一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，包括入口管、外管、内管、出水管、进水管，所述外管和内管通过上法兰和下法兰焊接固定，所述外管设于内管外侧且两者之间形成一冷却腔，所述入口管有若干个，入口管安装于内管的侧面且呈周向分布，入口管的外端延伸至外管的外侧，冷却腔和入口管之间通过隔绝管密封，所述出水管和进水管分别设在外管壁上方和下方且和冷却腔相通,所述下法兰的侧面安装有与内管连通的进气管。这种半导体废气处理设备的废气反应腔体，在使用过程中隔热效果优越、密封性好、热能损失小、安装方便快捷。

A kind of waste gas reaction chamber used in semiconductor waste gas treatment equipment

【技术实现步骤摘要】
一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体
本技术涉及工业废气处理的领域，具体涉及半导体废气处理设备的废气反应腔体。
技术介绍
随着半导体行业的日益繁荣，产能激增，在生产过程中会产生半导体废气，这种气体对人体和环境危害严重。不过由于半导体厂商企业内部设施的限制，而且废气处理设备有各类需求，对处理效率有更高要求。因此，本领域技术人员提供了一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体。现有半导体废气处理设备存在很多技术缺点：1、反应腔厚重不方便维护，2、反应腔内部高温导致外部温度过高，3、反应腔密封性差。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，包括入口管、外管、内管、出水管和进水管，所述外管和内管通过上法兰和下法兰焊接固定，所述外管设于内管外侧且两者之间形成一冷却腔，所述入口管有若干个，入口管安装于内管的侧面且呈周向分布，入口管的外端延伸至外管的外侧，冷却腔和入口管之间通过隔绝管密封，所述出水管和进水管分别设在外管壁上方和下方且和冷却腔相通,所述下法兰的侧面安装有与内管连通的进气管。优选的，所述内管的内侧设有隔热层。优选的，所述隔热层由多个环形隔热块组成。优选的，所述入口管的管口处设有快卡法兰。优选的，所述下法兰的底部设有一T形槽孔，T形槽孔内固定有放风管，放风管的侧面设有若干透气孔，T形槽孔的下端通过下法兰焊板焊接密封并与T形槽孔、放风管形成一个存放气体的储存腔。本技术的优点在于：本技术整体的连接处均为密封焊接，所以其密封性良好，本技术内管内部设有隔热层以及内管和外管之间存在冷却腔，因此有效的减少了热量损失和良好的隔热效果，在入口管管口设有快卡法兰，便于安装和后期维护。附图说明图1为本技术的正剖面图。图2本技术的俯视图。图3为本技术的结构示意图。图4为本技术中下法兰部分的结构示意图。图5为本技术的下法兰剖面图。其中，1-上法兰，2-入口管，3-入口快卡法兰，4-隔绝管，5-外管，6-内管，7-隔热层，8-下法兰，9-下法兰焊板，10-放风管，11-进气管，12-出水管，13-进水管，14-T形槽孔，15-冷却腔。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。如图1至图5所示，一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，包括入口管2、外管5、内管6、出水管12和进水管13，所述外管5和内管6通过上法兰1和下法兰8焊接固定，所述外管5设于内管6外侧且两者之间形成一冷却腔15，所述入口管有若干个，入口管2安装于内管6的侧面且呈周向分布，入口管2的外端延伸至外管5的外侧，冷却腔15和入口管2之间通过隔绝管4密封，所述出水管12和进水管13分别设在外管5壁上方和下方且和冷却腔15相通,所述下法兰8的侧面安装有与内管6连通的进气管11。在本实施例中，所述内管6的内侧设有隔热层7，减少了热传导损失。在本实施例中，所述隔热层7由多个环形隔热块组成，上述隔热块在内管6的轴线方向上相互叠加在一起。在本实施例中，所述入口管2的管口处设有快卡法兰3，提高了安装效率。在本实施例中，所述下法兰8的底部设有一T形槽孔14，T形槽孔14内固定有放风管10，放风管10的侧面设有若干透气孔，T形槽孔14的下端通过下法兰焊板9焊接密封并与T形槽孔14、放风管10形成一个存放气体的储存腔。工作原理：在半导体生产过程中，将废气出口连接在入口快卡法兰3上，使废气通过入口管2通入反应腔体内部，每个入口管2四周均设有隔绝管4，且整个反应腔体的连接处均采用密封焊接，因此这个反应腔体具有良好的密封效果。反应腔体内部设有隔热层7，隔热层7和内管6之间为间隙同心配合，而且外管5和内管6之间留有夹层，在生产过程中从反应腔体侧壁下方的进水管13通入16℃且流量为50ml/min的冷却水，冷却水会从反应腔体侧壁上方的出水管12留出，因此可以起到很好的隔热效果，可以在腔内温度2000℃时，有效的保证反应腔外壁温度低于38℃。在废气通入反应腔体的同时，从下法兰8处的进气管11通入气体，通过放风管流入内管内部，用来拦截废气，加长废气在反应腔内的时间，使其反应更加彻底。由技术常识可知，本技术可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此，上述公开的实施方案，就各方面而言，都只是举例说明，并不是仅有的。所有在本技术范围内或在等同于本技术的范围内的改变均被本技术包含。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，其特征在于,包括入口管(2)、外管(5)、内管(6)、出水管(12)和进水管(13)，所述外管(5)和内管(6)通过上法兰(1)和下法兰(8)焊接固定，所述外管(5)设于内管(6)外侧且两者之间形成一冷却腔(15)，所述入口管(2)有若干个，入口管(2)安装于内管(6)的侧面且呈周向分布，入口管(2)的外端延伸至外管的外侧，冷却腔(15)和入口管(2)之间通过隔绝管(4)密封，所述出水管(12)和进水管(13)分别设在外管(5)壁上方和下方且和冷却腔(15)相通,所述下法兰(8)的侧面安装有与内管(6)连通的进气管(11)。/n

【技术特征摘要】
1.一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，其特征在于,包括入口管(2)、外管(5)、内管(6)、出水管(12)和进水管(13)，所述外管(5)和内管(6)通过上法兰(1)和下法兰(8)焊接固定，所述外管(5)设于内管(6)外侧且两者之间形成一冷却腔(15)，所述入口管(2)有若干个，入口管(2)安装于内管(6)的侧面且呈周向分布，入口管(2)的外端延伸至外管的外侧，冷却腔(15)和入口管(2)之间通过隔绝管(4)密封，所述出水管(12)和进水管(13)分别设在外管(5)壁上方和下方且和冷却腔(15)相通,所述下法兰(8)的侧面安装有与内管(6)连通的进气管(11)。


2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体废气处理设备的废气反应腔体，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：章文军，杨春水，宁腾飞，陈彦岗，杨春涛，王继飞，张坤，闫萧，蔡传涛，席涛涛，王磊，
申请(专利权)人：安徽京仪自动化装备技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34