【技术实现步骤摘要】
一种连续式磁控溅射装置
本技术涉及溅射装置
，具体讲是一种连续式磁控溅射装置。
技术介绍
磁控溅射装置是物理气相沉积的一种装置，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，然而经分析发现，目前的磁控溅射装置无法对基板进行连续的双面溅射，而是需要手动进行基板翻面，这就导致了工作效率有所降低，并且提高了人工操作量，存在待改进的方面。
技术实现思路
因此，为了解决上述不足，本技术在此提供一种连续式磁控溅射装置，具有能够自动进行基板翻面，实现基板双面的连续溅射作业，提高工作效率的优点。本技术是这样实现...
【技术保护点】
1.一种连续式磁控溅射装置，包括外壳体(1)，其特征在于：所述外壳体(1)的底部设有抽真空管(16)，所述外壳体(1)的顶部设有导电板(2)，所述导电板(2)的顶端设有接线柱(5)，所述接线柱(5)的具有射频发生器(15)，所述射频发生器(15)与所述导电板(2)电性连接，所述导电板(2)的底部设有若干间隔排列的磁极端(3)，所述磁极端(3)的底部设有靶材板(7)，所述靶材板(7)侧面两端均设有挡板(4)，所述挡板(4)与所述外壳体(1)通过螺栓固定连接，所述靶材板(7)的底部设有翻转固定装置(9)，所述翻转固定装置(9)由压钳(10)和电动机(14)构成，所述压钳(10)...
【技术特征摘要】
1.一种连续式磁控溅射装置，包括外壳体(1)，其特征在于：所述外壳体(1)的底部设有抽真空管(16)，所述外壳体(1)的顶部设有导电板(2)，所述导电板(2)的顶端设有接线柱(5)，所述接线柱(5)的具有射频发生器(15)，所述射频发生器(15)与所述导电板(2)电性连接，所述导电板(2)的底部设有若干间隔排列的磁极端(3)，所述磁极端(3)的底部设有靶材板(7)，所述靶材板(7)侧面两端均设有挡板(4)，所述挡板(4)与所述外壳体(1)通过螺栓固定连接，所述靶材板(7)的底部设有翻转固定装置(9)，所述翻转固定装置(9)由压钳(10)和电动机(14)构成，所述压钳(10)具有两组，分别设置于所述外壳体(1)内侧面的两端，所述压钳(10)的一侧设有转动轴(11)，所述压钳(10)与所述外壳体(1)通过转动轴(11)活动连接，所述转动轴(11)的一侧设有链轮(6)，所述链轮(6)上嵌套有传动链(13)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘冬，李曼，杨延远，孟红军，侯红明，韩照亮，
申请(专利权)人：山东天厚新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37
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