用于处理衬底的衬底处理设备制造技术

本公开涉及衬底处理设备，所述衬底处理设备具有第一反应器和第二反应器，每个反应器配置有升降机以将具有衬底的舟皿转移到所述反应器。所述设备具有舟皿转移装置以在衬底装载站、第一升降机和/或第二升降机与冷却站之间转移所述具有衬底的舟皿。所述衬底装载站和所述冷却站可布置在所述第一升降机和所述第二升降机的相对侧上。

Substrate processing equipment for substrate processing

【技术实现步骤摘要】
用于处理衬底的衬底处理设备
本公开大体上涉及一种用于处理多个衬底的衬底处理设备。更具体地说，本公开涉及衬底处理设备，所述衬底处理设备包括用于处理舟皿中的多个衬底的第一反应器和第二反应器。所述设备可具有第一升降机和第二升降机，以分别向和从第一反应器和第二反应器转移具有衬底的舟皿。所述设备可具有衬底处置机器人，所述衬底处置机器人被构造且布置成在舟皿与衬底匣盒之间转移衬底。
技术介绍
容纳多个衬底的匣盒可通过匣盒处置器在衬底处理设备中转移，所述匣盒处置器可在匣盒出入端口、匣盒站和/或存储装置之间转移匣盒。存储装置可包括匣盒存储回转料架，用于存储多个匣盒。衬底处置机器人可被构造且布置成将衬底从匣盒站处的匣盒转移到衬底舟皿，以用多个衬底填充舟皿。为提高生产率，所述衬底处理设备可设有第一反应器和第二反应器。第一升降机或第二升降机可分别将填充的舟皿移动到第一反应器或第二反应器中以处理衬底。在反应器中处理后，舟皿可用相应的升降机降低并冷却。冷却后，已处理衬底可用衬底处置机器人从舟皿转移到匣盒。由于在衬底处理设备可能位于的洁净室制造场所中存在有限空间，所以可能有益的是将衬底处理设备的宽度设计得尽可能小。衬底处理设备的有限宽度可使得有可能将更多的处理设备并排堆叠，在一排中紧靠彼此。
技术实现思路
提供本概述是为了以简化的形式引入一系列概念。下文在实例实施例的详细描述中更详细地描述这些概念。本概述不打算标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不打算用于限制所要求保护的主题的范围。根据目标，可能需要提供具有有限宽度的衬底处理设备。因此，可提供衬底处理设备，所述衬底处理设备包括用于处理舟皿中的多个衬底的第一反应器和第二反应器。所述设备可具有第一升降机和第二升降机，以分别向和从第一反应器和第二反应器转移具有衬底的舟皿。所述设备可具有衬底处置机器人，所述衬底处置机器人被构造且布置成在舟皿与衬底匣盒之间转移衬底。所述设备可包括舟皿转移装置以舟皿转移装置以用于在以下各项之间转移具有衬底的舟皿：衬底装载站，在此处可将衬底用衬底处置机器人转移到舟皿；所述第一升降机和/或所述第二升降机；以及冷却站，其被构造且布置成冷却具有已处理衬底的舟皿。所述设备可在所述第一升降机和所述第二升降机的相对侧上构造且布置有所述衬底装载站和所述冷却站。在衬底装载站和冷却站位于第一升降机和第二升降机的相对侧上的情况下，冷却站可能不会增加设备的宽度。有限的宽度可使得有可能并排堆叠更多处理设备，在洁净室制造场所中在一排内紧靠彼此。出于概述本专利技术和优于现有技术而实现的优势的目的，上文中描述了本专利技术的某些目标和优势。当然，应当理解，未必所有这些目的或优点都可根据本专利技术的任何特定实施例来实现。因此，例如，所属领域的技术人员将认识到，本专利技术可按实现或优化如本文中所教示或建议的一种优势或一组优势但不一定实现如本文中可能教示或建议的其它目的或优势的方式来实施或进行。所有这些实施例都旨在落入本文中所公开的本专利技术的范围内。对于所属领域的技术人员来说，这些和其它实施例将从参考附图的某些实施例的以下详细描述变得显而易见，本专利技术不限于所公开的任何特定实施例。附图说明虽然本说明书以具体地指出并明确地要求保护被视为本专利技术实施例的内容的权利要求书结束，但在结合附图阅读时，可根据本公开的实施例的某些实例的描述更容易地确定本公开的实施例的优势，在附图中：图1A示出根据实施例的炉的实例的示意性俯视图。图1B示出图1A的一部分的放大。图1C示出图1A的实施例的一部分的侧视图。图2示出根据另一实施例的炉的实例的示意性俯视图。具体实施方式尽管下文公开了某些实施例和实例，但所属领域的技术人员将理解，本专利技术延伸超出了本专利技术具体公开的实施例和/或用途以及显而易见的修改和其等效物。因此，希望本专利技术所公开的范围不应受下文所描述特定公开实施例的限制。本文中呈现的图解不打算作为任何特定材料、结构或装置的实际视图，而仅仅是用以描述本公开的实施例的理想化图示。如本文所使用，术语“衬底”或“晶片”可指可使用的或上面可形成装置、电路或膜的任何一种或多种下层材料。术语“半导体装置结构”可指代经过处理或经过部分处理的半导体结构的任何部分，其包含或限定待形成于半导体衬底上或半导体衬底中的半导体装置的有源或无源部件的至少一部分。图1A到1C示出例如根据实施例的炉1的衬底处理设备的实例。炉1可包括具有由两个侧壁5(见图1A)连接的前壁4和后壁6的外壳2。炉1可包括存储装置(未示出)，例如用于存储多个晶片匣盒C的匣盒存储回转料架，所述晶片匣盒各自容纳多个衬底。匣盒存储回转料架可包括多个用于支撑匣盒的平台级。平台级可连接到安装成可围绕竖直轴线旋转的中心支撑件。每个平台级被配置成容纳数个匣盒C。驱动组件可以可操作地连接到中心支撑件，以使中心支撑件随数个平台级一起围绕竖直轴线旋转。炉1可具有具有匣盒处置器臂9的匣盒处置器7，所述匣盒处置器臂被配置成在匣盒存储回转料架、邻近于炉1的外壳2的前壁4的匣盒出入端口11和/或匣盒站15之间转移匣盒C。匣盒处置器7可包括升降机构，用于到达不同高度处的匣盒。用于存储匣盒的每个平台级都可在其中具有切口，切口被设定大小和形状以允许匣盒处置器臂9竖直地穿过其中，且允许平台级在其上支撑匣盒C。可设置分离匣盒处置器7与衬底处置机器人35的内壁19。壁可具有邻近于匣盒站15的可闭合衬底接取开口33，所述开口可被构造且布置成还打开匣盒C。关于用于打开匣盒的可闭合衬底接取开口33的更多信息可从以引用的方式并入本文中的美国专利第6,481,945号中获得。匣盒站15可设有匣盒转盘16以使匣盒C转动和/或将其压靠到可闭合衬底接取开口33。衬底处理设备可包括设有衬底处置臂36以转移衬底的衬底处置机器人35。衬底可从位于匣盒站15上的匣盒C通过可闭合衬底接取开口33传递到衬底装载站38处的衬底舟皿B，且反之亦然。炉可包括衬底处置腔室37，其中容纳衬底处置机器人35。炉1可设有第一反应器和第二反应器45以用于处理多个衬底。使用两个反应器可提高炉1的生产率。外壳2可具有在炉1的全长上延伸的第一和第二侧壁5。炉的侧壁5之间的可限定设备的宽度的距离可在1.3米与2米之间，优选在1.5米与1.8米之间，且最优选在1.6米与1.7米之间，例如约为1.65米。炉1的维护可从炉的后侧6或前侧4执行，使得可能无需在侧壁5中设置门。因此，侧壁5可构造成没有进行维护的主门。因此，多个炉1可并排定位在半导体制造工厂的洁净室中。相邻炉的侧壁5可因此定位地非常接近，或甚至压靠彼此。有利地，多个炉的前侧4可形成壁，在对粒子具有极严格要求的所谓“洁净室”的非常洁净环境中，所述壁可与匣盒输送装置介接。相邻炉的背侧6可与维护通道(较之于前侧4对粒子具有较不严格的要求)介接。维护通道可用于从炉1的背侧进行维护。图1B示出图1A的一部分的细节的俯视图，且图1C示出图1B的一部分的侧视本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种衬底处理设备，所述衬底处理设备包括：/n第一反应器和第二反应器，其用于处理舟皿中的多个衬底；/n第一升降机和第二升降机，其分别向和从所述第一反应器和所述第二反应器转移具有衬底的舟皿；/n衬底处置机器人，其被构造且布置成在衬底装载站处的舟皿与衬底匣盒之间转移衬底，其中所述设备包括舟皿转移装置以用于在以下各项之间转移具有衬底的舟皿：/n所述衬底装载站，/n所述第一升降机和所述第二升降机；以及/n冷却站，其被构造且布置成冷却具有已处理衬底的舟皿，且所述设备在所述第一升降机和所述第二升降机的相对侧上构造且布置有所述衬底装载站和所述冷却站。/n

