一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备，包括外槽、加热棒、内槽和旋转平台。所述加热棒横向设置于所述外槽内壁上；所述内槽设置于所述外槽内部，所述旋转装置包括旋转平台、旋转轴和电机。所述旋转平台设置于所述内槽中，所述旋转平台包括上旋转台和下旋转台；所述旋转轴固接于所述下旋转台下方且贯穿所述内槽和所述外槽；电机固设于所述外槽下且与所述旋转轴连接。本实用新型专利技术结构设计巧妙，延长加热棒的使用寿命，明显改善催化剂产品的一致性，提升产品的催化性能。

A rotating hydrothermal reaction equipment for the production of nano array catalyst

【技术实现步骤摘要】
一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备
本技术涉及一种水热反应设备，更具体的说是一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备。
技术介绍
水热反应是大规模制备纳米阵列催化剂的方法，其原理是将多孔蜂窝基底浸入水热反应溶液中，将其加热至反应温度并保持至反应结束。蜂窝基底与溶液充分接触，在水热反应进行过程中，在基底表面生成纳米阵列催化剂。目前，工业上生产纳米阵列催化剂的设备为恒温水浴槽，它可以将反应溶液和蜂窝基底加热至反应温度并保温，但其存在明显的缺陷。现有设备采用单槽加热，加热棒直接与反应溶液接触，加热棒使用寿命很短。由于反应溶液在水浴槽中是静止的，随着反应的进行，基底外表面可以保持与溶液的充分接触，但溶液在蜂窝基底的孔道内难以形成流动，即蜂窝基底孔道的内表面则难以持续接触含有溶质的新鲜溶液，进而影响孔道内的反应质量，进而影响纳米阵列催化剂在基底孔道内壁上的生长，最终导致纳米阵列催化剂在蜂窝基底上分布不均匀并影响其催化性能。
技术实现思路
本技术提供了一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备，可以有效解决上述问题。本技术是这样实现的：一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备，包括：外槽，加热棒，横向设置于所述外槽内壁上；内槽，设置于所述外槽内部，旋转装置，包括：旋转平台，设置于所述内槽中，所述旋转平台包括上旋转台和下旋转台；旋转轴，固接于所述下旋转台下方且贯穿所述内槽和所述外槽；电机，固设于所述外槽下且与所述旋转轴连接。作为进一步改进的，所述上旋转台和所述下旋转台之间设有轴套，且所述轴套套设于所述旋转轴上。作为进一步改进的，所述旋转平台上放置有蜂窝催化剂基底；所述蜂窝催化剂基底上沿纵向均匀设置有多个蜂窝孔通道，所述蜂窝孔通道水平放置于所述旋转平台上且所述蜂窝孔通道的放置方向与所述旋转平台的切向平行。作为进一步改进的，所述轴套高度比所述蜂窝催化剂基底的高度小0.8mm～1.2mm。作为进一步改进的，所述旋转轴顶部设有螺纹段。作为进一步改进的，所述上旋转台上方设有螺母，且所述螺母与所述螺纹段相配合。本技术的有益效果是：一、本技术采用双层加热系统，外槽放置加热棒并注水用于加热，内槽内放置蜂窝催化剂基底和催化剂溶液，避免加热棒与带有腐蚀性的催化剂溶液直接接触，延长加热棒的使用寿命。二、本技术通过增加旋转装置，将蜂窝基底放置于旋转架上并浸渍于水热反应溶液中，旋转架以2～10转/分钟的速率匀速转动，蜂窝基底与溶液形成相对运动，可以保证其内部时刻接触到水热反应所必须的溶质，进而增加纳米阵列催化剂在蜂窝基底上的均匀性，保证其具有较好的催化性能，并且旋转产生的流场可以促进水浴槽内溶液的浓度更加均匀，对生产出的催化剂产品的一致性会有明显改善，提升产品的催化性能。附图说明为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1是本技术实施例提供的整体结构剖面示意图。图2是本技术实施例提供的整体结构示意图。图3是本技术实施例提供的部分结构示意图。图4是本技术实施例提供的电机位置示意图。图5是本技术实施例提供的蜂窝催化剂基底结构示意图。图中：1.外槽2.内槽3.