辅助阳极装置及具有其的真空磁控溅射设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，所述腔室中设置有杆状的辅助阳极，所述辅助阳极的一端部连接在所述侧板上、另一端部处于所述靶材的下方。腔室中的游离电子朝着玻璃基片移动时，受到辅助阳极的吸引，则转向朝着辅助阳极移动，保证玻璃基片上不会积累电子，避免其发生放电现象，影响镀膜质量，同时辅助阳极不会影响玻璃基片的镀膜。相比于现有技术对传动辊进行绝缘处理，该辅助阳极将电子通往玻璃基片的通道阻隔，根本上地解决了电子积累的问题。

Auxiliary anode device and its vacuum magnetron sputtering equipment

【技术实现步骤摘要】
辅助阳极装置及具有其的真空磁控溅射设备
本技术涉及一种辅助阳极装置及具有其的真空磁控溅射设备。
技术介绍
真空磁控溅射设备中金属靶材使用平面阴极进行溅射，电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；这些电子有一部分会飞向基片，电子游离到基片表面聚集放电，造成玻璃表面产生放电斑纹，导致玻璃报废。现有技术方案一般是在腔室传动辊道做绝缘处理，切断传动辊道上玻璃的表面电荷的传导路径，此方案为被动处理方法，不能保证腔室传动辊道在一个保养周期内全部绝缘，放电斑纹的发生还是无法完全杜绝。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种辅助阳极装置，其能够捕获游离电子，减少真空磁控溅射设备中电子在机架上的聚集，避免玻璃因电子聚集产生放电引起玻璃出现斑纹。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，所述腔室本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，其特征在于：所述腔室中设置有杆状的辅助阳极，所述辅助阳极的一端部连接在所述侧板上、另一端部处于所述靶材的下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，其特征在于：所述腔室中设置有杆状的辅助阳极，所述辅助阳极的一端部连接在所述侧板上、另一端部处于所述靶材的下方。


2.根据权利要求1所述的辅助阳极装置，其特征在于：位于所述传动辊的传动方向两侧的所述侧板上都设置有所述辅助阳极。


3.根据权利要求2所述的辅助阳极装置，其特征在于：连接在同一个所述侧板上的所述辅助阳极沿直线等距排列。


4.根据权利要求2所述的辅助阳极装置，其特征在于：两个所述侧板上...

【专利技术属性】
技术研发人员：张青涛，解孝辉，饶杰奎，
申请(专利权)人：吴江南玻华东工程玻璃有限公司，中国南玻集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32