涂覆量的计测方法技术

技术编号:24201466 阅读:21 留言:0更新日期:2020-05-20 12:55
本发明专利技术提供一种即使在输送时产生计测位置的偏移也能够准确地计测涂覆量的涂覆量的计测方法。一种对利用涂覆机(30)涂布到被输送的片状基材(2)的涂覆物(3)的涂覆量进行计测的涂覆量的计测方法,其包括:第一轮廓制作工序,在涂覆机的上游侧沿输送方向取得表示片状基材的凹凸形状的第一计测信息,制作在片状基材上设定出的计测范围的第一凹凸轮廓;第二轮廓制作工序,在涂覆机的下游侧沿输送方向取得表示片状基材的凹凸形状的第二计测信息,制作计测范围的第二凹凸轮廓;以及涂覆量算出工序,基于将第一凹凸轮廓的形状和所述第二凹凸轮廓的形状匹配时的位置关系,根据第一计测信息和第二计测信息之间的差量来算出涂覆量。

Measuring method of coating amount

【技术实现步骤摘要】
涂覆量的计测方法
本专利技术涉及一种涂覆量的计测方法。
技术介绍
以往,采用的是一边输送燃料电池用的碳纸等片状基材一边计测涂布于片状基材的涂覆量的方法。例如在专利文献1中,公开了在涂覆材料即将被涂布于片材之前对该涂覆材料的密度及涂布量的均匀性进行评价的方法。在先技术文献专利文献1:日本特开2010-205679号公报另外,存在使用对涂覆前后的片状基材的厚度、质量等进行计测的传感器来算出涂覆量的计测方法。具体而言,在对片状基材进行涂覆的涂覆机的上游侧和下游侧配置传感器,根据计测值的差量来算出涂覆量。在该情况下,为了对片状基材的相同的位置进行计测,需要考虑片状基材的输送速度、传感器间的距离等,来准确地确定在算出计测值的差量时与涂覆前的计测值相对应的涂覆后的计测值。然而,当在片状基材产生挠曲等且片状基材的输送路径长度发生变形时,存在将在涂覆前后不同位置处的计测值的差量作为涂覆量算出的情况。关于上述的问题,参照图1A、图1B进行说明。图1A是示意性地表示涂覆装置1’及在涂覆后局部挠曲了的片状基材2’的主视图。涂覆装置1’具备:第一传感器10’,其计测涂覆前的片状基材2’的质量等;第二传感器20’,其计测涂覆后的片状基材2’的质量等;以及涂覆机30’,其处于第一传感器10’及第二传感器20’之间。从图1A的右侧朝向左侧输送片状基材2’。如图1A所示,因涂覆物3’的重量等会在涂覆后的片状基材2’的局部产生挠曲。图1B是表示片状基材2’的涂覆前后的计测值的轮廓的图。如图1B所示,由于片状基材2’的挠曲,导致实际上重合的涂覆前后的计测值的轮廓产生偏移。因此,成为根据在涂覆前后不同的计测位置处的计测值的差量来算出涂覆量,会产生相对于实际的涂覆量的误差。特别是,在燃料电池用的碳纸等片状基材的情况下,基材的面内的质量不规则地偏置。因此,当根据在涂覆前后不同的位置处的计测值来算出涂覆量时,相对于实际的涂覆量的误差会变大。
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术是鉴于上述情况而完成的,其目的在于,提供一种即使在输送时产生计测位置的偏移也能够准确地计测涂覆量的涂覆量的计测方法。用于解决课题的方案(1)本专利技术的涂覆量的计测方法是对利用涂覆机(例如,后述的涂覆机30)涂布到被输送的片状基材(例如,后述的片状基材2)的涂覆物(例如,后述的涂覆物3)的涂覆量进行计测的涂覆量的计测方法,其中,该涂覆量的计测方法包括:第一轮廓制作工序,在该工序中,在所述涂覆机的上游侧取得表示所述片状基材的凹凸形状的第一计测信息,制作在所述片状基材上设定出的计测范围的第一凹凸轮廓;第二轮廓制作工序,在该工序中,在所述涂覆机的下游侧取得表示所述片状基材的凹凸形状的第二计测信息,制作所述计测范围的第二凹凸轮廓;以及涂覆量算出工序,在该工序中,基于将所述第一凹凸轮廓的形状和所述第二凹凸轮廓的形状匹配时的位置关系,根据所述第一计测信息和所述第二计测信息之间的差量来算出涂覆量。根据上述(1)所记载的方法,即使在第二计测信息的相对于第一计测信息的计测位置在输送方向上发生偏移的情况下,也能够使第一凹凸轮廓的形状和第二凹凸轮廓的形状相匹配,从而修正第二计测信息在输送方向上的偏移。由此,能够准确地计测涂覆量。(2)在(1)所记载的涂覆量的计测方法中,也可以是,所述第一凹凸轮廓及所述第二凹凸轮廓是所述片状基材的输送方向上的轮廓。根据上述(2)所记载的方法,由于能够利用输送方向上的轮廓来修正输送方向上的偏移,因此能够缩小传感器的宽度方向上的计测范围。(3)在(1)或(2)所记载的涂覆量的计测方法中,也可以是,所述第一凹凸轮廓及所述第二凹凸轮廓是与所述片状基材的输送方向正交的方向上的轮廓。根据上述(3)所记载的方法,由于利用与输送方向正交的方向上的轮廓来修正输送方向上的偏移,因此能够与规定的计测位置处的第二计测信息的取得同时地制作对应的第二凹凸轮廓。