【技术实现步骤摘要】
具有扩大的接触面积的共用电极相变存储器件
本专利技术构思涉及存储器件,更具体地,涉及相变随机存取存储(PRAM)器件。
技术介绍
PRAM是一种通过改变材料的相位来存储数据的非易失性存储器。PRAM器件的存储器单元(memorycell)可以包括包含相变材料的存储单元(memoryunit)和用于选择存储单元的开关单元。存储器单元可以连接到上部导电线和下部导电线(例如位线和字线)。
技术实现思路
本专利技术构思的实施方式可以提供存储器件,其具有存储器单元的开关单元与上部导电线之间的减小的接触电阻和/或存储单元与开关单元之间的减小的接触电阻。根据本专利技术构思的一方面,一种存储器件包括下部导电线、第一存储单元、第二存储单元和共用下部电极,共用下部电极包括将第一存储单元和第二存储单元中的相应存储单元电连接到下部导电线的第一部分和第二部分。该器件还包括在第一存储单元与第二存储单元之间在共用下部电极的第一部分上的第一绝缘区域、以及在第一绝缘区域上的第二绝缘区域。该器件还包括:第一开关单元,在第二绝缘区域中在第一存储单元上,并且包括具有从第二绝缘区域突出的部分的上部电极;以及第二开关单元,在第二绝缘区域中在第二存储单元上,并且包括具有从第二绝缘区域突出的部分的上部电极。第一上部导电线接触第一开关单元的上部电极的突出部分,第二上部导电线接触第二开关单元的上部电极的突出部分。第一上部导电线可以接触第一开关单元的上部电极的突出部分的一对侧壁,第二上部导电线可以接触第二开关单元的上部电极的突出部分的一对侧壁 ...
【技术保护点】
1.一种存储器件,包括:/n下部导电线;/n第一存储单元;/n第二存储单元;/n共用下部电极,包括将所述第一存储单元和所述第二存储单元中的相应存储单元电连接到所述下部导电线的第一部分和第二部分;/n在所述第一存储单元与所述第二存储单元之间的填充绝缘图案;/n在所述填充绝缘图案上的上部绝缘图案;/n第一开关单元,在所述上部绝缘图案中在所述第一存储单元上,并且包括上部电极,所述上部电极具有从所述上部绝缘图案突出的部分;/n第二开关单元,在所述上部绝缘图案中在所述第二存储单元上,并且包括上部电极,所述上部电极具有从所述上部绝缘图案突出的部分;/n第一上部导电线,接触所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分;以及/n第二上部导电线,接触所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分。/n
【技术特征摘要】
20180903 KR 10-2018-01044761.一种存储器件,包括:
下部导电线;
第一存储单元;
第二存储单元;
共用下部电极,包括将所述第一存储单元和所述第二存储单元中的相应存储单元电连接到所述下部导电线的第一部分和第二部分;
在所述第一存储单元与所述第二存储单元之间的填充绝缘图案;
在所述填充绝缘图案上的上部绝缘图案;
第一开关单元,在所述上部绝缘图案中在所述第一存储单元上,并且包括上部电极,所述上部电极具有从所述上部绝缘图案突出的部分;
第二开关单元,在所述上部绝缘图案中在所述第二存储单元上,并且包括上部电极,所述上部电极具有从所述上部绝缘图案突出的部分;
第一上部导电线,接触所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分;以及
第二上部导电线,接触所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分。
2.根据权利要求1所述的存储器件,其中所述第一上部导电线接触所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分的一对侧表面,以及其中所述第二上部导电线接触所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分的一对侧表面。
3.根据权利要求2所述的存储器件,其中所述第一上部导电线接触所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分的四个侧表面,以及其中所述第二上部导电线接触所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分的四个侧表面。
4.根据权利要求1所述的存储器件,其中所述第一上部导电线的宽度大于所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分的宽度,以及其中所述第二上部导电线的宽度大于所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分的宽度。
5.根据权利要求1所述的存储器件,其中所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分的宽度小于所述第一开关单元的所述上部电极的掩埋在所述上部绝缘图案中的部分的宽度,以及其中所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分的宽度小于所述第二开关单元的所述上部电极的掩埋在所述上部绝缘图案中的部分的宽度。
6.根据权利要求1所述的存储器件,其中所述第一开关单元的所述上部电极的所述突出部分的宽度朝向所述第一开关单元的所述上部电极的掩埋在所述上部绝缘图案中的部分增加,以及其中所述第二开关单元的所述上部电极的所述突出部分的宽度朝向所述第二开关单元的所述上部电极的掩埋在所述上部绝缘图案中的部分增加。
7.根据权利要求1所述的存储器件,其中所述共用下部电极还包括接触所述下部导电线的第三部分,以及其中所述共用下部电极的所述第一部分和所述第二部分从所述共用下部电极的所述第三部分的相应的第一端和第二端延伸。
8.根据权利要求1所述的存储器件,其中所述填充绝缘图案位于第一下部绝缘图案与第二下部绝缘图案之间。
9.根据权利要求8所述的存储器件,
其中所述第一存储单元包括:
在所述第一下部绝缘图案与所述填充绝缘图案之间的第一存储图案;和
在所述第一存储图案与所述第一开关单元之间的第一下部居间电极;以及
其中所述第二存储单元包括:
在所述第二下部绝缘图案与所述填充绝缘图案之间的第二存储图案;和
在所述第二存储图案与所述第二开关单元之间的第二下部居间电极。
10.根据权利要求9所述的存储器件,其中所述第一下部绝缘图案的侧表面和所述第二下部绝缘图案的侧表面相对于与所述下部导电线延伸的方向垂直的方向倾斜。
11.一种存储器件,包括:
下部导电线;
下部电极,包括在所述下部导电线上的第一部分、以及从所述下部电极的所述第一部分的相应的第一端和第二端延伸的第二部分和第三部分;
在所述下部电极的所述第二部分的一端上的第一存储图案;
在所述下部电极的所述第三部分的一端上的第二存储图案;
在所述第一存储图案上的第一下部居间电极;
在所述第二存储图案上的第二下部居间电极;
填充绝缘图案,在所述下部电极的所述第二部分和所述第三部分之间以及在所述第一存储图案和所述第二存储图案之间;
堆叠在所述第一下部居间电极上的第一上部居间电极、第一开关图案和第一上...
【专利技术属性】
技术研发人员:宋苏智,朴日穆,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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