The utility model discloses a multi chamber plasma etching machine, which comprises a chamber, a vacuum device and an etching device, as well as a horizontal transmission device. The horizontal transmission device is located on the bottom surface of the chamber and extends to both sides of the chamber. The two sides of the chamber are provided with chamber doors, which are separated into feed buffer chambers, process chambers and The feeding buffer cavity, the processing cavity and the discharging buffer cavity are respectively equipped with the vacuum devices; the processing cavity is equipped with a station on which the etching device is installed. This new multi chamber plasma etching machine can save the process of repeated manual operation in the etching process and effectively improve the production efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种多腔室等离子刻蚀机
本技术属于太阳能光伏组件领域,具体涉及一种多腔室等离子刻蚀机。
技术介绍
等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,也是太阳能光伏组件生产过程中的一种常用工艺,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或刻蚀表面。进行干式刻蚀工艺的等离子刻蚀机包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应,反应的挥发性副产物被真空泵抽走。目前常规等离子刻蚀机为单腔室设计,每次运行工艺时,将硅片夹具放入腔室内,腔室内需要抽真空才能进行刻蚀,当当前硅片刻蚀完成后,将当前硅片从腔室中移出,放入下一片硅片后,需要再次进行抽真空,对两片硅片进行刻蚀操作之间需要间隔较长时间,因此现有的等离子刻蚀机,生产效率低下,且人力成本较高,为实际生产带来不便。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题,就是提供一种能够提高生产效率的多腔室等离子刻蚀机。解决上述技术问题,本技术采用的技术方案如下:一种新型多腔室等离子刻蚀机,包括腔室、真空装置和刻蚀装置,其中,还包括水平传输装置,所述的水平传输装置位于所述腔室的底面,并延伸至所述腔室两侧;所述腔室的两侧面设有腔室门,所述的腔室通过隔门分隔成依次排列的进料缓冲腔、工艺腔和出料缓冲腔,所述的进料缓冲腔、工艺腔和出料缓冲腔分别安装有 ...
【技术保护点】
1.一种多腔室等离子刻蚀机,包括腔室、真空装置和刻蚀装置,其特征在于,还包括水平传输装置,所述的水平传输装置位于所述腔室的底面,并延伸至所述腔室两侧;/n所述腔室的两侧面设有腔室门,所述的腔室通过隔门分隔成依次排列的进料缓冲腔、工艺腔和出料缓冲腔,所述的进料缓冲腔、工艺腔和出料缓冲腔分别安装有所述的真空装置;所述的工艺腔中设有工位,所述工位上安装所述的刻蚀装置。/n
【技术特征摘要】
1.一种多腔室等离子刻蚀机,包括腔室、真空装置和刻蚀装置,其特征在于,还包括水平传输装置,所述的水平传输装置位于所述腔室的底面,并延伸至所述腔室两侧;
所述腔室的两侧面设有腔室门,所述的腔室通过隔门分隔成依次排列的进料缓冲腔、工艺腔和出料缓冲腔,所述的进料缓冲腔、工艺腔和出料缓冲腔分别安装有所述的真空装置;所述的工艺腔中设有工位,所述工位上安装所述的刻蚀装置。
2.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:马立,蒋秀林,汤海洋,
申请(专利权)人:晶澳扬州太阳能科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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