显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:24272386 阅读:69 留言:0更新日期:2020-05-23 14:19
本实用新型专利技术公开一种显示面板及显示装置,显示面板包括相对的阵列基板和彩膜基板、填充两者之间的液晶层、覆盖彩膜基板远离液晶层一侧的偏光片,阵列基板上设有凸起结构和覆盖凸起结构的反射层,反射层靠近液晶层设置;阵列基板包括设置在衬底上的多个像素单元,每个像素单元具有相邻的中心区域和边缘区域,中心区域的厚度大于边缘区域的厚度;凸起结构包括中心区域的第一凸起和边缘区域的第二凸起,第二凸起的侧壁与阵列基板所在的平面之间的第二夹角与第一凸起的侧壁与阵列基板所在的平面之间的第一夹角相同,从而确定第一凸起和第二凸起的尺寸。该显示面板的各个方向的反射率均一,有效提高显示装置的显示效果。

Display panel and display device

【技术实现步骤摘要】
显示面板及显示装置
本技术一般显示
,具体涉及一种显示面板及显示装置。
技术介绍
反射式显示技术,如液晶电子价签(LCDESL)作为一种能够显示多种颜色画面的全反射产品越来越受到关注。在反射式显示装置中,为了利用外部光进行显示,需要在显示装置中包括具有散射功能的散射膜层。为了降低成本,目前在阵列基板上增加设置凹凸图形(bump)工艺,同时上层增加反射层来取代传统的散热膜。然而,在实际应用中由于不同区域全反射产品的膜厚不同,从而导致Bump的形貌存在差异,导致现有的反射式显示装置存在各个方向的反射率不均一的问题。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种显示面板及显示装置。第一方面,本技术提供一种显示面板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、填充在所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层,以及覆盖所述彩膜基板远离所述液晶层一侧的偏光片,其特征在于,所述阵列基板上形成有凸起结构以及覆盖所述凸起结构的反射层,所述反射层靠近所述液晶层设置;所述阵列基板包括设置在衬底上的多个像素单元,每个像素单元具有相邻分布的中心区域和边缘区域,所述中心区域的厚度大于所述边缘区域的厚度;所述凸起结构包括分布于所述中心区域的第一凸起和分布于所述边缘区域的第二凸起,所述第一凸起的侧壁与所述阵列基板所在的平面形成第一夹角θ1,所述第二凸起的侧壁与所述阵列基板所在的平面形成第二夹角θ2,所述第二夹角θ2与所述第一夹角θ1相同;所述第一凸起和所述第二凸起呈中心对称结构,所述第一凸起在所述衬底上的正投影为第一图形,所述第二凸起在所述衬底上的正投影为第二图形,所述第二图形的结构和所述第一图形的结构相同,L1表示预设的所述第一图形的最大宽度,所述第一凸起的高度H1=(L1/2)*tanθ1;H2表示预设的所述第二凸起的高度,所述第二图形的最大宽度L2=L1*(H2/H1)。优选的,所述第一夹角θ1通过以下关系式确定:θ1=θ2nd入射=θ折射/2;θ折射=arcsin(sinθ1st入射*n空气/nce11);其中,θ1st入射表示所述偏光片表面光线的入射角,θ2nd入射表示所述反射层表面光线的入射角;n空气表示空气的折射率,nce11表示液晶/彩膜的折射率。优选的,所述第一凸起和第二凸起的边数相同且不小于4。优选的,所述第一凸起呈六边形或圆形。优选的,其特征在于,所述凸起结构为波浪形凸起结构。优选的,所述像素单元包括薄膜晶体管、位于所述中心区域内的像素电极、覆盖所述薄膜晶体管和所述像素电极的钝化层、位于所述钝化层远离所述衬底一侧的凸起结构以及所述反射层,所述薄膜晶体管包括栅极、有源层、漏电极、源电极以及将所述栅极与所述有源层、所述漏电极和所述源电极绝缘隔开的栅绝缘层,所述栅绝缘层覆盖所述边缘区域。优选的,所述阵列基板还包括设于所述衬底一侧的多条栅线、多条数据线;所述薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管或底栅型薄膜晶体管,每相邻两行的像素单元之间设置有一条所述栅线,每相邻两列像素单元之间设置有一条所述数据线;或者,所述薄膜晶体管为双栅型薄膜晶体管,每相邻两行的像素单元之间设置有两条所述栅线,每相邻两列像素单元之间设置有一条所述数据线。优选的,在垂直于所述衬底的方向上,正对所述阵列基板中的数据线和薄膜晶体管的位置处未设置所述凸起结构。第二方面,本技术提供一种显示装置,包括上述显示面板。根据该技术的实施例提供的技术方案,显示面板的不同区域的凸起的侧壁与阵列基板所在的平面的夹角相同,通过设计并确定不同区域内凸起的尺寸,从而确保显示面板的各个方向的反射率均一,有效提高显示装置的显示效果。附图说明通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显:图1为现有技术的无bump图形的反射式显示装置的显示面板中的光路示意图;图2为现有技术的反射式显示装置的阵列基板上的bump图形示意图;图3为现有技术的中心区域bump图形在显示镜下的实拍图;图4为现有技术的边缘区域bump图形在显示镜下的实拍图;图5为本技术实施例提供的显示面板的阵列基板上bump图形示意图;图6为本技术实施例提供的显示面板的光路示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关技术,而非对该技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与技术相关的部分。需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。如图1所示,反射式显示装置包括相对设置的阵列基板1和彩膜基板2、填充在阵列基板1与彩膜基板2之间的液晶层3,以及覆盖彩膜基板2远离液晶层3一侧的偏光片4,阵列基板上覆有一层反射层5。以阵列基板内未设置bump图案为例,例如外部光线以30°入射时,首先会到达偏光片4的表面(称为1st入射),到达偏光片4后会产生一次折射,光线入射到阵列基板最上层的反射层上,如果没有Bump图形,根据反射定律,射到反射层表面(2nd入射)的光线会以图1的光路射出。针对阵列基板内无bump图形,无法确保光线有效反射,从而影响显示画面的问题,目前已有的设计在阵列基板的反射层背向液晶层的一侧形成Bump图形,该Bump图形是指由树脂层通过曝光、显影形成的一个个凸起,在阵列基板上由树脂层形成。如图2所示的全反射显示装置的阵列基板,虚线框10’示意中心区域,虚线框20’示意边缘区域,中心区域的厚度大于边缘区域的厚度,由于阵列基板各区域的膜厚存在差异,结合图3和图4,导致不同区域内的凸起的形貌存在差异。以两个阵列基板为例,对两个阵列基板的中心区域、边缘区域的高度进行测量,得到表格1所示的数据:表格1从以上的数据中我们可以明显看出,中心区域与边缘区域高度明显存在差异,边缘区域的Bump高度为中心区域的Bump高度的一半左右,但目前边缘区域的Bump宽度与中心区域的Bump的宽度基本相同,进而在相同的曝光速率下边缘区域、中心区域的Bump高度存在差异,导致Bump形貌存在差异,反射率不均一。如图5和图6所示,本技术的实施例提供一种显示面板,包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12、填充在阵列基板11与彩膜基板12之间的液晶层13,以及覆盖彩膜基板12远离液晶层13一侧的偏光片14,阵列基板11上形成有凸起结构15以及覆盖凸起结构的反射层16,反射层16靠近液晶层13设置;阵列基板11包括设置在衬底上的多个像素单元,每个像素单元具有相邻分布的中心区域和边缘区域,中心区域的厚度大于边缘区域的厚度,参照图5,虚线框20示意中心区域,虚线框30示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、填充在所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层,以及覆盖所述彩膜基板远离所述液晶层一侧的偏光片,其特征在于,所述阵列基板上形成有凸起结构以及覆盖所述凸起结构的反射层,所述反射层靠近所述液晶层设置;/n所述阵列基板包括设置在衬底上的多个像素单元,每个像素单元具有相邻分布的中心区域和边缘区域,所述中心区域的厚度大于所述边缘区域的厚度;/n所述凸起结构包括分布于所述中心区域的第一凸起和分布于所述边缘区域的第二凸起,所述第一凸起的侧壁与所述阵列基板所在的平面形成第一夹角θ

