【技术实现步骤摘要】
光罩识别系统及其识别方法、光刻设备
本专利技术涉及半导体设备
，尤其涉及一种光罩识别系统及其识别方法、光刻设备。
技术介绍
光刻是指在光照作用下，将光罩上的图形转移到硅片上的技术，它是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤。其中，光罩也称光掩模版、掩模版，其上刻有图形，一般需要在光罩表面上覆盖一层薄膜以保护所述图形。在生产过程中，光罩不使用时放入光罩盒内保存。当需要使用时，将光罩盒放到光刻设备的工作台上，然后光刻设备的转移装置将光罩取出并放置于光刻设备的掩模台上。由于光罩盒的外形相差不大，导致无法通过光罩盒的外形识别其内存储的光罩型号。由于光罩不同，其上的薄膜的宽度及高度也不同，为避免光罩在固定及转移过程中因其薄膜触碰到光刻设备的零部件被损伤，需要对光罩进行识别。现有技术中，主要是通过人眼识别的方法来防止类似情况发生。但人眼识别存在误操作的可能，也容易导致光罩的薄膜被损伤。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光罩识别系统及其识别方法以及光刻设备，能够避免放错光罩的情况，提...
【技术保护点】
1.一种光罩识别系统，其特征在于，包括工作台及光罩存储模块，所述光罩存储模块用于存储光罩，所述光罩存储模块的底面设置有用于标识所述光罩的标识单元，所述工作台的顶面设置有识别单元，当所述识别单元识别到所述标识单元时，将所述光罩存储模块放置在所述工作台上。/n
【技术特征摘要】
1.一种光罩识别系统，其特征在于，包括工作台及光罩存储模块，所述光罩存储模块用于存储光罩，所述光罩存储模块的底面设置有用于标识所述光罩的标识单元，所述工作台的顶面设置有识别单元，当所述识别单元识别到所述标识单元时，将所述光罩存储模块放置在所述工作台上。
2.如权利要求1所述的光罩识别系统，其特征在于，所述光罩存储模块的底面包括功能区及非功能区，所述标识单元位于所述非功能区。
3.如权利要求1所述的光罩识别系统，其特征在于，所述标识单元包括可识别图像，所述可识别图像携带对应的光罩的信息，所述识别单元包括图像识别器，所述图像识别器识别所述可识别图像并获取所述光罩的信息。
4.如权利要求3所述的光罩识别系统，其特征在于，所述光罩包括基板及覆盖于所述基板上的保护薄膜，所述光罩的信息包括所述保护薄膜的尺寸。
5.如权利要求3所述的光罩识别系统，其特征在于，所述可识别图像为条形码、二维码或射频卡。
6.如权利要求1所述的光罩识别系统，其特征在于，所述光罩存储模块的底面设置有若干凸起，所述工作台的顶面设置有与所述凸起一...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱晓斌，蔡亮，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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