用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机制造方法及图纸

一种用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机，用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置包括：密封壳体；电路板，设置于所述密封壳体内部；光电转换器件，为真空兼容型，设置于所述密封壳体外部；连接件，贯穿所述密封壳体，用于将置于所述密封壳体内外侧的电路板和所述光电转换器件连接；其中，所述连接件与所述密封壳体之间通过真空兼容型封接材料密封。本发明专利技术设计将光电转换器件设置于密封壳体外侧，直接接收信号光，保证了信号稳定，同时可最大限度的减少串扰等影响。

Photoelectric conversion electronics device and lithography machine for EUV vacuum environment

【技术实现步骤摘要】
用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机
本专利技术属于半导体装备
，尤其涉及一种用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机。
技术介绍
EUV光刻机是目前半导体行业最先进的、已进入量产机型的光刻机。但由于空气及几乎所有的材料均对EUV光都具有强烈的吸收作用，导致EUV光刻机内部工作环境必须是EUV(超)清洁真空，EUV光刻机所有零部件的设计必须考虑材料及加工工艺流程可能引入的材料和结构的放气问题。EUV光刻机内部有很多用于控制及通讯的电子学系统，其接收的信号可能是电学信号，也可能是光学信号。电子学系统的放气率比较高，尤其是电子学系统的PCB板在真空环境下会释放大量的气体及颗粒污染EUV真空环境，且颗粒污染物落到镜片表面时会污染镜片，直接影响光学元件的性能和寿命，对EUV光刻机性能和寿命带来极大的危害。因此需要将该类电子学系统进行处理以防止其污染EUV光刻机的真空环境和光刻机内部的光学系统。目前已有的处理方法是将电子学系统密封到一密闭壳体内以防止其挥发性气体和颗粒进入到EUV真空环境中。但该方法对于涉及到有光电转换器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置，其特征在于，包括：/n密封壳体；/n电路板，设置于所述密封壳体内部；/n光电转换器件，为真空兼容型，设置于所述密封壳体外部；/n连接件，贯穿所述密封壳体，用于将置于所述密封壳体内外侧的电路板和所述光电转换器件连接；/n其中，所述连接件与所述密封壳体之间通过真空兼容型封接材料密封。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置，其特征在于，包括：
密封壳体；
电路板，设置于所述密封壳体内部；
光电转换器件，为真空兼容型，设置于所述密封壳体外部；
连接件，贯穿所述密封壳体，用于将置于所述密封壳体内外侧的电路板和所述光电转换器件连接；
其中，所述连接件与所述密封壳体之间通过真空兼容型封接材料密封。


2.如权利要求1所述的用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置，其特征在于，所述光电转换器件使用的胶为真空专用胶，用于实现真空兼容性。


3.如权利要求2所述的用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置，其特征在于，所述光电转换器件包括基板和光敏元件；所述基板和光敏元件均设置于所述密封壳体的外部。


4.如权利要求2所述的用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置，其特征在于，所述光电转换器件包括基板和光敏元件；所述光敏元件设置于所述密封壳体的外部，所述基板作为密封壳体的一部分与所述密封壳体连接，所述基板与所述密封壳体之间通过密封圈进行真空密封。


5.如权利要求1所述的用于EUV真空环境中的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢冬冬，徐天伟，马向红，王丹，陈进新，李璟，丁敏侠，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11