由此,与第二计测信息的取得大致同时地使涂覆前后的凹凸轮廓匹配,从而能够准确地算出涂覆量。专利技术效果根据本专利技术,能够提供即使在输送时产生计测位置的偏移也能够准确地计测涂覆量的涂覆量的计测方法。附图说明图1A是示意性地表示涂覆装置和在涂覆后局部挠曲了的片状基材的主视图。图1B是表示片状基材的涂覆前后的计测值的凹凸轮廓的图。图2是示意性地表示本专利技术的第一实施方式的涂覆装置及片状基材的主视图。图3是表示本专利技术的第一实施方式的基于第一传感器及第二传感器实现的片状基材上的计测范围的立体图。图4是表示本专利技术的第一实施方式的第一传感器、第二传感器及控制部的结构的框图。图5是表示本专利技术的第一实施方式的第一凹凸轮廓、第二凹凸轮廓及两凹凸轮廓的差量的图。图6是表示本专利技术的第二实施方式的片状基材和基于第一传感器及第二传感器实现的片状基材上的计测范围的立体图。图7是表示本专利技术的第三实施方式的片状基材和基于第一传感器及第二传感器实现的片状基材上的计测范围的立体图。图8是示意性地表示本专利技术的第三实施方式的涂覆装置及片状基材的剖视图。附图标记说明:1、1’、1A、1B涂覆装置2、2’、2A、2B片状基材3、3’涂覆物10、10’、10A、10B第一传感器20、20’、20A、20B第二传感器30、30’涂覆机。具体实施方式以下,参照附图对本专利技术的第一实施方式进行说明。但是,本专利技术并不限定于以下的实施方式。首先,参照图2及图3对第一实施方式的涂覆装置1和片状基材2进行说明。图2是涂覆装置1及片状基材2的主视图,图3是表示基于涂覆装置1的第一传感器10及第二传感器20实现的片状基材2上的计测范围的立体图。在图3中,省略了涂覆机30及控制部40的图示。另外,图4是表示第一传感器、第二传感器及控制部40的结构的框图。片状基材2是细长的片状碳纸。在图2及图3中,片状基材2借助涂覆装置1被朝向从右向左的方向的输送。碳纸的面内的质量不规则地偏置,如图2所示,在表面具有凹凸形状。因此,面内的质量分布、表面的凹凸等对于每张碳纸来说是固有的。涂覆装置1是能够一边输送片状基材2一边对涂覆物3进行涂布,并且能够计测涂覆物3的涂覆量的装置。如图2所示,涂覆装置1构成为包括第一传感器10、第二传感器20、涂覆机30以及控制部40。第一传感器10是在涂覆机30的上游侧对表示涂覆前的片状基材2的凹凸形状的第一计测信息进行计测的一对非接触传感器。本实施实施方式的第一计测信息是片状基材2的计测位置处的质量。一对第一传感器10配置成以片状基材2为中心在图2中上下对置,根据X射线的穿透量来连续地计测片状基材2的质量。第一传感器10电连接于后述的控制部40,向控制部40发送计测值。如图3所示,第一传感器10既不沿片状基材2的输送方向移动也不沿宽度方向移动,而是以被固定的状态配置。第二传感器20是对表示包括涂覆物3的涂覆后的本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种涂覆量的计测方法,其是对利用涂覆机涂布到被输送的片状基材的涂覆物的涂覆量进行计测的涂覆量的计测方法,其中,/n该涂覆量的计测方法包括:/n第一轮廓制作工序,在该工序中,在所述涂覆机的上游侧取得表示所述片状基材的凹凸形状的第一计测信息,制作在所述片状基材上设定出的计测范围的第一凹凸轮廓;/n第二轮廓制作工序,在该工序中,在所述涂覆机的下游侧取得表示所述片状基材的凹凸形状的第二计测信息,制作所述计测范围的第二凹凸轮廓;以及/n涂覆量算出工序,在该工序中,基于将所述第一凹凸轮廓的形状和所述第二凹凸轮廓的形状匹配时的位置关系,根据所述第一计测信息和所述第二计测信息之间的差量来算出涂覆量。/n

【技术特征摘要】
20181109 JP 2018-2115991.一种涂覆量的计测方法,其是对利用涂覆机涂布到被输送的片状基材的涂覆物的涂覆量进行计测的涂覆量的计测方法,其中,
该涂覆量的计测方法包括:
第一轮廓制作工序,在该工序中,在所述涂覆机的上游侧取得表示所述片状基材的凹凸形状的第一计测信息,制作在所述片状基材上设定出的计测范围的第一凹凸轮廓;
第二轮廓制作工序,在该工序中,在所述涂覆机的下游侧取得表示所述片状基材的凹凸形状的第二计测信息,制作所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔵田洋志小西俊介
申请(专利权)人:本田技研工业株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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