研磨液过滤装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种研磨液过滤装置，所述装置包括：研磨液过滤器，用于过滤研磨液；设置在所述研磨液过滤器外壁的超声波发生器，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。本实用新型专利技术提供的研磨液过滤装置可以确保CMP工艺的稳定性。

Abrasive filter

【技术实现步骤摘要】
研磨液过滤装置
本技术涉及半导体制造
，特别涉及一种研磨液过滤装置。
技术介绍
在半导体制造工艺流程中，在对晶圆执行化学机械抛光工艺(ChemicalMechanicalPolishing，CMP)研磨晶圆的过程中，会向晶圆研磨面提供研磨液，以软化晶圆研磨面，进而可以提高晶圆的研磨效率。其中，为了防止提供至晶圆研磨面上的研磨液包含有杂质颗粒，而造成晶圆的刮伤，在向晶圆提供研磨液之前，会过滤研磨液，以将其中的杂质颗粒滤除。相关技术中，通常是将研磨液传输至一过滤容器中，利用该过滤容器中的过滤组件对过滤液进行过滤，之后再将其提供至晶圆的研磨面。但是，研磨液中一般包括有双氧水，双氧水在光照下会分解为氧气，会在研磨液中形成大量气泡，该大量气泡易附着在过滤容器内壁，会造成研磨液的断流，从而会影响CMP工艺的稳定性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种研磨液过滤装置，以提高CMP工艺的稳定性。为达到解决上述技术问题，本技术提供一种研磨液过滤装置，所述装置包括：研磨液过滤器，用于过滤研磨液；设置在所述研磨液过滤器外壁的超声波发生器，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。可选的，所述研磨液过滤器包括：研磨液容纳件，用于容纳研磨液；研磨液输入通道，设置于所述研磨液容纳件的外壁，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件中；过滤组件，设置于所述研磨液容纳件内部，用于过滤传输至所述研磨液容纳件中的研磨液；研磨液输出通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，用于将过滤后的研磨液输出；排气通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，用于排出所述研磨液容纳件中的气体；液位传感器，设置于所述研磨液容纳件内壁，用于检测所述研磨液容纳件中研磨液的液位。可选的，所述装置还包括过滤器容纳槽，用于容纳所述研磨液过滤器。可选的，所述过滤器容纳槽中存在有液体，所述液体浸没所述研磨液过滤器以及所述超声波发生器。可选的，所述研磨液过滤器包括：研磨液容纳件，用于容纳研磨液；研磨液输入通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，并延伸至所述过滤器容纳槽外侧，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件中；过滤组件，设置于所述研磨液容纳件内部，用于过滤传输至所述研磨液容纳件中的研磨液；研磨液输出通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，并延伸至所述过滤器容纳槽外侧，用于将过滤后的研磨液输出；排气通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，并延伸至所述过滤器容纳槽外侧，用于排出所述研磨液容纳件中的气体；液位传感器，设置于所述研磨液容纳件内壁，用于检测所述研磨液容纳件中研磨液的液位。可选的，所述研磨液输入通道中包括第一阀门，当需要通过所述研磨液输入通道向所述研磨液容纳件输入研磨液时，所述第一阀门开启；所述研磨液输出通道中包括第二阀门，当需要通过所述研磨液输出通道输出研磨液容纳件中研磨液时，所述第二阀门开启；所述排气通道包括第三阀门，当需要排出所述研磨液容纳件中的气体时，所述第三阀门开启。可选的，当所述研磨液容纳件中研磨液的液位低于所述液位传感器时，所述第一阀门和所述第三阀门开启，向所述研磨液容纳件中输入研磨液，并排出所述研磨液容纳件中的气体，直至所述研磨液容纳件中研磨液的液位高于所述液位传感器时，所述第一阀门和所述第三阀门关闭。可选的，所述液位传感器距离所述研磨液容纳件底部的高度，介于所述研磨液容纳件高度的92％～96％之间。可选的，所述超声波发生器设置于所述研磨液容纳件的外壁。综上所述，本技术提供的研磨液过滤装置中包括有设置于研磨液过滤器外壁的超声波发生器。并且，该超声波发生器发出的超声波可以作用于附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡上，并可以去除所述研磨液过滤器中的气泡。因此可以防止研磨液过滤器中的气泡引起研磨液的断流，确保了CMP工艺的稳定性。附图说明图1是本技术一实施例的一种研磨液过滤装置的结构示意图；图2是本技术一实施例的另一种研磨液过滤装置的结构示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术提出的研磨液过滤装置作进一步详细说明。根据下面说明书，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。图1是本技术一实施例的一种研磨液过滤装置的结构示意图。如图1所示，所述研磨液过滤装置可以包括：研磨液过滤器01，用于过滤研磨液。设置在所述研磨液过滤器01外壁的超声波发生器02，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。其中，所述研磨液过滤器01具体可以包括：研磨液容纳件011、研磨液输入通道012、研磨液输出通道013以及过滤组件014。所述研磨液容纳件011可以用于容纳研磨液。研磨液输入通道012可以设置于所述研磨液容纳件011的外壁，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件011中。并且，所述研磨液输入通道012上还可以设置有第一阀门A，当需要向所述研磨液容纳件011中输送研磨液时，所述第一阀门A开启。研磨液输出通道013可以设置于所述研磨液容纳件011外壁，用于将所述研磨液容纳件011中的研磨液输出至晶圆研磨面。并且，所述研磨液输出通道013上还设置有第二阀门B，当需要向晶圆研磨面提供研磨液时，所述第二阀门B开启。其中，所述研磨液输出通道013一般设置于所述研磨液容纳件011的底部。进一步地，所述过滤组件014可以设置于所述研磨液容纳件011内部，用于过滤传输至所述研磨液容纳件011中的研磨液，所述过滤组件014例如可以为网状结构。其中，需要说明的是，在本实施例中，所述研磨液输入通道012与所述研磨液输出通道013应分别位于所述过滤组件014的不同侧。如此，可以确保经由研磨液输入通道012流至研磨液容纳件011内部的研磨液，在从研磨液输出通道013流出之前，会先穿过所述过滤组件014，从而使过滤组件014可以过滤掉研磨液中的杂质颗粒，使得最终从研磨液输出通道013流出的研磨液为经由过滤组件014过滤后的研磨液。则，在具体实施例中，当需要向所述研磨液容纳件011中输入研磨液时，可以开启所述第一阀门A，以使所述研磨液输入通道012导通，所述研磨液即可经由所述研磨液输入通道012流至所述研磨液容纳件011内部。之后，当需要向晶圆研磨面提供研磨液时，开启所述第二阀门B，以使所述研磨液输出通道013导通，所述研磨液容纳件011中的研磨液即可通过研磨液输出通道013输出，并提供至晶圆研磨面以进行后续的研磨步骤。其中，由于从所述研磨液输出通道013流出的研磨液为经由所述过滤组件014过滤后的研磨液，因此使得最终提供至晶圆研磨面的研磨液为无杂质颗粒的研磨液，从而可以确保后续研磨步骤中晶圆不会被刮伤。此外，需要说明的是，在本实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨液过滤装置，其特征在于，所述装置包括：/n研磨液过滤器，用于过滤研磨液；/n设置在所述研磨液过滤器外壁的超声波发生器，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。/n

