【技术实现步骤摘要】
研磨液过滤装置
本技术涉及半导体制造
，特别涉及一种研磨液过滤装置。
技术介绍
在半导体制造工艺流程中，在对晶圆执行化学机械抛光工艺(ChemicalMechanicalPolishing，CMP)研磨晶圆的过程中，会向晶圆研磨面提供研磨液，以软化晶圆研磨面，进而可以提高晶圆的研磨效率。其中，为了防止提供至晶圆研磨面上的研磨液包含有杂质颗粒，而造成晶圆的刮伤，在向晶圆提供研磨液之前，会过滤研磨液，以将其中的杂质颗粒滤除。相关技术中，通常是将研磨液传输至一过滤容器中，利用该过滤容器中的过滤组件对过滤液进行过滤，之后再将其提供至晶圆的研磨面。但是，研磨液中一般包括有双氧水，双氧水在光照下会分解为氧气，会在研磨液中形成大量气泡，该大量气泡易附着在过滤容器内壁，会造成研磨液的断流，从而会影响CMP工艺的稳定性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种研磨液过滤装置，以提高CMP工艺的稳定性。为达到解决上述技术问题，本技术提供一种研磨液过滤装置，所述装置包括：研磨液过滤器，
【技术保护点】
1.一种研磨液过滤装置，其特征在于，所述装置包括：/n研磨液过滤器，用于过滤研磨液；/n设置在所述研磨液过滤器外壁的超声波发生器，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。/n
【技术特征摘要】
1.一种研磨液过滤装置，其特征在于，所述装置包括：
研磨液过滤器，用于过滤研磨液；
设置在所述研磨液过滤器外壁的超声波发生器，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。
2.如权利要求1所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述研磨液过滤器包括：
研磨液容纳件，用于容纳研磨液；
研磨液输入通道，设置于所述研磨液容纳件的外壁，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件中；
过滤组件，设置于所述研磨液容纳件内部，用于过滤传输至所述研磨液容纳件中的研磨液；
研磨液输出通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，用于将过滤后的研磨液输出；
排气通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，用于排出所述研磨液容纳件中的气体；
液位传感器，设置于所述研磨液容纳件内壁，用于检测所述研磨液容纳件中研磨液的液位。
3.如权利要求1所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述装置还包括过滤器容纳槽，用于容纳所述研磨液过滤器。
4.如权利要求3所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述过滤器容纳槽中存在有液体，所述液体浸没所述研磨液过滤器以及所述超声波发生器。
5.如权利要求3所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述研磨液过滤器包括：
研磨液容纳件，用于容纳研磨液；
研磨液输入通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，并延伸至所述过滤器容纳槽外侧，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件中；
过滤组件，设置于所述研磨液容纳件内部，用于过滤传输至...
【专利技术属性】
技术研发人员：田得暄，辛君，吴龙江，林宗贤，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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