【技术特征摘要】
20181128 US 16/202,9411.一种衬底处理设备，所述衬底处理设备包括：
第一反应器和第二反应器，其用于处理舟皿中的多个衬底；
第一升降机和第二升降机，其分别向和从所述第一反应器和所述第二反应器转移具有衬底的舟皿；
衬底处置机器人，其被构造且布置成在衬底装载站处的舟皿与衬底匣盒之间转移衬底，其中所述设备包括舟皿转移装置以用于在以下各项之间转移具有衬底的舟皿：
所述衬底装载站，
所述第一升降机和所述第二升降机；以及
冷却站，其被构造且布置成冷却具有已处理衬底的舟皿，且所述设备在所述第一升降机和所述第二升降机的相对侧上构造且布置有所述衬底装载站和所述冷却站。


2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述第一升降机和所述第二升降机中的至少一个、所述衬底装载站和所述冷却站包括舟皿支撑件，所述舟皿支撑件被构造且布置成支撑所述具有衬底的舟皿。


3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中所述舟皿支撑件被构造且布置成在水平平面中静止。


4.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中所述舟皿支撑件为所述第一升降机或所述第二升降机的一部分，且被构造且布置成能在竖直方向上移动。


5.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述衬底装载站被构造且布置在所述第一升降机和所述第二升降机前方，且所述冷却站在所述第一升降机和所述第二升降机后方。


6.根据权利要求5所述的衬底处理设备，其中维护门设置在所述冷却站后方以允许从工具背面进行维护。


7.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述设备包括两个冷却站。


8.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述冷却站设有被构造且布置成提取热气体以冷却所述衬底的气体提取器。


9.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述设备包括两个衬底装载站，且所述衬底处置机器人被构造且布置成在第一衬底装载站或第二衬底装载站处的舟皿与所述衬底匣盒之间转移衬底。


10.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中俯视图中的所述衬底处理设备被配置成大体U形，且被构造且布置成向所述第一反应器和所述第二反应器中的至少一个提供处理气体的气体柜设置在所述U形的支腿的顶部中。


11.根据权利要求10所述的衬底处理设备，其中维护区域配置在所述U形的所述支腿之间。


12.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述设备包括外壳，所述外壳具有与在工具的全长上延伸的...

【专利技术属性】
技术研发人员：J夫卢特，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL