一种等离子增强旋转炉装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种等离子增强旋转炉装置，包括操作安装台以及分布在操作安装台上的支撑架，支撑架顶端水平安装有旋转炉管，旋转炉管中间安装有蒸发舟，旋转炉管周侧一端安装有射频线圈，操作安装台中间安装有与射频线圈相连的射频电源。本实用新型专利技术特别适合用于无机复合粉末的热处理以及粉末表面的均匀包覆，对于粉体CVD包覆沉积有着更佳的性能优势，结构简单，操作方便，具有良好的实用与推广价值。

A plasma enhanced rotary furnace device

【技术实现步骤摘要】
一种等离子增强旋转炉装置
本技术属于旋转炉领域，尤其涉及一种等离子增强旋转炉装置。
技术介绍
目前，旋转炉作为一种制备新型材料时所必须使用的设备，已经广泛应用在研究院校和实验当中。现在技术中的旋转炉，功能比较单一。对于多功能的粉料热处理及表面包覆比较少涉及，因此如何提高包覆的均匀性成为亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种等离子增强旋转炉装置。为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本技术通过以下技术方案实现：一种等离子增强旋转炉装置，包括操作安装台以及分布在操作安装台上的支撑架，支撑架顶端水平安装有旋转炉管，旋转炉管中间安装有蒸发舟，旋转炉管周侧一端安装有射频线圈，操作安装台中间安装有与射频线圈相连的射频电源；所述支撑架底部安装有旋转驱动电机，旋转驱动电机输出端与旋转炉管传动连接；所述旋转炉管一端通过抽气管连接有真空泵；所述旋转炉管另一端通过送气管连接有四通道质子流量计控制仪；所述四通道质子流量计控制仪上安装有与蒸发舟相连的蒸发舟加热控制器；所述支撑架底部一端与操作安装台铰接相连，支撑架底部另一端与操作安装台接触相连，支撑架底部中间与操作安装台通过升降机构相连。进一步地，所述旋转驱动电机输出端与旋转炉管通过驱动连接机构相连，该驱动连接包括传动带与传动轮，旋转驱动电机输出端连接有传动带，旋转炉管周侧安装有与传动带相连的传动轮。进一步地，所述四通道质子流量计控制仪包括移动柜以及安装在移动柜内的质量流量计和不锈钢混气罐。进一步地，所述真空泵底部安装有移动支撑座，移动支撑座包括与真空泵底部固定相连的支撑平板以及均布在支撑平板底部的自锁万向轮。进一步地，所述升降机构包括升降气缸，升降气缸底端与操作安装台铰接相连，升降气缸顶端与支撑架铰接相连。进一步地，所述支撑架包括支撑底板以及对称设置在支撑架两端的支撑立板，支撑立板顶端与旋转炉管转动连接。进一步地，所述旋转炉管外侧设有外炉体，外炉体安装有用于更换旋转炉管的炉门。本技术的有益效果是：本技术特别适合用于无机复合粉末的热处理以及粉末表面的均匀包覆，对于粉体CVD包覆沉积有着更佳的性能优势，结构简单，操作方便，具有良好的实用与推广价值。附图说明此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：图1是本技术的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“开孔”、“上”、“下”、“厚度”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。如图1所示的一种等离子增强旋转炉装置，包括操作安装台10以及分布在操作安装台10上的支撑架11，支撑架11顶端水平安装有旋转炉管1，旋转炉管1中间安装有蒸发舟3，蒸发舟3集成在前端的带钨丝加热的坩埚舟，可以对前驱体进行蒸发，用于后续的混合物理化学气相沉积，旋转炉管1周侧一端安装有射频线圈9，操作安装台10中间安装有与射频线圈9相连的500W射频电源2；支撑架11底部安装有旋转驱动电机8，旋转驱动电机8输出端与旋转炉管1传动连接，旋转炉管1可旋转从而可有效地提高内部物料粉末热处理的均匀性；旋转炉管1一端通过抽气管连接有真空泵6；旋转炉管1另一端通过送气管连接有四通道质子流量计控制仪4；四通道质子流量计控制仪4上安装有与蒸发舟3相连的蒸发舟加热控制器7；支撑架11底部一端与操作安装台10铰接相连，支撑架11底部另一端与操作安装台10接触相连，支撑架11底部中间与操作安装台10通过升降机构5相连。