一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，属于微加工装置领域，包括旋涂箱，所述旋涂箱内设置有静电吸附支撑台，所述静电吸附支撑台的底部设置有旋转驱动机构，所述静电吸附支撑台的上部设置有滴胶管，所述滴胶管延伸至所述旋涂箱的外侧，所述旋涂箱外侧的所述滴胶管上设置有供胶机构，所述旋涂箱的顶部一侧设置有开口，所述开口上连接有抽真空机构，所述静电吸附支撑台与外接电源电连接，所述旋涂箱的一侧设置有可打开的密封门，所述旋涂箱的外侧还设置有控制器。通过旋涂箱、静电吸附支撑台、静电吸附支撑台的底部的旋转驱动机构、滴胶管及抽真空机构的设置，能完全避开空气的作用，在涂胶时不会出现针孔现象，涂胶均匀，效果理想。

A spin coating instrument for spin coating photoresist

【技术实现步骤摘要】
一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪
本技术涉及微加工装置领域，具体的是涉及一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪。
技术介绍
在微型器件和微机电系统(MEMS)等的微加工过程中，光刻胶的旋涂通常是必不可少的步骤，其目的是获得平整度良好的光刻胶胶膜。胶膜的平整性直接决定后续工艺的质量，进而影响微器件和微系统的整体质量。该工艺步骤的具体原理与方法是：首先在基片的中心滴涂光刻胶，当高速旋转的基片产生的离心力与光刻胶膜的表面张力达到平衡时，即可在基片表面获得一层均匀的光刻胶胶膜。该工艺步骤是通过旋涂仪实现的。申请号为：CN201520077139.6公开了一种用于旋涂粘稠光刻胶的旋涂仪卡盘系统，包括旋转轴、吸盘、支撑卡盘、E型卡盘，旋转轴位于系统的中轴线上，支撑卡盘通过铆钉与旋转轴连接，支撑卡盘沿旋转轴上下移动的位置由铆钉固定；吸盘置于旋转轴的顶端；E型卡盘环绕在方形卡盘的四周，E型卡盘的下部与支撑台通过铆钉固定，E型卡盘相互交错，可通过铆钉实现水平移动。本技术可实现旋涂高粘稠度光刻胶时获得平整度良好的胶膜，而且适用于在不同尺寸和厚度的方形基片上旋涂光刻胶，可用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，包括旋涂箱(1)，其特征在于：所述旋涂箱(1)内设置有静电吸附支撑台(2)，所述静电吸附支撑台(2)的底部设置有旋转驱动机构，所述静电吸附支撑台(2)的上部设置有滴胶管(13)，所述滴胶管(13)延伸至所述旋涂箱(1)的外侧，所述旋涂箱(1)外侧的所述滴胶管(13)上设置有供胶机构，所述旋涂箱(1)的顶部一侧设置有开口(18)，所述开口(18)上连接有抽真空机构，所述静电吸附支撑台(2)与外接电源电连接，所述旋涂箱(1)的一侧设置有可打开的密封门，所述旋涂箱(1)的外侧还设置有控制器(22)。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，包括旋涂箱(1)，其特征在于：所述旋涂箱(1)内设置有静电吸附支撑台(2)，所述静电吸附支撑台(2)的底部设置有旋转驱动机构，所述静电吸附支撑台(2)的上部设置有滴胶管(13)，所述滴胶管(13)延伸至所述旋涂箱(1)的外侧，所述旋涂箱(1)外侧的所述滴胶管(13)上设置有供胶机构，所述旋涂箱(1)的顶部一侧设置有开口(18)，所述开口(18)上连接有抽真空机构，所述静电吸附支撑台(2)与外接电源电连接，所述旋涂箱(1)的一侧设置有可打开的密封门，所述旋涂箱(1)的外侧还设置有控制器(22)。


2.根据权利要求1所述的一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，其特征在于，所述旋转驱动机构包括位于所述静电吸附支撑台(2)下部的支撑盘(3)，位于所述支撑盘(3)下部的转轴(4)以及位于所述转轴(4)底部的第一电机(5)，所述第一电机(5)与控制器(22)电连接。


3.根据权利要求2所述的一种用于旋涂光刻胶的旋涂仪，其特征在于，所述转轴(4)上还固定有卡盘机构，所述卡盘机构包括固定于所述转轴(4)上的支撑板(6)，位于所述支撑板(6)上部四周的四个凹型卡盘(9)以及位于每个所述凹型卡盘(9)底部的升降驱动机构，所述升降驱动机构固定在所述支撑板(6)上，四个凹型卡盘(9)在支撑板(6)顶面呈相互矩形交错状围绕在静电吸附支撑台(2)周围。


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【专利技术属性】
技术研发人员：李永斌，
申请(专利权)人：甘肃华隆芯材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：甘肃;62