【技术实现步骤摘要】
测量装置及方法、光刻系统、曝光装置及方法本申请是申请日为2016年02月23日，申请号为201680012129.1，专利技术名称为测量装置、光刻系统及曝光装置、以及管理方法、重迭测量方法及组件制造方法的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及测量装置、光刻系统及曝光装置、以及管理方法、重迭测量方法及组件制造方法，特别涉及测量在基板上形成的多个标记的位置信息的测量装置以及具备具有载置结束了用该测量装置进行的多个标记的位置信息的测量的基板的基板载台的曝光装置与所述测量装置的光刻系统、及具备所述测量装置的曝光装置、以及管理基板上多个区划区域的排列的变动的管理方法、以基板为测量对象的重迭测量方法、及使用所述光刻系统或曝光装置的组件制造方法。
技术介绍
在制造半导体组件等的光刻步骤中，在晶圆或玻璃板片等的基板(以下，统称为晶圆)上重迭形成多层的电路图案，但当在各层间的重迭精度不良时，半导体组件等即无法发挥既定电路特性，有时可能成为不良品。因此，一般在晶圆上的多个照射(shot)区域的各个预先形成标记(对准标记)，检测该标...
【技术保护点】
1.一种测量装置，取得通过对被保持在曝光装置所具有的基板保持具上的基板的曝光处理而形成于所述基板的标记的位置信息，其特征在于，包括：/n第1检测系统，检测形成于所述基板的所述标记；/n载台，在与所述基板保持具不同的保持构件上保持所述基板且能够移动；/n位置测量系统，取得所述载台的位置信息；以及/n控制装置，根据所述第1检测系统的检测结果、与使用所述位置测量系统而取得的所述载台的位置信息，求出形成于所述基板上的多个区划区域各自的多个标记的位置信息；且/n将根据所述多个标记的位置信息所获得的所述多个所述区划区域的位置信息与所述区划区域的设计位置信息的差，作为进行了所述基板的曝光...
【技术特征摘要】
20150223 JP 2015-0329101.一种测量装置，取得通过对被保持在曝光装置所具有的基板保持具上的基板的曝光处理而形成于所述基板的标记的位置信息，其特征在于，包括：
第1检测系统，检测形成于所述基板的所述标记；
载台，在与所述基板保持具不同的保持构件上保持所述基板且能够移动；
位置测量系统，取得所述载台的位置信息；以及
控制装置，根据所述第1检测系统的检测结果、与使用所述位置测量系统而取得的所述载台的位置信息，求出形成于所述基板上的多个区划区域各自的多个标记的位置信息；且
将根据所述多个标记的位置信息所获得的所述多个所述区划区域的位置信息与所述区划区域的设计位置信息的差，作为进行了所述基板的曝光处理的所述曝光装置的晶圆格子的变动信息而求出。
2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，根据形成在通过与所述曝光装置不同的其他曝光装置而进行了曝光处理的其他基板的标记的位置信息，求出所述其他曝光装置的晶圆格子的变动信息。
3.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，根据通过所述曝光装置在与所述曝光处理不同的时间点进行的曝光处理而形成于基板上的标记的位置信息，求出与所述曝光装置相关的多个所述晶圆格子的变动信息。
4.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量装置更包括储存所述晶圆格子的变动的记忆装置。
5.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述晶圆格子的变动信息，从所述多个所述区划区域的位置信息与所述区划区域的设计位置信息的差，通过统计运算而被求出。
6.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量装置更包括第2检测系统，该第2检测系统检测所述基板表面的高度；
所述控制装置根据所述第2检测系统的检测结果、与使用所述位置测量系统而取得的所述载台的位置信息，求出所述基板表面的高度分布信息。
7.一种曝光装置，其特征在于，包括：
基板载台，将基板保持于基板保持具上且能够移动；以及
曝光控制装置，根据权利要求1至6中任一项所述的测量装置取得的所述晶圆格子的变动信息，控制所述基板载台；且
将保持于所述基板保持具上的所...
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