导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法技术

本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法。该结构由导电功能层和光学功能层组成。导电功能层由光学基膜和导电基层组成。导电基层设置在光学基膜的第一表面；光学功能层设置在第二表面。光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种或者至少两种的层叠。通过将导电功能层和光学功能层集成为一个整体，避免了在触控显示结构的盖板上单独设置AF层、AR层或者AG层，从而减少了下游触控显示结构的工艺流程，提高了下游触控显示结构的生产效率。并且由于该导电膜结构使得触控显示结构减少了盖板和高透光双面胶，极大地降低了触控显示结构的厚度和重量。

Conductive film structure, preparation method, touch display structure and preparation method

【技术实现步骤摘要】
导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法
本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法。
技术介绍
随着触控交互体验方式在社交设备中的逐步应用，用户对其产生了新的体验需求，例如防眩光防指纹增透(AGAFAR)需求，尤其是在户外应用场景和手写应用场景。具体而言，要求在强光(太阳光)下看不到镜面反射影及优越的手写体验感，从而产生了防眩光(AG)需求；要求易擦拭痕迹及耐磨损，从而产生了防指纹(AF)的需求；要求提升显示屏的有效透光率，从而产生了增透(AR)的需求。为了实现这些新需求，目前常规的做法需要在现有触控显示结构的表面粘接一层盖板(一般由玻璃和塑胶板(诸如复合板、PMMA板、PC板和PET板等)制成)，然后在盖板上做AGAFAR表面处理。但是，这种方式制作成本高昂，并且由于现有的触控显示结构(图1)增加了顶层盖板和高透光双面胶，使得触控显示结构整体的厚度和重量都非常大。而多层叠结构更是导致叠合加工良率大幅降低、AGAFAR需求加工环节繁琐，品质良莠不齐，用户难以甄别性能可靠性。
技术实现思路
本申请实施例的目的在于提供一种导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法。第一方面，本申请提供一种导电膜结构，由导电功能层和光学功能层组成；导电功能层由光学基膜和导电基层组成；光学基膜具有第一表面和相对的第二表面；导电基层设置在光学基膜的第一表面；光学功能层设置在第二表面；光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种；或者光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少两种的层叠。通过将导电功能层和光学功能层集合成一个整体，这种具有AF层、AR层和/或AG层功能的导电膜结构可以直接用于触控显示结构，使其具有防眩光防指纹增透功能。该导电膜结构能够减少在下游触控显示结构的盖板上制备AF层、AR层或者AG层的工艺流程，从而极大地降低成本，提高下游触控显示结构的生产效率。并且由于该导电膜结构可以直接用于触控显示结构，实现防眩光防指纹增透功能，使得触控显示结构不需要单独设置高透光双面胶和盖板，极大地减小了触控显示结构的厚度和重量。在本申请一些实施例中，上述光学功能层为AG层，AG层的雾度值在5％～60％，光泽度65～110。通过将上述的AG层的雾度值设置在5％～60％，光泽度设置65～110，能够提高防眩效果。在本申请一些实施例中，上述AG层的铅笔硬度为3H以上，优选地，AG层的铅笔硬度的测试标准为ASTMD3363。通过将上述的AG层的铅笔硬度设置为3H以上，能够保证整个导电膜结构的强度以及硬度，保证结构的稳定性。在本申请一些实施例中，上述光学功能层为AR层，AR层的反射率在0.1％～1.5％。通过将上述的AR层的反射率在0.1％～1.5％，能够保证整个导电膜结构的增透效果。在本申请一些实施例中，上述导电基层包括导电层；可选地，导电层为纳米银线导电层，纳米银线导电层的表面阻抗小于等于100Ohm。通过将上述的纳米银线导电层的表面阻抗设置为小于等于100Ohm，能够保证高导电效果和触控灵敏度。在本申请一些实施例中，上述导电基层还包括硬化层和防护层；硬化层和防护层分别设置在导电层的两个表面；硬化层设置在光学基膜上。在本申请一些实施例中，上述光学基膜的材料为PET、TAC或者SRF；光学基膜的厚度为50～250μm；可选地，光学基膜的铅笔硬度为HB；优选地，光学基膜的铅笔硬度的测试标准为ASTMD3363。第二方面，本申请提供一种触控显示结构，由上述的导电膜结构以及显示屏组成；导电膜结构设置在显示屏上。