【技术实现步骤摘要】
一种半导体芯片生产用浸没式光刻机
本技术涉及光刻机
，尤其涉及一种半导体芯片生产用浸没式光刻机。
技术介绍
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，常用的光刻机是掩膜对准光刻，是指在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。而现有的浸没式光刻机在使用的过程中，需要先对制作的硅片进行清洗，清洗完毕之后再进行烘干，随后进行涂胶，但是这样的生产步骤一般需要人工进行操作，而人工操作无疑需要较长的时间，进而会影响制造硅片的生产效率，不符合现在社会的发展需要，所以我们提出了一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，用以解决上述所提出的问题。
技术实现思路
基于
技术介绍
存在的技术问题，本技术提出了一种半导体芯片生产用
【技术保护点】
1.一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，包括工作台，其特征在于，所述工作台的顶部固定安装有支撑架，所述支撑架的底部固定安装有探测头，所述工作台的顶部滑动连接有移动托盘，且移动托盘上固定连接有横向位置调节组件，所述工作台的顶部固定安装有顶部设置有开口的处理箱，所述处理箱的一侧转动铰接有密封门，所述处理箱的顶部固定安装有对称设置两个支撑板，且两个支撑板相互靠近的一侧固定安装有同一个横板，所述横板的底部固定安装有推杆电机，所述推杆电机的输出轴上设置有夹持组件，且夹持组件上夹持固定有硅片，所述处理箱内设置有清洗组件和烘干组件。/n
【技术特征摘要】
1.一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，包括工作台，其特征在于，所述工作台的顶部固定安装有支撑架，所述支撑架的底部固定安装有探测头，所述工作台的顶部滑动连接有移动托盘，且移动托盘上固定连接有横向位置调节组件，所述工作台的顶部固定安装有顶部设置有开口的处理箱，所述处理箱的一侧转动铰接有密封门，所述处理箱的顶部固定安装有对称设置两个支撑板，且两个支撑板相互靠近的一侧固定安装有同一个横板，所述横板的底部固定安装有推杆电机，所述推杆电机的输出轴上设置有夹持组件，且夹持组件上夹持固定有硅片，所述处理箱内设置有清洗组件和烘干组件。
2.根据权利要求1所述的一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，其特征在于，所述横向位置调节组件包括固定安装在工作台上的驱动电机，所述驱动电机的输出轴上焊接有螺杆，所述移动托盘的底部固定安装有移动块，且螺杆贯穿移动块并和移动块螺纹连接。
3.根据权利要求1所述的一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，其特征在于，所述夹持组件包括固定安装在推杆电机输出轴上的安装板，所述安装板的底部固定安装有挡板，所述安装板的底部滑动连接有夹持板，所述安装板的顶部固定安装有旋转电机，所述旋转电机的输出轴上焊接有转动轴，且转动轴的底部延伸至安装板的下方并固定安装有第二伞齿轮，所述安装板的底部转动连接有丝杆，所述丝杆延伸至夹持板内并和夹持板螺纹连接，所述丝杆上固定套设有第一伞齿轮，且第一伞齿轮和第二伞齿轮相啮...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭志宏，
申请(专利权)人：大同新成新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：山西;14
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。