双工位超声硅片清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了双工位超声硅片清洗设备，包括工作台，所述工作台顶部两边均焊接有立柱，且两根立柱的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台，所述电动滑台滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机，且推杆电机的输出轴连接有顶部开口的网箱，所述工作台顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽、与水槽底部连接的下水管、与下水管连接的过滤盒、与过滤盒连接的水泵、通过导管与水泵、存储筒和水龙头。本实用新型专利技术能够在清洗液水槽清洗完硅片后通过电动滑台和推杆电机将硅片转运至纯水水槽内，能够清洗硅片表面残留的清洗液，能够对清洗液和纯水进行重复利用。

Two position ultrasonic silicon cleaning equipment

【技术实现步骤摘要】
双工位超声硅片清洗设备
本技术涉及清洗设备
，尤其涉及双工位超声硅片清洗设备。
技术介绍
由于硅片关键尺寸的持续缩小，硅片表面在经受工艺之前必须是洁净的。控制沾污最有效途径是防止沾污硅片，其中占统治地位的硅片表面清洗方法是湿化学法，湿化学法是用化学药剂与硅片表面需要去除的沾污物进行反应，使得沾污物从硅片表面剥离从而达到清洗的目的。为此中国专利(申请号201110193925.9)提出了“硅片清洗设备以及储液罐”，该清洗设备随着化学药剂与硅片表面的沾污物反应，化学药剂逐渐被消耗后，去除硅片污渍的效率降低。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的双工位超声硅片清洗设备。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：双工位超声硅片清洗设备，包括工作台，所述工作台顶部两边均焊接有立柱，且两根立柱的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台，所述电动滑台滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机，且推杆电机的输出轴连接有顶部开口的网箱，所述工作台顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽、与水槽底部连接的下水管、与下水管连接的过滤盒、与过滤盒连接的水泵、通过导管与水泵、存储筒和水龙头，所述存储筒、水泵的出水端和水龙头的进水口通过三通和连接管相连接，所述工作台上安装有超声波发生器，且超声波发生器的震动子分别固定于两个水槽的底部。优选的，所述网箱两侧外壁的顶部焊接有同一根连接杆，且连接杆的中部焊接有套管，推杆电机的输出轴通过螺栓与套管连接。优选的，所述工作台两侧外壁均焊接有安装板，且两个水泵分别固定于两个安装板上。优选的，所述过滤盒包括盒体和卡接于盒体顶部的顶盖，且盒体的两侧内壁上从上往下依次固定有第一过滤网、第二过滤网、第三过滤网，所述第一过滤网、第二过滤网、第三过滤网的网孔孔径依次减小。优选的，两个存储筒内分别存储有清洗液和纯水。优选的，所述电动滑台、推杆电机、两个水泵和超声波发生器分别连接有开关，且五个开关依次安装于工作台顶部，五个所述开关分别连接有电源线。本技术的有益效果为：1、通过在两个清洗机构内分别盛放清洗液和纯水，能够在清洗液水槽清洗完硅片后通过电动滑台和推杆电机将硅片转运至纯水水槽内，能够清洗硅片表面残留的清洗液；2、通过过滤盒能够分别对清洗液和纯水中的杂质进行过滤，能够对清洗液和纯水进行重复利用，在水槽内的清洗液和纯水脏污后可从存储筒内放出洁净的清洗液和纯水。附图说明图1为本技术提出的双工位超声硅片清洗设备的结构示意图；图2为本技术提出的双工位超声硅片清洗设备的过滤盒结构示意图；图3为本技术提出的双工位超声硅片清洗设备的网箱结构示意图。图中：1工作台、2立柱、3电动滑台、4推杆电机、5网箱、6连接杆、7水槽、8下水管、9过滤盒、10安装板、11水泵、12水龙头、13存储筒、14超声波发生器、15顶盖、16第一过滤网、17第二过滤网、18第三过滤网。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。参照图1-3，双工位超声硅片清洗设备，包括工作台1，工作台1顶部两边均焊接有立柱2，且两根立柱2的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台3，电动滑台3滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机4，且推杆电机4的输出轴连接有顶部开口的网箱5，工作台1顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个清洗机构均包括水槽7、与水槽7底部连接的下水管8、与下水管8连接的过滤盒9、与过滤盒9连接的水泵11、通过导管与水泵11、存储筒13和水龙头12，存储筒13、水泵11的出水端和水龙头12的进水口通过三通和连接管相连接，工作台1上安装有超声波发生器14，且超声波发生器14的震动子分别固定于两个水槽7的底部。本技术中，网箱5两侧外壁的顶部焊接有同一根连接杆6，且连接杆6的中部焊接有套管，推杆电机4的输出轴通过螺栓与套管连接，工作台1两侧外壁均焊接有安装板10，且两个水泵11分别固定于两个安装板10上，过滤盒9包括盒体和卡接于盒体顶部的顶盖15，且盒体的两侧内壁上从上往下依次固定有第一过滤网16、第二过滤网17、第三过滤网18，第一过滤网16、第二过滤网17、第三过滤网18的网孔孔径依次减小，两个存储筒13内分别存储有清洗液和纯水，电动滑台3、推杆电机4、两个水泵11和超声波发生器14分别连接有开关，且五个开关依次安装于工作台1顶部，五个开关分别连接有电源线。工作原理：通过在两个清洗机构内分别盛放清洗液和纯水，能够在清洗液水槽7清洗完硅片后通过电动滑台3和推杆电机4将硅片转运至纯水水槽7内，能够清洗硅片表面残留的清洗液，通过过滤盒9能够分别对清洗液和纯水中的杂质进行过滤，能够对清洗液和纯水进行重复利用，在水槽7内的清洗液和纯水脏污后可从存储筒13内放出洁净的清洗液和纯水。以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.双工位超声硅片清洗设备，包括工作台(1)，其特征在于，所述工作台(1)顶部两边均焊接有立柱(2)，且两根立柱(2)的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台(3)，所述电动滑台(3)滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机(4)，且推杆电机(4)的输出轴连接有顶部开口的网箱(5)，所述工作台(1)顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽(7)、与水槽(7)底部连接的下水管(8)、与下水管(8)连接的过滤盒(9)、与过滤盒(9)连接的水泵(11)、通过导管与水泵(11)、存储筒(13)和水龙头(12)，所述存储筒(13)、水泵(11)的出水端和水龙头(12)的进水口通过三通和连接管相连接，所述工作台(1)上安装有超声波发生器(14)，且超声波发生器(14)的震动子分别固定于两个水槽(7)的底部。/n

