基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置以及基板处理方法。谋求超临界干燥处理的効率化。本公开的基板处理装置为一种使用超临界状态的处理流体进行使基板干燥的干燥处理的基板处理装置，该基板处理装置具备处理容器和多个保持部。处理容器为进行干燥处理的容器。多个保持部在处理容器的内部分别保持不同的基板。

Substrate treatment device and substrate treatment method

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置以及基板处理方法
本公开涉及基板处理装置以及基板处理方法。
技术介绍
以往，作为抑制图案塌陷而且去除残留于基板的表面水分的技术，公知有使用在高压下得到的超临界流体使基板干燥的超临界干燥技术。专利文献1：日本特开2011-009299号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本公开提供一种谋求超临界干燥处理的効率化的技术。用于解决问题的方案本公开的一形态的基板处理装置为使用超临界状态的处理流体进行使基板干燥的干燥处理的基板处理装置，该基板处理装置具备处理容器和多个保持部。处理容器为进行干燥处理的容器。多个保持部在处理容器的内部分别保持不同的基板。专利技术的效果根据本公开，能够谋求超临界干燥处理的効率化。附图说明图1是从上方观察第1实施方式的基板处理系统的示意性的剖视图。图2是表示在第1实施方式的基板处理系统中所执行的一系列的基板处理的步骤的流程图。图3是表示液处理单元的结构例的图。图4是表示第1实施方式的干燥单元的结构的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其使用超临界状态的处理流体进行使基板干燥的干燥处理，其中，该基板处理装置具备：/n处理容器，其进行所述干燥处理；以及/n多个保持部，其在所述处理容器的内部分别保持不同的所述基板。/n

【技术特征摘要】
20181122 JP 2018-2189001.一种基板处理装置，其使用超临界状态的处理流体进行使基板干燥的干燥处理，其中，该基板处理装置具备：
处理容器，其进行所述干燥处理；以及
多个保持部，其在所述处理容器的内部分别保持不同的所述基板。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述多个保持部在所述处理容器的内部在铅垂方向上隔开间隔地排列。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具备：
第1盖体，其能够对在所述处理容器的第1侧面设置的第1开口进行开闭；以及
第2盖体，其能够对在所述处理容器的第2侧面设置的第2开口进行开闭，
所述多个保持部中的一部分的所述保持部设于所述第1盖体，
所述多个保持部中的另一部分的所述保持部设于所述第2盖体。


4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，
在所述处理容器的内部，所述多个保持部的所述一部分的所述保持部和所述多个保持部的所述另一部分的所述保持部交错地排列。


5.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，
所述第2侧面配置在所述处理容器所具有的多个侧面中的与所述第1侧面相对的位置。


6.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，
所述第2侧面配置在所述处理容器所具有的多个侧面中的与所述第1侧面相对的位置。


7.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具备盖体，该盖体能够对在所述处理容器的侧面设置的开口进行开闭，
所述多个保持部设于所述盖体。


8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具备盖体，该盖体能够对在上部开放的所述处理容器进行开闭，
所述多个保持部设于所述盖体。


9.根据权利要求2～8中任一项所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具备：
供给部，在所述处理容器的内部，该供给部配置于比在所述多个保持部中的最上层的所述保持部所保持的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：稻富弘朗，枇杷聪，冈村聪，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP