一种涂胶显影设备涂敷单元制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体集成电路制造技术领域，且公开了一种涂胶显影设备涂敷单元。该涂胶显影设备涂敷单元，包括下盖，所述下盖的上方安装有上盖，所述下盖与上盖的内侧设有内盖，所述内盖的内侧安装有支撑杆，所述支撑杆的顶端安装有吸盘，所述吸盘的顶部吸附有吸附基片，所述上盖的顶端焊接有圆环。本实用新型专利技术，通过螺纹套顶端活动安装吸盘，从而方便更换不同尺寸的吸盘，上盖顶端焊接圆环，圆环内侧螺纹连接螺杆，螺杆的一端焊接手轮，且螺杆的另一端活动安装弧形板，三个弧形板两两之间均通过弹性带连接，转动手轮三个弧形板的距离可进行调节，从而实现调节开口的大小，同时可用来与背清喷头精准对位。

A coating unit of gluing developing equipment

【技术实现步骤摘要】
一种涂胶显影设备涂敷单元
本技术涉及半导体集成电路制造
，具体为一种涂胶显影设备涂敷单元。
技术介绍
半导体集成电路，是指在一个半导体衬底上至少有一个电路块的半导体集成电路装置，半导体集成电路是将晶体管，二极管等等有源元件和电阻器，电容器等无源元件，按照一定的电路互联，“集成”在一块半导体单晶片上，从而完成特定的电路或者系统功能。现有技术为中国专利公开号为CN206292524U，专利技术创造的名称为一种涂胶显影设备涂敷单元，其包括：下盖，其结构适配于第一尺寸基片和第二尺寸基片；上盖和内盖，位于所述下盖上方，其结构适配于第二尺寸基片；吸盘，穿设所述下盖、上盖和内盖，用于吸附基片；铁盘，设置于所述吸盘外周，其上设置有清除基片背部残留化学品的背清喷头，以及收集废液的孔，本技术提出的涂胶显影设备涂敷单元，适用于多种尺寸基片的处理，节约购机成本，从而降低了生产成本。该涂胶显影设备涂敷单元在内盖上对称割开有2条开口，使得所述背清喷头可对基片背部进行清洁，然而，开口是否能够与背清喷头对位至关重要，且现有技术无法调节开口大小，为此我们提本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂胶显影设备涂敷单元，包括下盖(1)，其特征在于：所述下盖(1)的上方安装有上盖(2)，所述下盖(1)与上盖(2)的内侧设有内盖(3)，所述内盖(3)的内侧安装有支撑杆(4)，所述支撑杆(4)的顶端安装有吸盘(7)，所述吸盘(7)的顶部吸附有吸附基片(9)，所述上盖(2)的顶端焊接有圆环(10)。/n

【技术特征摘要】
1.一种涂胶显影设备涂敷单元，包括下盖(1)，其特征在于：所述下盖(1)的上方安装有上盖(2)，所述下盖(1)与上盖(2)的内侧设有内盖(3)，所述内盖(3)的内侧安装有支撑杆(4)，所述支撑杆(4)的顶端安装有吸盘(7)，所述吸盘(7)的顶部吸附有吸附基片(9)，所述上盖(2)的顶端焊接有圆环(10)。


2.根据权利要求1所述的一种涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于：所述吸盘(7)的底部活动安装有螺纹套(6)，所述螺纹套(6)与支撑杆(4)通过螺纹段(5)连接。


3.根据权利要求1所述的一种涂胶显影设备涂敷单元，其特征在于：所述吸盘(7)的底部安...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈慕禹，
申请(专利权)人：绍兴华立电子有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33