【技术特征摘要】
1.一种研磨液过滤装置，其特征在于，所述装置包括：
研磨液过滤器，用于过滤研磨液；
设置在所述研磨液过滤器外壁的超声波发生器，用于发射超声波，以去除附着在所述研磨液过滤器内壁的气泡。


2.如权利要求1所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述研磨液过滤器包括：
研磨液容纳件，用于容纳研磨液；
研磨液输入通道，设置于所述研磨液容纳件的外壁，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件中；
过滤组件，设置于所述研磨液容纳件内部，用于过滤传输至所述研磨液容纳件中的研磨液；
研磨液输出通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，用于将过滤后的研磨液输出；
排气通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，用于排出所述研磨液容纳件中的气体；
液位传感器，设置于所述研磨液容纳件内壁，用于检测所述研磨液容纳件中研磨液的液位。


3.如权利要求1所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述装置还包括过滤器容纳槽，用于容纳所述研磨液过滤器。


4.如权利要求3所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述过滤器容纳槽中存在有液体，所述液体浸没所述研磨液过滤器以及所述超声波发生器。


5.如权利要求3所述的研磨液过滤装置，其特征在于，所述研磨液过滤器包括：
研磨液容纳件，用于容纳研磨液；
研磨液输入通道，设置于所述研磨液容纳件外壁，并延伸至所述过滤器容纳槽外侧，用于将研磨液传输至所述研磨液容纳件中；
过滤组件，设置于所述研磨液容纳件内部，用于过滤传输至...

【专利技术属性】
技术研发人员：田得暄，辛君，吴龙江，林宗贤，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32