其中，旋转驱动电机8输出端与旋转炉管1通过驱动连接机构相连，该驱动连接包括传动带与传动轮，旋转驱动电机8输出端连接有传动带，旋转炉管1周侧安装有与传动带相连的传动轮；四通道质子流量计控制仪4包括移动柜以及安装在移动柜内的质量流量计和不锈钢混气罐，型号为GSL-4Z；真空泵6底部安装有移动支撑座12，移动支撑座12包括与真空泵6底部固定相连的支撑平板以及均布在支撑平板底部的自锁万向轮；升降机构5包括升降气缸，升降气缸底端与操作安装台10铰接相连，升降气缸顶端与支撑架11铰接相连，使得支撑架11与操作安装台10的倾斜角度为0到25度，可更方便的实现取放料；支撑架11包括支撑底板以及对称设置在支撑架11两端的支撑立板，支撑立板顶端与旋转炉管1转动连接；旋转炉管1外侧设有外炉体，外炉体安装有用于更换旋转炉管1的炉门，炉门可打开方便更换。具体工作时，先把工作粉料放入炉管,然后通过真空泵6抽取旋转炉管1内空气，然后由四通道质子流量计控制仪4通入工作所需气体，形成工作所需气体环境，旋转旋转炉管1并启动蒸发舟加热控制器7，控制蒸发舟3加热，在加热到所需的工作温度情况下，开启射频电源2从而实现对实验物料的均匀热处理以及粉料表面的均匀包覆的过程；此套设备装置特别适合用于无机复合粉末的热处理以及粉末表面的均匀包覆，对于粉体CVD包覆沉积有着更佳的性能优势。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本技术的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子增强旋转炉装置，其特征在于：包括操作安装台(10)以及分布在操作安装台(10)上的支撑架(11)，支撑架(11)顶端水平安装有旋转炉管(1)，旋转炉管(1)中间安装有蒸发舟(3)，旋转炉管(1)周侧一端安装有射频线圈(9)，操作安装台(10)中间安装有与射频线圈(9)相连的射频电源(2)；/n所述支撑架(11)底部安装有旋转驱动电机(8)，旋转驱动电机(8)输出端与旋转炉管(1)传动连接；/n所述旋转炉管(1)一端通过抽气管连接有真空泵(6)；/n所述旋转炉管(1)另一端通过送气管连接有四通道质子流量计控制仪(4)；/n所述四通道质子流量计控制仪(4)上安装有与蒸发舟(3)相连的蒸发舟加热控制器(7)；/n所述支撑架(11)底部一端与操作安装台(10)铰接相连，支撑架(11)底部另一端与操作安装台(10)接触相连，支撑架(11)底部中间与操作安装台(10)通过升降机构(5)相连。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子增强旋转炉装置，其特征在于：包括操作安装台(10)以及分布在操作安装台(10)上的支撑架(11)，支撑架(11)顶端水平安装有旋转炉管(1)，旋转炉管(1)中间安装有蒸发舟(3)，旋转炉管(1)周侧一端安装有射频线圈(9)，操作安装台(10)中间安装有与射频线圈(9)相连的射频电源(2)；
所述支撑架(11)底部安装有旋转驱动电机(8)，旋转驱动电机(8)输出端与旋转炉管(1)传动连接；
所述旋转炉管(1)一端通过抽气管连接有真空泵(6)；
所述旋转炉管(1)另一端通过送气管连接有四通道质子流量计控制仪(4)；
所述四通道质子流量计控制仪(4)上安装有与蒸发舟(3)相连的蒸发舟加热控制器(7)；
所述支撑架(11)底部一端与操作安装台(10)铰接相连，支撑架(11)底部另一端与操作安装台(10)接触相连，支撑架(11)底部中间与操作安装台(10)通过升降机构(5)相连。


2.根据权利要求1所述的一种等离子增强旋转炉装置，其特征在于：所述旋转驱动电机(8)输出端与旋转炉管(1)通过驱动连接机构相连，该驱动连接包括传动带与传动轮，旋转驱动电机(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：邾根祥，朱沫浥，方辉，李东明，
申请(专利权)人：合肥科晶材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34