晶圆检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种晶圆检测装置，包括检测镜头以及晶圆放置台，检测镜头位于晶圆放置台上方，所述晶圆放置台表面设置有负压吸孔用于吸附晶圆，所述晶圆放置台可沿轴心转动，还包括第一滑动基板和第二滑动基板，在第一滑动基板和第二滑动基板上均设置有滑轨以及丝杠模组，其中晶圆放置台位于第一滑动基板的轨道上且由该滑动基板上的丝杠模组带动沿轨道滑动；第一滑动基板位于第二滑动基板的轨道上且由第二滑动基板上的丝杠模组带动沿该轨道滑动。通过第一滑动基板、第二滑动基板配合相应的丝杠模组可以实现晶圆的双轴向移动，检测显微镜可以对晶圆的各个位置均进行检测。

Wafer detection device

【技术实现步骤摘要】
晶圆检测装置
本技术涉及晶圆检测
，具体涉及一种晶圆检测装置。
技术介绍
在半导体工艺中，光学检测方法由于具有不破坏晶圆表面的清洁度、可实时检测等优点成为最为常用的晶圆检测方法之一。通常用的光学检测方法是使用显微镜来探测晶圆表面颗粒的有无、是否有缺陷。而现有技术中一般采用移动显微镜的方式对晶圆进行检测，而显微镜的移动往往受限于设备结构，无法移动至晶圆指定位置。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是解决上述现有技术的不足，提供一种晶圆检测装置。为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：一种晶圆检测装置，包括检测镜头以及晶圆放置台，检测镜头位于晶圆放置台上方，所述晶圆放置台表面设置有负压吸孔用于吸附晶圆，所述晶圆放置台可沿轴心转动，还包括第一滑动基板和第二滑动基板，在第一滑动基板和第二滑动基板上均设置有滑轨以及丝杠模组，其中晶圆放置台位于第一滑动基板的轨道上且由该滑动基板上的丝杠模组带动沿轨道滑动；第一滑动基板位于第二滑动基板的轨道上且由第二滑动基板上的丝杠模组带动沿该轨道滑动。进一步的，还包括第三滑动基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆检测装置，包括检测镜头以及晶圆放置台，检测镜头位于晶圆放置台上方，所述晶圆放置台表面设置有负压吸孔用于吸附晶圆，所述晶圆放置台可沿轴心转动，其特征在于：还包括第一滑动基板和第二滑动基板，在第一滑动基板和第二滑动基板上均设置有滑轨以及丝杠模组，其中晶圆放置台位于第一滑动基板的轨道上且由该滑动基板上的丝杠模组带动沿轨道滑动；第一滑动基板位于第二滑动基板的轨道上且由第二滑动基板上的丝杠模组带动沿该轨道滑动。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶圆检测装置，包括检测镜头以及晶圆放置台，检测镜头位于晶圆放置台上方，所述晶圆放置台表面设置有负压吸孔用于吸附晶圆，所述晶圆放置台可沿轴心转动，其特征在于：还包括第一滑动基板和第二滑动基板，在第一滑动基板和第二滑动基板上均设置有滑轨以及丝杠模组，其中晶圆放置台位于第一滑动基板的轨道上且由该滑动基板上的丝杠模组带动沿轨道滑动；第一滑动基板位于第二滑动基板的轨道上且由第二滑动基板上的丝杠模组带动沿该轨道滑动。


2.根据权利要求1所述的晶圆检测装置，其特征在于：还包括第三滑动基板，第三滑动基板上设置有滑动轨道以及丝杠模组，在第三滑动基板上还设置有一...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖宇，岳湘，易涛，
申请(专利权)人：域凯电子科技无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32