【技术特征摘要】
1.双工位超声硅片清洗设备，包括工作台(1)，其特征在于，所述工作台(1)顶部两边均焊接有立柱(2)，且两根立柱(2)的顶部通过螺栓固定有同一个电动滑台(3)，所述电动滑台(3)滑动端的底部通过螺栓固定有推杆电机(4)，且推杆电机(4)的输出轴连接有顶部开口的网箱(5)，所述工作台(1)顶部依次开设有两个工位槽，且两个工位槽内均安装有清洗机构，两个所述清洗机构均包括水槽(7)、与水槽(7)底部连接的下水管(8)、与下水管(8)连接的过滤盒(9)、与过滤盒(9)连接的水泵(11)、通过导管与水泵(11)、存储筒(13)和水龙头(12)，所述存储筒(13)、水泵(11)的出水端和水龙头(12)的进水口通过三通和连接管相连接，所述工作台(1)上安装有超声波发生器(14)，且超声波发生器(14)的震动子分别固定于两个水槽(7)的底部。


2.根据权利要求1所述的双工位超声硅片清洗设备，其特征在于，所述网箱(5)两侧外壁的顶部焊接有同一根连接杆(6)，且连接杆(6)的中部焊接有套管，推...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙伟，
申请(专利权)人：天津创昱达光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12