旋转装置31.旋转平台311.上旋转台312.下旋转台32.旋转轴321.螺纹段33.电机34.轴套35.螺母4.加热棒5.蜂窝催化剂基底51.蜂窝孔通道6.支撑脚具体实施方式为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。参照图1～图3所示，一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备，包括外槽1、加热棒4、内槽2和旋转平台31。所述加热棒4横向设置于所述外槽1内壁上，所述加热棒4数量为4个，分别设置于所述外槽1的四个内壁上；所述内槽2设置于所述外槽1内部。所述外槽1装有导热溶液，所述加热棒4通过导热溶液对所述内槽2进行加热。所述内槽2装有催化剂溶液。本实施例中，采用水作为导热溶液。本技术采用内外槽的分开设置，避免了腐蚀性的催化剂溶液与加热棒4直接接触，提升了加热棒4的使用寿命。所述旋转装置3包括旋转平台31、旋转轴32和电机33。所述旋转平台31设置于所述内槽2中，所述旋转平台31包括上旋转台311和下旋转台312；所述旋转轴32固接于所述下旋转台312下方且贯穿所述内槽2和所述外槽1。本实施例中，所述下旋转台312焊接固定于所述旋转轴32。所述内槽2与所述旋转轴32贯穿配合的地方，设置有防水零部件；同样地，所述外槽1与所述旋转轴32贯穿配合的地方，设置有防水零部件；上述防水方式的设置，实现了所述外槽1的液体和所述内槽2的液体不会由于设置旋转轴32而发生泄漏，保证了本技术的密封性能。参照图1～图5所示，电机33固设于所述外槽1下且与所述旋转轴32连接，所述电机33作为旋转装置3的动力驱动。所述外槽1下方对称设置有支撑脚6，所述支撑脚6用于支撑外槽1且产生空间用来设置电机33，所述上旋转台311和所述下旋转台312之间设有轴套34，且所述轴套34套设于所述旋转轴32上。所述旋转平台31上放置有蜂窝催化剂基底5；所述蜂窝催化剂基底5上沿纵向均匀设置有多个蜂窝孔通道51，所述蜂窝孔通道51水平放置于所述旋转平台31上且所述蜂窝孔通道51的放置方向与所述旋转平台31的切向平行，旋转架以2～10转/分钟的速率匀速转动，蜂窝催化剂基底5与催化剂溶液形成相对运动，使得催化剂溶液更容易进入所述蜂窝孔通道51，可以保证其内部时刻接触到水热反应所必须的溶质，进而增加纳米阵列催化剂在蜂窝基底上的均匀性，保证其具有较好的催化性能，并且旋转产生的流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备，其特征在于，包括：/n外槽(1)；/n加热棒(4)，横向设置于所述外槽(1)内壁上；/n内槽(2)，设置于所述外槽(1)内部；/n旋转装置(3)，包括：/n旋转平台(31)，设置于所述内槽(2)中，所述旋转平台(31)包括上旋转台(311)和下旋转台(312)；/n旋转轴(32)，固接于所述下旋转台(312)下方且贯穿所述内槽(2)和所述外槽(1)；/n电机(33)，固设于所述外槽(1)下且与所述旋转轴(32)连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于生产纳米阵列催化剂的旋转式水热反应设备，其特征在于，包括：
外槽(1)；
加热棒(4)，横向设置于所述外槽(1)内壁上；
内槽(2)，设置于所述外槽(1)内部；
旋转装置(3)，包括：
旋转平台(31)，设置于所述内槽(2)中，所述旋转平台(31)包括上旋转台(311)和下旋转台(312)；
旋转轴(32)，固接于所述下旋转台(312)下方且贯穿所述内槽(2)和所述外槽(1)；
电机(33)，固设于所述外槽(1)下且与所述旋转轴(32)连接。


2.根据权利要求1所述的旋转式水热反应设备，其特征在于，所述上旋转台(311)和所述下旋转台(312)之间设有轴套(34)，且所述轴套(34)套设于所述旋转轴(32)上。


3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：王思博，郭彦炳，
申请(专利权)人：福建龙新三维阵列科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35