一种容性耦合结构和介质滤波器制造技术

本申请公开了一种容性耦合结构和介质滤波器，其中容性耦合结构包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；金属盲孔和金属通孔连接，且金属盲孔和金属通孔并列设置；金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且隔离圈的形状配合于金属通孔的形状。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。

A capacitive coupling structure and dielectric filter

【技术实现步骤摘要】
一种容性耦合结构和介质滤波器
本申请涉及通信
，尤其涉及一种容性耦合结构和介质滤波器。
技术介绍
随着通信技术的发展，尤其是5G时代的到来，对通信系统架构提出了更高的要求，系统模块要做到高度集成化、小型化等，介质滤波器因具有低损耗、峰值功率大、小型化等特点，在5G通信设备中具有广泛的应用前景。为了提高介质滤波器的性能，通常采用耦合结构，其中容性耦合为常用的耦合结构。现有的容性耦合方式为图案耦合，通过在两谐振腔之间加图案开窗，图案开在腔的边缘位置，通过改变图案大小即两腔之间的窗口大小及到边缘的距离来调节耦合，这种方式虽然结构灵活，但是加工复杂。
技术实现思路
有鉴于此，本申请提供了一种容性耦合结构和介质滤波器，解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。本申请第一方面提供了一种介质滤波器，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；所述金属盲孔和所述金属通孔连接，且所述金属盲孔和所述金属通孔并列设置；所述金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且所述隔离圈的形状配合于所述金属通孔的形状。可选地，所述隔离圈为非金属隔离圈。可选地，所述隔离圈位于所述金属通孔的底部。可选地，所述隔离圈位于所述金属通孔的二分之一处。可选地，所述金属盲孔的形状为规则形状。可选地，所述金属盲孔的形状为矩形。可选地，所述金属通孔的形状为规则形状。可选地，所述金属的形状为矩形。本申请第二方面提供了一种介质滤波器，包括如第一方面所述的容性耦合结构。可选地，所述介质滤波器的谐振腔的数量为4个；4个所述谐振腔呈矩形的四个顶点分布。从以上技术方案可以看出，本申请具有以下优点：本申请中容性耦合结构，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；金属盲孔和金属通孔连接，且金属盲孔和金属通孔并列设置；金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且隔离圈的形状配合于金属通孔的形状。现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。附图说明图1为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的结构示意图；图2为本申请实施例提供的一种介质滤波器的结构示意图；其中，附图标记如下：104、金属盲孔；105、金属通孔；106、隔离圈；101、谐振腔；103、容性耦合结构。具体实施方式本申请实施例提供了一种容性耦合结构和介质滤波器，解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。下面将结合附图对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请实施例中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请实施例保护的范围。在本申请实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本申请实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可更换连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。本申请实施例提供一种容性耦合结构的第一实施例，具体请参阅图1。本实施例中的容性耦合结构，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔104和金属通孔105；金属盲孔104和金属通孔105连接，且金属盲孔104和金属通孔105并列设置；金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状。本实施例中的容性耦合结构由金属盲孔104和金属通孔105构成，其中金属盲孔104和金属通孔105连接，且并列设置，此时的金属盲孔104和金属通孔105并列设置，呈类似于台阶的分布。本实施例中的容性耦合结构适用于同块之间的耦合，故此时没有产品的结合，同时容性耦合结构也可以直接一次加工完毕，不再需要将异块上的图案开窗进行拼合等操作，加工简单。由于介质滤波器的底面通常涂覆有金属层，且金属通孔105是从顶面至底面贯穿介质滤波器的，这样底面涂覆的金属层和金属通孔105内的金属层会连接，此时会衰减2个谐振腔之间的耦合强度，故本实施例中，设置隔离圈106，用于隔离上面描述的两个金属层，使金属通孔105产生容性耦合，提升容性耦合结构的耦合性能。隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状，例如：即当金属通孔105的形状为矩形时，隔离圈106的形状也为矩形。可以理解的是，本实施例中的形状指的是对金属通孔105进行横向切面(即横截面)，得到的横向剖视图的图形。金属盲孔104和金属通孔105内中涂覆的金属层可以为银，现有的介质滤波器的加工工艺中被银工艺和孔加工工艺成熟，可以有效保障产品合格率和性能稳定性。本实施例中的容性耦合结构由金属盲孔104和金属通孔105组成，其中金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且该隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状，现有的介质滤波器中图案开窗的耦合方式，该方式是在介质谐振腔异块之间的耦合，在加工的过程中需要进行产品、图案开窗的结合等，加工过程复杂，而本申请中的介质滤波器，直接在介质滤波器上设置该容性耦合结构，相较于现有图案开窗的方式，不再需要产品或图案开窗之间的结合，加工过程简单，从而解决了现有介质滤波器的容性耦合方式加工复杂的技术问题。以上为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的实施例一，以下为本申请实施例提供的一种容性耦合结构的实施例二，具体请参阅图1。本实施例中的容性耦合结构，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔104和金属通孔105；金属盲孔104和金属通孔105连接，且金属盲孔104和金属通孔105并列设置；金属通孔105内设置有用于耦合的隔离圈106，且隔离圈106的形状配合于金属通孔105的形状。可以理解的是，金属盲孔104和金属通孔105的分布可以是，金属盲孔104在靠近介质滤波器中心的位置处，当然也可以设置金属通孔105在靠近介质本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种容性耦合结构，其特征在于，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；/n所述金属盲孔和所述金属通孔连接，且所述金属盲孔和所述金属通孔并列设置；/n所述金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且所述隔离圈的形状配合于所述金属通孔的形状。/n

【技术特征摘要】
1.一种容性耦合结构，其特征在于，包括：开设于介质滤波器上的金属盲孔和金属通孔；
所述金属盲孔和所述金属通孔连接，且所述金属盲孔和所述金属通孔并列设置；
所述金属通孔内设置有用于耦合的隔离圈，且所述隔离圈的形状配合于所述金属通孔的形状。


2.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述隔离圈为非金属隔离圈。


3.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述隔离圈位于所述金属通孔的底部。


4.根据权利要求1所述的容性耦合结构，其特征在于，所述隔离圈位于所述金属通孔的二分之一处。


5.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：龙志勇，肖利蒙，何钟鑫，黄伟杰，黄万强，
申请(专利权)人：广东国华新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44