一种填充过孔阵列的方法技术

一种填充过孔阵列的方法，包括以下步骤：1）获取填充过孔的区域信息；2）计算出所述填充区域内所有过孔的位置信息；3）根据所述过孔的位置信息填充过孔。本发明专利技术的一种填充过孔阵列的方法，可以缩短项目周期，加快项目进度，从而可以提高工作效率。

A method of filling through hole array

【技术实现步骤摘要】
一种填充过孔阵列的方法
本专利技术涉及PDK开发
，特别是涉及一种填充过孔阵列的方法。
技术介绍
在PDK（Processdesignkit）开发中，需要对大规模过孔阵列进行填充，对于这些规模较大而无法确定过孔数量和位置的过孔阵列，目前的方式都是先确定首个过孔的位置，按照间距限定手动依次摆放过孔，然后多排或者多列复制，无法进行自动填充。现有大规模过孔阵列的方法，填充过程较繁琐，造成项目周期过长的不足。
技术实现思路
为了解决现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种填充过孔阵列的方法，根据过孔的位置信息对过孔进行填充，缩短项目周期，加快项目进度，从而可以提高工作效率。为实现上述目的，本专利技术提供的填充过孔阵列的方法，包括以下步骤：1）获取填充过孔的区域信息；2）计算出所述填充区域内所有过孔的位置信息；3）根据所述过孔的位置信息填充过孔。进一步地，所述步骤1）还包括，获取所述过孔大小、所述过孔最小间距、所述过孔距离所述填充区域边界的最小距离。进一步地本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种填充过孔阵列的方法，包括以下步骤：/n1）获取填充过孔的区域信息；/n2）计算出所述填充区域内所有过孔的位置信息；/n3）根据所述过孔的位置信息填充过孔。/n

【技术特征摘要】
1.一种填充过孔阵列的方法，包括以下步骤：
1）获取填充过孔的区域信息；
2）计算出所述填充区域内所有过孔的位置信息；
3）根据所述过孔的位置信息填充过孔。


2.根据权利要求1所述的填充过孔阵列的方法，其特征在于，所述步骤1）还包括，
获取所述过孔大小、所述过孔最小间距、所述过孔距离所述填充区域边界的最小距离。


3.根据权利要求1所述的填充过孔阵列的方法，其特征在于，所述步骤2）中的计算方式包括：
a）所述过孔距离所述区域边界的距离固定，根据所述过孔的最小间距以及所述过孔大小计算出所述区域内填充的所有过孔的位置信息；
b）所述过孔间距固定，根据所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：束涛，牛欢欢，朱能勇，郭春晖，高冕风，
申请(专利权)人：南京九芯电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32