【技术实现步骤摘要】
激光转折装置、激光加工光路系统及光路调试方法
本申请涉及激光加工
,具体而言,涉及一种激光转折装置、激光加工光路系统及光路调试方法。
技术介绍
随着激光加工技术的发展和应用领域扩展,激光加工设备的一致性和稳定性有了更高的要求。激光光路系统是设备的核心功能部件,需要从结构设计和调试方法上综合考虑,获得能量和形状分布均匀的聚焦光斑,以实现优良的加工品质。现有的多维角度光学调节座,一般应用在实验室,调节方便。但应用在工业化生产设备上,受环境温度、电机振动等因素影响,调节座的移动机构易产生变化,稳定性不佳。另外,受设备空间结构限制,标准外购的光学调节座安装方式不灵活,不利于设备集成。
技术实现思路
本申请提供了一种激光转折装置、激光加工光路系统及光路调试方法,能够快速便捷地实现激光光束的扩束、转折调节及聚焦,光路调试方法简单,调试精度高,为激光加工设备的工业化生产提供了保障。第一方面,提供了一种激光转折装置,激光转折装置包括镜座基体、转折镜片以及转折调节结构;镜座基体形成有供激光穿过的腔室,镜座基体的外壁形成有分别与腔室连通的光路入口和光路出口,光路入口沿X轴方向设置,光路出口沿Z轴方向设置;转折镜片沿X轴方向设置于腔室内;转折调节结构连接于镜座基体,转折调节结构连接于转折镜片,转折调节结构用于对转折镜片进行位置调节。上述技术方案,通过转折调节结构能够对转折镜片的位置进行调节,调试便捷,并且能够保证转折镜片的稳定性,从而便捷地实现了激光光束的转折调节。结合第一方面,在 ...
【技术保护点】
1.一种激光转折装置,其特征在于,包括:/n镜座基体,所述镜座基体形成有供激光穿过的腔室,所述镜座基体的外壁形成有分别与所述腔室连通的光路入口和光路出口,所述光路入口沿X轴方向设置,所述光路出口沿Z轴方向设置;/n转折镜片,所述转折镜片沿X轴方向设置于所述腔室内;以及/n转折调节结构,所述转折调节结构连接于所述镜座基体,所述转折调节结构连接于所述转折镜片,所述转折调节结构用于对所述转折镜片进行位置调节。/n
【技术特征摘要】
1.一种激光转折装置,其特征在于,包括:
镜座基体,所述镜座基体形成有供激光穿过的腔室,所述镜座基体的外壁形成有分别与所述腔室连通的光路入口和光路出口,所述光路入口沿X轴方向设置,所述光路出口沿Z轴方向设置;
转折镜片,所述转折镜片沿X轴方向设置于所述腔室内;以及
转折调节结构,所述转折调节结构连接于所述镜座基体,所述转折调节结构连接于所述转折镜片,所述转折调节结构用于对所述转折镜片进行位置调节。
2.根据权利要求1所述的激光转折装置,其特征在于:
所述镜座基体的外壁还形成有调节端口;
所述转折调节结构包括固定盘、旋转盘、镜片架、连杆、调节螺丝、紧顶螺丝和固定螺丝;
所述固定盘通过所述固定螺丝连接于所述调节端口,所述固定盘开设有连通于所述腔室的通口;
所述旋转盘连接于所述连杆,所述旋转盘覆盖所述通口,所述转折镜片通过所述镜片架连接于所述旋转盘;
所述镜片架置于所述腔室内,使得所述转折镜片沿X轴方向设置;
所述连杆通过所述调节螺丝沿X轴方向活动连接于所述固定盘,所述旋转盘通过所述紧顶螺丝沿Y轴方向活动连接于所述固定盘。
3.根据权利要求1所述的激光转折装置,其特征在于:
所述激光转折装置包括第一调试工装,所述第一调试工装包括安装架、十字光阑和倍频片;
所述十字光阑和所述倍频片间隔连接于所述安装架,所述安装架连接于所述光路入口,使得所述激光沿X轴方向依次通过所述十字光阑、所述倍频片后从所述光路入口进入所述腔室。
4.一种激光加工光路系统,其特征在于:
所述激光加工光路系统包括权利要求1-3中任意一项所述的激光转折装置;
所述激光加工光路系统还包括加工基座、激光扩束准直装置、激光聚焦装置和同轴调节装置;
所述镜座基体通过转接板连接于所述加工基座;
所述激光扩束准直装置连接于所述加工基座,所述激光扩束准直装置和所述激光转折装置沿X轴方向间隔设置,所述激光扩束准直装置用于发射激光并对激光进行准直扩束;
所述激光聚焦装置连接于所述加工基座,所述激光聚焦装置用于将由所述光路出口射出的激光聚焦成加工用的微细光斑;
所述同轴调节装置沿Z轴方向连接于所述激光转折装置,所述同轴调节装置连通于所述腔室,所述同轴调节装置用于识别对位加工标记以及辅助调节激光光路。
5.根据权利要求4所述的激光加工光路系统,其特征在于:
所述激光扩束准直装置包括激光器、扩束镜和第一调试工装;
所述第一调试工装包括安装架、十字光阑和倍频片,所述十字光阑和所述倍频片间隔连接于所述安装架;
所述激光器连接于所述加工基座,所述扩束镜连接于所述激光器出口,所述安装架连接于所述扩束镜;
所述激光器、所述扩束镜、所述第一调试工装以及所述激光转折装置沿X轴方向依次设置。...
【专利技术属性】
技术研发人员:高爱梅,李星辰,武震,郑佳晶,
申请(专利权)人:北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所,
类型:发明
国别省市:北京;11
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