该触控显示结构通过设置上述的导电膜结构，使得整个触控显示结构的厚度和重量减小。第三方面，本申请提供一种导电膜结构的制备方法，包括：在光学基膜的第一表面设置导电基层；在光学基膜的第二表面设置光学功能层；光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种；或者光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少两种的层叠。该方法，将AF层、AR层、AG层的功能直接集成在光学基膜上，获得具有防眩光防指纹增透功能的导电膜结构，避免了在下游触控显示结构的盖板上制备AF层、AR层或者AG层的工艺流程，从而极大地降低了成本，提高了下游触控显示结构的生产效率，提高了下游产品制备的良品率。第四方面，本申请提供一种触控显示结构的制备方法，包括：采用上述的导电膜结构的制备方法制得导电膜结构；将导电膜结构连接于显示屏。这种触控显示结构的制备方法将用户对于触控显示交互方式不同的需求预先集成到导电膜结构上，然后再将这种满足用户需求的功能性导电膜结构连接于显示屏，避免了在下游触控显示结构设置盖板以及制备AF层、AR层或者AG层的工艺流程，极大地方便了下游产品(触控显示结构)的生产，提高了生产效率，降低了成本。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为现有技术中常见的触控显示结构的结构示意图；图2为本申请实施例提供的导电膜结构的结构示意图；图3为本申请实施例提供的触控显示结构的结构示意图；图4为本申请实施例提供的导电膜结构的制备方法的流程图；图5为本申请实施例提供的触控显示结构的制备方法的流程图；图6为现有技术中常见的触控显示结构的制备方法的流程图。图标：100-导电膜结构；101-导电功能层；102-光学功能层；110-光学基膜；111-第一表面；112-第二表面；120-硬化层；130-导电层；140-防护层；150-AF层；160-AR层；170-AG层；200-触控显示结构；210-显示屏；220-常规导电膜；230-高透光双面胶。具体实施方式下面将结合附图对本申请的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本申请，而不应视为限制本专利技术的范围。实施申请中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。下面对本申请实施方式的导电膜结构及其制备方法以及触控显示结构及其制备方法进行具体说明。参照图2，本申请实施方式提供的一种导电膜结构100，由导电功能层101和光学功能层102组成。进一步地，导电功能层101由光学基膜110和导电基层组成。进一步地，光学基膜110具有第一表面111和相对的第二表面112；导电基层设置在光学基膜110的第一表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种导电膜结构，其特征在于，由导电功能层和光学功能层组成；所述导电功能层由光学基膜和导电基层组成；/n所述光学基膜具有第一表面和相对的第二表面；所述导电基层设置在所述光学基膜的所述第一表面；所述光学功能层设置在所述第二表面；/n所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种；或者/n所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少两种的层叠。/n

【技术特征摘要】
1.一种导电膜结构，其特征在于，由导电功能层和光学功能层组成；所述导电功能层由光学基膜和导电基层组成；
所述光学基膜具有第一表面和相对的第二表面；所述导电基层设置在所述光学基膜的所述第一表面；所述光学功能层设置在所述第二表面；
所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少一种；或者
所述光学功能层为AF层、AR层、AG层中的至少两种的层叠。


2.根据权利要求1所述的导电膜结构，其特征在于，
所述光学功能层为AG层，所述AG层的雾度值在5％～60％，光泽度65～110。


3.根据权利要求2所述的导电膜结构，其特征在于，
所述AG层的铅笔硬度为3H以上；优选地，所述AG层的铅笔硬度的测试标准为ASTMD3363。


4.根据权利要求1所述的导电膜结构，其特征在于，
所述光学功能层为AR层，所述AR层的反射率在0.1％～1.5％。


5.根据权利要求1-4任一项所述的导电膜结构，其特征在于，
所述导电基层包括导电层；
可选地，所述导电层为纳米银线导电层，所述纳米银线导电层的表面阻抗小于等于100Ohm。


6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡小涛，黄峥华，
申请(专利权)人：广州市东晅科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44