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本实用新型公开了一种辅助阳极装置，应用于真空磁控溅射设备上，所述真空磁控溅射设备至少包括具有传动辊的机架、若干竖直地设置在所述机架上的侧板、设置在所述侧板上的盖板，所述机架、侧板、盖板围成腔室，所述腔室中设置有靶材，所述腔室中设置有杆状的辅...该专利属于吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过吴江南玻华东工程玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司授权不得商用。