优良的化学稳定性，能耐膜抗腐蚀，具有良好的保护作本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.导电膜，其特征在于，包括：/n透明基材，所述透明基材上依次叠设有硬涂层一、减反层一、金属导电层、减反层二、保护层；所述透明基材上远离硬涂层一的一面上设有硬涂层二、散热层；/n其中，所述减反层一和所述减反层二均通过折射层一和折射层二叠设得到；所述折射层一的折射率为2.3-2.5，所述折射层二的折射率为1.5-1.7；所述折射层一紧贴所述金属导电层。/n

【技术特征摘要】
1.导电膜，其特征在于，包括：
透明基材，所述透明基材上依次叠设有硬涂层一、减反层一、金属导电层、减反层二、保护层；所述透明基材上远离硬涂层一的一面上设有硬涂层二、散热层；
其中，所述减反层一和所述减反层二均通过折射层一和折射层二叠设得到；所述折射层一的折射率为2.3-2.5，所述折射层二的折射率为1.5-1.7；所述折射层一紧贴所述金属导电层。


2.如权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述减反层一的折射层一材质为氟化镁，折射层二材质为二氧化钛；所述减反层二的折...

【专利技术属性】
技术研发人员：金玄，李化玺，尹文龙，尹强强，
申请(专利权)人：四川欣富瑞科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51