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、填充在所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层,以及覆盖所述彩膜基板远离所述液晶层一侧的偏光片,其特征在于,所述阵列基板上形成有凸起结构以及覆盖所述凸起结构的反射层,所述反射层靠近所述液晶层设置;
所述阵列基板包括设置在衬底上的多个像素单元,每个像素单元具有相邻分布的中心区域和边缘区域,所述中心区域的厚度大于所述边缘区域的厚度;
所述凸起结构包括分布于所述中心区域的第一凸起和分布于所述边缘区域的第二凸起,所述第一凸起的侧壁与所述阵列基板所在的平面形成第一夹角θ1,所述第二凸起的侧壁与所述阵列基板所在的平面形成第二夹角θ2,所述第二夹角θ2与所述第一夹角θ1相同;
所述第一凸起和所述第二凸起呈中心对称结构,所述第一凸起在所述衬底上的正投影为第一图形,所述第二凸起在所述衬底上的正投影为第二图形,所述第二图形的结构和所述第一图形的结构相同;
L1表示预设的所述第一图形的最大宽度,所述第一凸起的高度H1=(L1/2)*tanθ1;
H2表示预设的所述第二凸起的高度,所述第二图形的最大宽度L2=L1*(H2/H1)。


2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一夹角θ1通过以下关系式确定:
θ1=θ2nd入射=θ折射/2;
θ折射=arcsin(sinθ1st入射*n空气/nce11);
其中,θ1st入射表示所述偏光片表面光线的入射角,θ2nd入射表示所述反射层表面光线的入射角;n空气表示空气的折射率,nce11表示液晶/彩膜的...

【专利技术属性】
技术研发人员:尹岩岩王智勇邢红燕龙志强谷印麟王明景孙琦付伟鹏
申请(专利权)人:北京京东方光电科技有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1